显示基板及其制造方法、显示面板技术

本发明专利技术提供了一种显示基板，所述显示基板包括金属图形，其中，所述显示基板还包括保护图形，所述保护图形设置在所述金属图形的顶面，且所述保护图形与所述金属图形的形状一致，制成所述保护图形的材料包括含氧量低于预定值的无机非金属材料。本发明专利技术还提供了显示基板的制造方法、以及包括所述显示基板的显示面板，所述显示基板的所述金属图形中金属线不会断开，且所述金属图形不会被氧化。

【技术实现步骤摘要】
显示基板及其制造方法、显示面板
本专利技术涉及显示
，具体地，涉及一种显示基板及其制造方法、以及包括所述显示基板的显示面板。
技术介绍
目前铟镓锌氧化物显示基板的结构主要有刻蚀阻挡型和背沟道刻蚀型。其中，所述背沟道刻蚀型与所述背沟道刻蚀型相比节省一道掩膜工艺，制程上相对简单，因此被行业广泛采用。具体地，在背沟道刻蚀型中，由于铜具有相对较低的电阻，因此行业内广泛采用铜作为源漏极金属层，考虑到铜扩散问题，因此在有源层与所述源漏极金属层之间设置有源漏极底层保护层，进一步地，考虑到铜被氧化的问题，因此需要在所述源漏极金属层上设置源漏极顶层保护层，并且所述保护层均采用金属材料制成。虽然在上述背沟道刻蚀型中，在所述源漏极金属层的上、下侧均设置了保护层，但是所述显示基板仍然存在源漏极同层的金属线容易断开、所述源漏极被氧化的问题。因此，如何设计一种新的显示基板以避免源漏极同层的金属线断开、以及源漏极被氧化成为本领域亟需解决的问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种显示基板及其制造方法、以及包括所述显示基板的显示面板，所述显示基板的所述金属图形中金属线不会断开，且所述金属图形不会被氧化。为了解决上述问题，作为本专利技术第一个方面，提供了一种显示基板，所述显示基板包括金属图形，其中，所述显示基板还包括保护图形，所述保护图形设置在所述金属图形的顶面，且所述保护图形与所述金属图形的形状一致，制成所述保护图形的材料包括含氧量低于预定值的无机非金属材料。优选地，所述金属图形包括沿厚度方向依次设置的保护金属图形和主体金属图形，所述主体金属图形位于所述保护图形和所述保护金属图形之间，制成所述保护金属图形的材料包括钛、钼钛合金和钼铌合金中任意一种或任意几种，制成所述主体金属图形的材料包括铜和/或铝。优选地，所述金属图形包括源极、漏极和数据线，所述保护图形包括源极保护块、漏极保护块和数据线保护块，所述源极保护块覆盖所述源极，且所述源极保护块的形状与所述源极的形状一致，所述漏极保护块覆盖所述漏极，且所述漏极保护块的形状与所述漏极的形状一致，所述数据线保护块覆盖所述数据线，且所述数据线保护块的形状与所述数据线的形状一致。优选地，所述显示基板包括多个薄膜晶体管，每个所述薄膜晶体管都包括有源层、所述源极和所述漏极，在同一个薄膜晶体管中，所述源极覆盖所述有源层的一部分，所述漏极覆盖所述有源层的一部分，所述有源层由氧化物制成，所述显示基板还包括由硅的氧化物制成的钝化层，所述钝化层覆盖所述保护图形和所述有源层位于所述源极和所述漏极之间的部分。优选地，所述无机非金属材料包括非晶硅和/或硅的氮化物。作为本专利技术的第二个方面，提供一种显示面板，所述显示面板包括显示基板，其中，所述显示基板为本专利技术所提供的上述显示基板。作为本专利技术的第三个方面，提供一种显示基板的制造方法，其中，所述制造方法包括：形成金属材料层；形成保护图形，所述保护图形的形状与金属图形的形状一致，所述保护图形的材料包括含氧量低于预定值的无机非金属材料；利用刻蚀液对所述金属材料层进行刻蚀，以获得所述金属图形。优选地，形成保护图形的步骤包括：形成无机非金属材料层；形成光刻胶层；对所述光刻胶层进行曝光显影，获得最终刻蚀阻挡图形，所述最终刻蚀阻挡图形的形状与所述保护图形的形状相匹配；对所述无机非金属材料层进行刻蚀，以获得所述保护图形。优选地，所述金属图形包括源极、漏极和数据线，所述保护图形包括源极保护块、漏极保护块和数据线保护块，所述源极保护块覆盖所述源极，且所述源极保护块的形状与所述源极的形状一致，所述漏极保护块覆盖所述漏极，且所述漏极保护块的形状与所述漏极的形状一致，所述数据线保护块覆盖所述数据线，且所述数据线保护块的形状与所述数据线的形状一致。优选地，所述制造方法还包括在形成金属材料层之前进行的：形成有源图形层，所述有源图形层包括多个有源层，所述有源层由氧化物制成，其中，所述源极覆盖相应的有源层的一部分，所述漏极覆盖相应的有源层的一部分；所述制造方法还包括利用刻蚀液对所述金属材料层进行刻蚀之后进行的：形成钝化层，所述钝化层由硅的氧化物制成，所述钝化层覆盖所述保护图形和所述有源层位于所述源极和所述漏极之间的部分。附图说明附图是用来提供对本专利技术的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的具体实施方式一起用于解释本专利技术，但并不构成对本专利技术的限制。在附图中：图1a至1b为采用现有技术的制造方法得到的显示基板的结构示意图；图2a至2e为采用本专利技术所提供的显示基板制造方法得到的所述显示基板的结构示意图；图3为本专利技术所提供的显示基板的制造方法的流程示意图；图4为图3中步骤S2的具体流程示意图；附图标记说明101：栅极102：栅极绝缘层103：有源层104：保护金属材料层1041：源极保护金属块1042：漏极保护金属块104′：源漏极保护层105：主体金属材料层1051：源极主体1052：漏极主体106：无机非金属材料层1061：源极保护块1062：漏极保护块107：最终刻蚀阻挡图形108：中间刻蚀阻挡图形具体实施方式以下结合附图对本专利技术的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本专利技术，并不用于限制本专利技术。经专利技术的专利技术人反复研究发现，现有技术中，虽然在所述源漏极金属层的上、下侧均设置了保护层，但是所述显示基板仍然存在源漏极金属线容易断开、所述源漏极被氧化的问题的原因在于：设置在所述源漏极顶层的保护层采用金属材料制成，具体地，源漏金属层为钼铌合金/铜/钼铌合金三层结构时，光刻胶形成掩膜图形直接与顶层的钼铌合金粘合。由于刻蚀液对顶层钼铌合金的横向刻蚀速率较大，且光刻胶与顶层钼铌合金之间的结合强度较小，使得顶层保护层容易被钻刻，形成如图1a、1b所示的源漏极保护层104′的结构，进而影响源漏金属层刻蚀坡度角，使得源漏金属线(数据线、栅线等)容易断开；此外，在刻蚀过程中，由于钼铌合金与现有光刻胶的粘附性能较差，因此光刻胶脱落的风险大，光刻胶脱落也会导致源漏金属线断开。有鉴于此，作为本专利技术第一个方面，提供了一种显示基板，所述显示基板包括金属图形，其中，所述显示基板还包括保护图形，所述保护图形设置在所述金属图形的顶面，且所述保护图形与所述金属图形的形状一致，制成所述保护图形的材料包括含氧量低于预定值的无机非金属材料。在形成本专利技术所提供的显示基板中的金属图形时，首先形成金属材料层，然后再金属材料层上形成所述保护图形，最后利用刻蚀液对形成有所述保护图形的金属材料层进行湿法刻蚀，以获得所述金属图形。由于制成所述保护图形的材料包括含氧量低于预定值的无机非金属材料，因此所述保护图形不与所述刻蚀液发生反应。无机非金属材料本身比较致密，可以与金属材料层形成紧密的结合，因此，在进行湿法刻蚀时，可以对保护图形与金属材料层的界面处的材料进行很好的保护，可以降低甚至消除采用湿法刻蚀形成所述金属图形时产生的钻刻现象，并保证金属图形不会出现因钻刻而造成的断线现象。除此之外，在形成了所述金属图形后，需要对所述显示基板进行后续的化学气相沉积工艺(例如，文中下将提到的形成钝化层的工艺)，由于所保护图形的材料为无机非金属材料，因此，在后续的化学气相沉积的过程中，无机非金属材料不会挥发，进而不会对化学气相本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示基板，所述显示基板包括金属图形，其特征在于，所述显示基板还包括保护图形，所述保护图形设置在所述金属图形的顶面，且所述保护图形与所述金属图形的形状一致，制成所述保护图形的材料包括含氧量低于预定值的无机非金属材料。

【技术特征摘要】
1.一种显示基板，所述显示基板包括金属图形，其特征在于，所述显示基板还包括保护图形，所述保护图形设置在所述金属图形的顶面，且所述保护图形与所述金属图形的形状一致，制成所述保护图形的材料包括含氧量低于预定值的无机非金属材料。2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述金属图形包括沿厚度方向依次设置的保护金属图形和主体金属图形，所述主体金属图形位于所述保护图形和所述保护金属图形之间，制成所述保护金属图形的材料包括钛、钼钛合金和钼铌合金中任意一种或任意几种，制成所述主体金属图形的材料包括铜和/或铝。3.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述金属图形包括源极、漏极和数据线，所述保护图形包括源极保护块、漏极保护块和数据线保护块，所述源极保护块覆盖所述源极，且所述源极保护块的形状与所述源极的形状一致，所述漏极保护块覆盖所述漏极，且所述漏极保护块的形状与所述漏极的形状一致，所述数据线保护块覆盖所述数据线，且所述数据线保护块的形状与所述数据线的形状一致。4.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板包括多个薄膜晶体管，每个所述薄膜晶体管都包括有源层、所述源极和所述漏极，在同一个薄膜晶体管中，所述源极覆盖所述有源层的一部分，所述漏极覆盖所述有源层的一部分，所述有源层由氧化物制成，所述显示基板还包括由硅的氧化物制成的钝化层，所述钝化层覆盖所述保护图形和所述有源层位于所述源极和所述漏极之间的部分。5.根据权利要求1至4中任意一项所述的显示基板，其特征在于，所述无机非金属材料包括非晶硅和/或硅的氮化物。6.一种显示面板，所述显示面板包括显...

【专利技术属性】
技术研发人员：林滨，崔大林，刘正，李梁梁，陈周煜，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，福州京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11