The invention provides a low foam and high efficiency water-based cleaning agent and a cleaning method, which is made of raw materials with the following mass percentages: surfactant 6%~12%; corrosion inhibitor 0%~0.1%; defoamer 0%~0.05%; residual amount of deionized water; nonionic surfactant is aliphatic alcohol polyoxyethylene ether, tween 20, alkyl phenol polyoxyethylene 9 ether, one or two or three kinds of triethanolamine, or Four kinds of cationic surfactants are mixed with mass ratios greater than 0% respectively. Cationic surfactants are either cetyl trimethyl ammonium chloride, tetradecyl trimethyl ammonium chloride or dodecyl trimethyl ammonium chloride, or either of them is mixed with mass ratios greater than 0% respectively. The cleaning agent combined with the cleaning process can effectively remove the surface residue of the rosin type flux after welding, the solder joints remain bright, and the surface insulation performance is good; the cleaning process is low volatile, does not produce harmful substances and affects the health of the workers, and there is almost no foam in the cleaning process.
【技术实现步骤摘要】
一种低泡高效水基清洗剂及清洗方法
本专利技术属于电路焊接组装焊后清洗剂制造领域,涉及到一种低泡高效水基清洗剂及清洗工艺方法。尤其涉及适用于电子产品的焊后产品清洗的清洗剂,特别是在表面组装技术。
技术介绍
SMT是目前电子组装行业里最为流行的一种技术,主要是将SMC/SMD通过回流焊或浸焊等方法加以焊接组装在PCB的表面或者其他基板的表面上。纵观整个电子行业的发展周期,虽然中国的SMT产业处于发展初期,但早已步入正轨,且呈现出蓬勃发展的态势。随着对电子产品小型化和精密化,锡焊后的元器件引脚上不可避免的会残留助焊剂、钎剂、锡膏等残留物或者其他外来污染物,不仅会使产品可靠性变差,而且可能会导致后期出现短路,腐蚀等引起电气故障。目前采用的清洗剂主要是由醇类,酮类,烷烃类,脂类等低闪点,低沸点的溶剂组成,此类清洗剂在清洗后残留物较少,但其成本较高、易燃易爆、挥发性大等,对工作人员的身体健康会产生危害,此外,低碳类的醇会因为吸水性强而出现清洗的表面出现发白现象,影响产品的美观。如今国内研发的清洗剂品种繁多,其“水基”最为亮点,按照水的含量可分为半水基清洗剂和水基清洗剂,其中水基清洗剂还可按照酸碱性可分为碱性清洗剂、中性清洗剂、碱性清洗剂。虽然基本上都能满足清洗要求,但一方面,大多数清洗剂对钎料及助焊剂的种类依赖性强,清洗范围有限,稳定性差,易挥发且对人体健康有害。另一方面,大多数清洗剂制备方法繁琐,有的需要引进其他辅助设备,且清洗剂的成分复杂,对焊点会产生腐蚀,在清洗过程中会产生大量气泡,无法用于全自动化清洗和超声波清洗。现有技术中,如CN107474973A专利中公 ...
【技术保护点】
1.一种低泡高效水基清洗剂,其特征在于:由以下质量百分比的原料制成:表面活性剂:6%~12%;缓蚀剂: 0%~0. 1%;消泡剂: 0%~0.05%;余量为去离子水;各成分重量之和为100%。
【技术特征摘要】
1.一种低泡高效水基清洗剂,其特征在于:由以下质量百分比的原料制成:表面活性剂:6%~12%;缓蚀剂:0%~0.1%;消泡剂:0%~0.05%;余量为去离子水;各成分重量之和为100%。2.根据权利要求1所述的低泡高效水基清洗剂,其特征在于:所述表面活性剂为非离子表面活性剂、阳离子表面活性剂与双子星非离子型表面活性剂复配而成,其中非离子表面活性剂占总重量的50%~69%;阳离子表面活性剂占总重量的30%~49%;双子星非离子型表面活性剂占总重量的1%~20%。3.根据权利要求2所述的低泡高效水基清洗剂,其特征在于:所述非离子表面活性剂为脂肪醇聚氧乙烯醚,吐温20,烷基酚聚氧乙烯9醚,三乙醇胺中的任一种或两种以各自大于0%的质量比混合,或任三种以各自大于0%的质量比混合,或四种以各自大于0%的质量比混合;所述阳离子表面活性剂是:十六烷基三甲基氯化铵、十四烷基三甲基氯化铵、十二烷基三甲基氯化铵中的任一种,或两种以各自大于0%的质量比混合,或任三种以各自大于0%的质量比混合;所述双子星非离子型表面活性剂由一种简单的环醚与Surfynol104按照一定质量百分比加合而成,其中简单的环醚质量占比为加合物总质量的50%-69%,Surfynol104为余量。4.根据权利要求3所述的低泡高效水基清洗剂...
【专利技术属性】
技术研发人员:甘贵生,曹华东,刘歆,夏大权,蒋刘杰,田谧哲,甘树德,蒋妮,吴应雪,
申请(专利权)人:重庆理工大学,
类型:发明
国别省市:重庆,50
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