液晶面板及其制作方法技术

技术编号:20423764 阅读:72 留言:0更新日期:2019-02-23 08:02
本发明专利技术公开了一种液晶面板及其制作方法;液晶面板包括彩膜基板;阵列基板,与所述彩膜基板相对设置;以及内置偏光片,包括基板,覆于所述彩膜基板朝向所述阵列基板的一面;第一无机层,覆于所述基板上;金属线栅层,覆于所述第一无机层上,所述金属线栅层中具有若干相互平行的金属线;第二无机层,具有若干条相互平行的无机线;每一所述无机线对应的覆于一所述金属线上。本发明专利技术的液晶面板及其制作方法,将内置偏光片的制程设置在彩膜基板的制程之前进行,以降低制程的难度;有效解决了由量子点彩膜基板发出的光无法进行光的通断的控制的问题。

【技术实现步骤摘要】
液晶面板及其制作方法
本专利技术涉及显示器等领域,具体为一种液晶面板及其制作方法。
技术介绍
薄膜晶体管液晶显示器(ThinFilmTransistor-LCD,TFT-LCD)近年来得到了飞速的发展和广泛的应用。现有市场上的液晶显示装置大部分为背光型液晶显示装置,其包括液晶显示面板及背光模组(backlightmodule)。通常液晶显示面板由彩膜(ColorFilter,CF)基板、薄膜晶体管(ThinFilmTransistor,TFT)基板、夹于彩膜基板与薄膜晶体管基板之间的液晶(LiquidCrystal,LC)及密封框胶(Sealant)组成;其工作原理是通过在两片玻璃基板上施加驱动电压来控制液晶层的液晶分子的旋转,将背光模组的光线折射出来产生画面。随着人们对显示面板的用户体验的更高追求,开发和生产更高色域更高亮度的显示器成为各家面板厂竞相追逐的目标。目前已经量产的基于量子点的背光源技术,可以使LCD实现110%NTSC色域。远高于传统LCD显示器的90%-100%NTSC色域水准。而直接将量子点应用在彩膜基板中则可以进一步提升色域至大于90%BT2020。在色域和色纯度上均较现有的OLED显示面板更优。然而由于量子点材料是自发光材料,由其发出的光即使在液晶面板外贴加偏光片也无法实现光的通断。现有方案中,也有提出一种通过纳米压印技术,在彩膜基板内制备线栅偏光片的方法以解决当前量子点彩膜基板无法进行光通断的难题。但是,在实际制程中,仍然存在一定的困难:一般情况下,在纳米压印的偏光片的制程中,对于金属线栅中的金属线的高度以及金属线之间的间距具有一定的要求,因此,这就要求在进行纳米压印之前其基底层必须足够平整。现有的纳米压印金属线栅是安排在制作彩膜基板的黄光制程之后进行的,但是黄光制程后的平坦度要达到纳米级是非常困难的。
技术实现思路
为了解决上述技术问题:本专利技术提供一种液晶面板及其制作方法,通过增加一薄化的基板以确保纳米压印之前基底足够平整,降低纳米压印难度;同时将内置偏光片的制程设置在彩膜基板的制程之前进行,以降低制程的难度。解决上述技术问题的技术方案是:提供一种液晶面板,包括彩膜基板;阵列基板,与所述彩膜基板相对设置;以及内置偏光片,包括基板,覆于所述彩膜基板朝向所述阵列基板的一面;第一无机层,覆于所述基板上;金属线栅层,覆于所述第一无机层上,所述金属线栅层中具有若干相互平行的金属线;第二无机层,具有若干条相互平行的无机线;每一所述无机线对应的覆于一所述金属线上。在本专利技术一实施例中,所述基板所用材料为聚酰亚胺或玻璃;所述基板的厚度为0.1-1mm。在本专利技术一实施例中,所述彩膜基板包括量子点彩色滤光片,设于所述基板远离所述第一无机层的一侧;以及封装层,覆于所述量子点彩色滤光片上;所述封装层对水汽和氧气的透过率小于1×10-2。在本专利技术一实施例中,所述的液晶面板还包括液晶层,设于所述阵列基板与所述彩膜基板之间;以及间隔物层,设于所述内置偏光片朝向所述阵列基板的一侧。在本专利技术一实施例中,所述金属线栅层的高度为180-250nm,相邻两根所述金属线之间的间距为60-80nm。在本专利技术一实施例中,所述金属线栅层的材料包括铝、铜、银、铬、金及镍中的至少一种;所述第一无机层和第二无机层所用材料为材料分别包括氧化硅、氮化硅、氧化铝、氮氧化硅及氧化铪中的一种或多种。本专利技术还提供了一种液晶面板的制作方法,包括以下步骤:制作内置偏光片,包括以下步骤:提供一基板;沉积第一无机层于所述基板的一面;沉积金属线栅层于所述第一无机层上;沉积第二无机层于所述金属线栅层上;涂布形成一层光阻层于第二无机层上;提供纳米压印模板,采用所述纳米压印模板纳米压印所述光阻层,由所述光阻层得到光阻图案,所述光阻图案具有并列间隔的多条光阻条;以所述光阻图案为遮蔽层,蚀刻所述第二无机层和金属线栅层,对应的所述多条光阻条在所述金属线栅层上和第二无机层上分别蚀刻出多条并列间隔的金属线和多条并列间隔的无机线,去除所述光阻图案,所述基板、所述金属线栅层和所述金属线栅层两侧的所述第一无机保护层、所述第二无机保护层共同构成内置偏光片;提供阵列基板,并组装所述阵列基板和所述内置偏光片,其中所述第二无机层朝向所述阵列基板;制作彩膜基板于所述内置偏光片的所述基板上。在本专利技术一实施例中,在制作内置偏光片步骤中,还包括薄化处理所述基板,使所述基板的厚度在0.1-1mm之间。在本专利技术一实施例中,在组装所述阵列基板和所述内置偏光片的步骤中,包括:在所述第二无机层朝向所述阵列基板的一侧形成间隔物层。在本专利技术一实施例中,在制作彩膜基板步骤中,包括制作量子点彩色滤光片于所述基板远离所述第一无机层的一侧;制作封装层于所述量子点彩色滤光片上,所述封装层对水汽和氧气的透过率应小于1×10-2;在制作彩膜基板步骤之后,还包括以下步骤:填充液晶于所述彩膜基板与所述阵列基板之间,形成液晶层;制作量子点彩色滤光片于所述基板远离所述第一无机层的一侧。本专利技术的有益效果是:本专利技术的液晶面板及其制作方法,通过增设一玻璃基板或聚酰亚胺基板作为基板,直接在基板上制作金属线栅层等,与基板一同形成内置偏光片,有效的降低了纳米压印的难度;改变了现有的内置偏光片在液晶面板中的位置,直接将彩膜基板制作在内置偏光片的基板上,将内置偏光片的制程设置在彩膜基板的制程之前进行,以降低制程的难度;有效解决了由量子点彩膜基板发出的光无法进行光的通断的控制的问题。附图说明下面结合附图和实施例对本专利技术作进一步解释。图1是本专利技术实施例的液晶面板结构图。图2至图5是本专利技术实施例的内置偏光片制作过程中对应各步骤的层状结构图。图6是本专利技术实施例的液晶面板制作方法的步骤流程图。图7是本专利技术实施例的内置偏光片制作方法的一种步骤流程图。图8是本专利技术实施例的内置偏光片制作方法的另一种步骤流程图。其中,1液晶面板;10彩膜基板;20内置偏光片;30液晶层;40间隔物层;50阵列基板;110黑色矩阵层;120量子点彩色滤光片;130封装层;210基板;220第一无机层;230金属线栅层;240第二无机层;231金属线;241无机线;6光阻层;60光阻图案;610光阻条;7纳米压印模板。具体实施方式以下实施例的说明是参考附加的图式,用以例示本专利技术可用以实施的特定实施例。本专利技术所提到的方向用语,例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「顶」、「底」等,仅是参考附加图式的方向。因此,使用的方向用语是用以说明及理解本专利技术,而非用以限制本专利技术。如图1所示,本实施例还提供了一种液晶面板1,包括彩膜基板10、内置偏光片20、液晶层30、间隔物层40、阵列基板50。其中,所述彩膜基板10与所述彩膜基板10相对设置。如图5所示,所述内置偏光片20包括基板210、第一无机层220、金属线栅层230、第二无机层240。所述基板210所用材料为聚酰亚胺或玻璃,即所述基板210为聚酰亚胺基板或玻璃基板;所述基板210的厚度为0.1-1mm。所述第一无机层220覆于所述基板210上;所述第一无机层220所用材料为材料分别包括氧化硅、氮化硅、氧化铝、氮氧化硅及氧化铪中的一种或多种。本实施例中,所述第一无机层220所用材料选择氧化硅。所述金属线栅层230覆于本文档来自技高网
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【技术保护点】
1.一种液晶面板,其特征在于,包括彩膜基板;阵列基板,与所述彩膜基板相对设置;以及内置偏光片,包括基板,覆于所述彩膜基板朝向所述阵列基板的一面;第一无机层,覆于所述基板上;金属线栅层,覆于所述第一无机层上,所述金属线栅层中具有若干相互平行的金属线;第二无机层,具有若干条相互平行的无机线;每一所述无机线对应的覆于一所述金属线上。

【技术特征摘要】
1.一种液晶面板,其特征在于,包括彩膜基板;阵列基板,与所述彩膜基板相对设置;以及内置偏光片,包括基板,覆于所述彩膜基板朝向所述阵列基板的一面;第一无机层,覆于所述基板上;金属线栅层,覆于所述第一无机层上,所述金属线栅层中具有若干相互平行的金属线;第二无机层,具有若干条相互平行的无机线;每一所述无机线对应的覆于一所述金属线上。2.根据权利要求1所述的液晶面板,其特征在于,所述基板所用材料为聚酰亚胺或玻璃;所述基板的厚度为0.1-1mm。3.根据权利要求1所述的液晶面板,其特征在于,所述彩膜基板包括量子点彩色滤光片,设于所述基板远离所述第一无机层的一侧;以及封装层,覆于所述量子点彩色滤光片上;所述封装层对水汽和氧气的透过率小于1×10-2。4.根据权利要求1所述的液晶面板,其特征在于,还包括液晶层,设于所述阵列基板与所述彩膜基板之间;以及间隔物层,设于所述内置偏光片朝向所述阵列基板的一侧。5.根据权利要求1所述的液晶面板,其特征在于,所述金属线栅层的高度为180-250nm,相邻两根所述金属线之间的间距为60-80nm。6.根据权利要求1所述的液晶面板,其特征在于,所述金属线栅层的材料包括铝、铜、银、铬、金及镍中的至少一种;所述第一无机层和第二无机层所用材料为材料分别包括氧化硅、氮化硅、氧化铝、氮氧化硅及氧化铪中的一种或多种。7.一种液晶面板的制作方法,其特征在于,包括以下步骤:制作内置偏光片,包括以下步骤:提供一基板;沉积第一无机层于所述基板的一面;沉积金属线栅层于所述第...

【专利技术属性】
技术研发人员:杨超群黄长治
申请(专利权)人:武汉华星光电技术有限公司
类型:发明
国别省市:湖北,42

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