自清扫真空管路系统技术方案

本实用新型专利技术提供了一种自清扫真空管路系统，包括：真空泵、真空管路、第一开关、清洗气体供给源、清洗管路、第二开关、真空控制装置及清洗控制装置。本实用新型专利技术可实现对真空管路的定期自清扫，避免了真空管路因颗粒物累积而堵塞，防止设备因真空管路中颗粒物堵塞而出现异常，同时也节省了设备维护成本。

【技术实现步骤摘要】
自清扫真空管路系统
本技术涉及半导体制造领域，特别是涉及一种自清扫真空管路系统。
技术介绍
在现今的半导体制造工艺中，半导体制造设备一般使用机械手臂来抓取晶圆。其中一些机械手臂需要依靠真空系统吸附晶圆。在机械手臂抓取晶圆的过程中，粘附在晶圆背面的颗粒物会被吸入真空系统的真空管路中。当吸入真空管路的颗粒物数量累积到一定程度时，就可能堵塞真空管路，造成设备报警，甚至导致晶圆破片。当前，一般依靠维护人员定期维护，人工拆卸并清扫真空管路，这不但耗费人力，也影响了设备产能。因此，针对机械手臂中的真空管路定期清扫的应用需求，有必要提出一种新的自清扫真空管路系统，以解决上述问题。
技术实现思路
鉴于以上所述现有技术的缺点，本技术的目的在于提供一种新的自清扫真空管路系统，用于解决现有技术中机械手臂中的真空管路因颗粒累积而堵塞的问题。为实现上述目的及其它相关目的，本技术提供一种自清扫真空管路系统，其特征在于，包括：真空泵；真空管路，一端与所述真空泵相连接，另一端延伸至机械手臂的抓取端；第一开关，位于所述真空管路上；清洗气体供给源；清洗管路，一端与所述清洗气体供给源相连接，另一端与所述真空管路相连通；所述清洗管路与所述真空管路相连通的连接处位于所述第一开关远离所述真空泵的一侧；第二开关，位于所述清洗管路上；在机台端的所述机械手臂停止工作后控制所述第一开关关闭，并在所述机械手臂停止工作预定时间时发出反馈信号的真空控制装置，与所述第一开关及所述机台端相连接；接收所述真空控制装置反馈的信号后控制所述第二开关工作的清洗控制装置，与所述真空控制装置及所述第二开关相连接。作为本技术的一种优选方案，所述自清洗真空管路系统还包括压力侦测单元，所述压力侦测单元与所述真空管路相连通。作为本技术的一种优选方案，所述清洗气体供给源包括清洁干燥空气供给源、氮气供给源或惰性气体供给源。作为本技术的一种优选方案，所述自清扫真空管路系统还包括三通连接头，所述清洗管路经由所述三通连接头与所述真空管路相连通。作为本技术的一种优选方案，所述真空控制装置包括：接收所述机械手臂停止工作信号的第一接收单元，与所述机台端相连接；在机台端的所述机械手臂停止工作后控制所述第一开关关闭的第一控制单元，与所述第一接收单元及所述第一开关相连接；设定所述预定时间，并将所述机械手臂实际停止工作时间与所述预定时间进行比对的设定比对单元，与所述第一接收单元相连接；在所述机械手臂停止工作预定时间时向所述清洗控制装置发出反馈信号的反馈单元，与所述设定比对单元及所述清洗控制装置相连接。作为本技术的一种优选方案，所述清洗控制装置包括：接收所述反馈单元发出的反馈信号的第二接收单元，与所述反馈单元相连接；控制所述第二开关工作的第二控制单元，与所述第二接收单元及所述第二开关相连接。如上所述，本技术提供一种自清扫真空管路系统，具有以下有益效果：本技术引入了一种自清扫真空管路系统，通过对真空管路进行定期清扫，避免了真空管路因颗粒物累积而堵塞，防止设备因真空管路中颗粒物堵塞而出现异常，同时也节省了设备维护成本。附图说明图1显示为本技术实施例中提供的自清扫真空管路系统的示意图。图2显示为本技术实施例中提供的自清扫真空管路系统的在机械手臂上的局部结构示意图。元件标号说明101真空泵102真空管路103机械手臂103a抓取端103b真空吸盘104第一开关105清洗气体供给源106清洗管路107第二开关108机台端109真空控制装置109a第一接收单元109b第一控制单元109c比对单元109d反馈单元110清洗控制装置110a第二接收单元110b第二控制单元111压力侦测单元112三通连接头113a第一连接节点113b第二连接节点113c第三连接节点具体实施方式以下通过特定的具体实例说明本技术的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本技术的其它优点与功效。本技术还可以通过另外不同的具体实施方式加以实施或应用，本说明书中的各项细节也可以基于不同观点与应用，在没有背离本技术的精神下进行各种修饰或改变。请参阅图1至图2。需要说明的是，本实施例中所提供的图示仅以示意方式说明本技术的基本构想，虽图示中仅显示与本技术中有关的组件而非按照实际实施时的组件数目、形状及尺寸绘制，其实际实施时各组件的形态、数量及比例可为一种随意的改变，且其组件布局形态也可能更为复杂。请参阅图1至图2，本技术提供了一种自清扫真空管路系统，包括：真空泵101；真空管路102，一端与所述真空泵101相连接，另一端延伸至机械手臂103的抓取端103a；第一开关104，位于所述真空管路102上；清洗气体供给源105；清洗管路106，一端与所述清洗气体供给源105相连接，另一端与所述真空管路102相连通；所述清洗管路106与所述真空管路102相连通的连接处位于所述第一开关104远离所述真空泵101的一侧；第二开关107，位于所述清洗管路106上；在机台端108的所述机械手臂103停止工作后控制所述第一开关104关闭，并在所述机械手臂103停止工作预定时间时发出反馈信号的真空控制装置109，与所述第一开关104及所述机台端108相连接；接收所述真空控制装置109反馈的信号后控制所述第二开关107工作的清洗控制装置110，与所述真空控制装置109及所述第二开关107相连接。如图1所示是本技术提供的一种自清扫真空管路系统，图2是所述自清扫真空管路系统在所述机械手臂103上的局部结构示意图。所述真空管路102的一端连接所述真空泵101，另一端连接至所述机械手臂103上的所述抓取端103a。通过所述真空泵101抽真空在所述真空管路102内部维持真空负压。在所述机械手臂103工作时，位于所述抓取端103a上的真空吸盘103b可以通过所述真空管路102所提供的真空负压对晶圆背面进行吸附，从而实现对所述晶圆的固定和抓取。所述第一开关104位于所述真空管路102上，通过所述第一开关104的开启和关闭可以控制所述真空泵101是否连通所述真空管路102。优选地，当所述机械手臂103停止工作时，可控制所述第一开关104关闭，所述真空管路102内部不再维持真空状态。当所述机械手臂103在抓取所述晶圆时，所述晶圆背面带有的颗粒物会掉落并吸入所述真空管路102中，当所述颗粒物随时间累积到一定量时，就可能堵塞所述真空管路102。通过引入所述清洗管路106并通过清洗气体对所述真空管路102进行定期清扫，可以防止所述颗粒物堵塞所述真空管路102。所述清洗管路106的一端与所述清洗气体供给源105相连接，另一端与所述真空管路102相连通。通过清洗管路106，向所述真空管路102供给所述清洗气体，以实现对所述真空管路102的清扫。所述清洗管路106与所述真空管路102相连通的连接处位于所述第一开关104远离所述真空泵101的一侧。即所述连接处位于所述第一开关104和所述抓取端103a之间。作为优选方案，所述连接处应靠近所述第一开关104设置，使清扫范围尽可能多地覆盖到所述第一开关104和所述抓取端103a之间的所述真空管路。所述第二开关107位于所述清洗管路106上，通过开启和关闭所本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种自清扫真空管路系统，其特征在于，包括：真空泵；真空管路，一端与所述真空泵相连接，另一端延伸至机械手臂的抓取端；第一开关，位于所述真空管路上；清洗气体供给源；清洗管路，一端与所述清洗气体供给源相连接，另一端与所述真空管路相连通；所述清洗管路与所述真空管路相连通的连接处位于所述第一开关远离所述真空泵的一侧；第二开关，位于所述清洗管路上；在机台端的所述机械手臂停止工作后控制所述第一开关关闭，并在所述机械手臂停止工作预定时间时发出反馈信号的真空控制装置，与所述第一开关及所述机台端相连接；接收所述真空控制装置反馈的信号后控制所述第二开关工作的清洗控制装置，与所述真空控制装置及所述第二开关相连接。

【技术特征摘要】
1.一种自清扫真空管路系统，其特征在于，包括：真空泵；真空管路，一端与所述真空泵相连接，另一端延伸至机械手臂的抓取端；第一开关，位于所述真空管路上；清洗气体供给源；清洗管路，一端与所述清洗气体供给源相连接，另一端与所述真空管路相连通；所述清洗管路与所述真空管路相连通的连接处位于所述第一开关远离所述真空泵的一侧；第二开关，位于所述清洗管路上；在机台端的所述机械手臂停止工作后控制所述第一开关关闭，并在所述机械手臂停止工作预定时间时发出反馈信号的真空控制装置，与所述第一开关及所述机台端相连接；接收所述真空控制装置反馈的信号后控制所述第二开关工作的清洗控制装置，与所述真空控制装置及所述第二开关相连接。2.根据权利要求1所述的自清扫真空管路系统，其特征在于，所述自清洗真空管路系统还包括压力侦测单元，所述压力侦测单元与所述真空管路相连通。3.根据权利要求1所述的自清扫真空管路系统，其特征在于，所述清洗气体供给源包括清洁干燥空气供给源、氮气供给源或惰性气体供...

【专利技术属性】
技术研发人员：栾剑峰，刘家桦，叶日铨，
申请(专利权)人：德淮半导体有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32