用于晶圆干燥装置的推梢以及晶圆干燥装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种用于晶圆干燥装置的推梢以及一种晶圆干燥装置。所述推梢为柱形，顶部具有凹陷部，用于放置晶圆；当晶圆放置于所述推梢顶部时，所述晶圆表面与凹陷部的长度方向平行，晶圆的部分边缘位于所述凹陷部内。所述用于晶圆干燥装置的推梢能够避免晶圆自推梢顶部滑落。

【技术实现步骤摘要】
用于晶圆干燥装置的推梢以及晶圆干燥装置
本专利技术涉及半导体
，尤其涉及一种用于晶圆干燥装置的推梢以及晶圆干燥装置。
技术介绍
大规模集成电路生产过程中，晶圆需要进行多道工艺加工。许多工艺完成后，晶圆要进行清洗和干燥，才能使晶圆进入下一道工艺加工。干燥是很多加工工艺中的最后一道工序，晶圆干燥的效果直接影响产品的产率和良率。现有技术中，晶圆通常通过异丙醇(IPA)进行干燥，浸入盛有IPA的干燥装置中，通过异丙醇对晶圆表面脱水，使晶圆干燥。所述干燥装置底部设置有推梢，晶圆垂直置于所述推梢顶部，由马达驱动推梢上升从而推动晶圆上升，同时在IPA的作用下对晶圆进行干燥。现有技术中，晶圆很容易从推梢顶部滑落，容易导致晶圆碎片等风险。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是，提供一种用于晶圆干燥装置的推梢以及晶圆干燥装置。为解决上述问题，本专利技术提供一种用于晶圆干燥装置的推梢，所述推梢为柱形，顶部具有凹陷部，用于放置晶圆；当晶圆放置于所述推梢顶部时，所述晶圆表面与凹陷部的长度方向平行，晶圆的部分边缘位于所述凹陷部内。可选的，所述凹陷部的底部为弧形，所述弧形的曲率半径与所述晶圆的半径相同。可选的，所述凹陷部的顶部宽度大于底部宽度。可选的，所述凹陷部具有侧壁倾斜。可选的，所述凹陷部的侧壁的倾斜角度为15°～60°。可选的，所述凹陷部在垂直于长度方向上的横截面为V字形。所述凹陷部在垂直于长度方向上的横截面为U字形。本专利技术的技术方案还提供一种晶圆干燥装置，包括：上述任一项所述的推梢。可选的，所述推梢连接至一驱动单元，能够在所述驱动单元的驱动下，在所述晶圆干燥装置的顶部和底部之间移动。本专利技术的推梢顶部具有一凹陷部，当晶圆置于所述推梢顶部时，边缘位于所述凹陷部内，由于凹陷部侧壁的阻挡，晶圆不易向外滑出，从而可以避免晶圆自推梢顶部滑落。本专利技术的晶圆干燥装置，包括顶部具有凹陷部的推梢，在对晶圆进行干燥的过程中，晶圆置于所述推梢顶部。由于所述推梢顶部具有凹陷部，所述晶圆边缘位于所述凹陷部内，在移动晶圆的过程中，所述凹陷部侧壁能够阻挡所述晶圆发生侧滑，避免晶圆自推梢的顶部滑落，进而减少晶圆发生破损的概率，提高最终产品的产率。附图说明图1为本专利技术一具体实施方式中推梢的结构示意图；图2为本专利技术一具体实施方式中晶圆放置于推梢顶部的示意图；图3为本专利技术一具体实施方式中推梢的结构示意图；图4为本专利技术一具体实施方式中推梢的结构示意图；图5为本专利技术一具体实施方式中晶圆置于推梢顶部的结构示意图。具体实施方式请参考图1，为一推梢的结构示意图，包括正视图、侧视图以及俯视图。所述推梢10包括一圆柱形梢体11，以及位于所述梢体11顶部的梢头12，所述梢头12为横置的三角柱形，具有倾斜侧壁，横截面为三角形，所述梢头12与晶圆接触的面是平坦的“一字形”。请参考图2，晶圆20位于推梢10顶部时的状态示意图，理想状态下，晶圆垂直立于所述推梢10顶部；而在非正常状态下，晶圆20由于两侧没有阻挡，从推梢10顶部滑落，容易造成损伤。针对上述问题，本专利技术的具体实施方式提供一种新的用于晶圆干燥装置的推梢。下面结合附图对本专利技术提供的用于晶圆干燥装置的推梢以及晶圆干燥装置具体实施方式做详细说明。请参考图3，为本专利技术一具体实施方式的用于晶圆干燥装置的推梢的结构示意图，包括正视图、侧视图以及俯视图。所述推梢300为柱形，顶部具有凹陷部321，用于放置晶圆。具体的，所述推梢300包括柱体310以及位于所述柱体310顶部的梢头320。所述凹陷部321位于所述梢头320内。该具体实施方式中，所述柱体310为圆柱形，在垂直于所述柱体310长度的方向上的横截面为圆形。在其他具体实施方式中，所述柱体310还可以为立方柱体，在垂直于所述柱体310长度的方向上的横截面为矩形；或者所述柱体310在垂直于所述柱体310长度的方向上的横截面还可以为五边形、六边形等其他形状。所述梢头320在正视图的视角上，即在xz平面内的顶部宽度小于底部宽度。在该具体实施方式中，所述梢头320在平行于xz平面上的端面为三角形。在其他具体实施方式中，所述梢头320在平行于xz平面上的端面还可以为梯形或其他形状。在其他具体实施方式中，所述梢头320在正视图的视角上，顶部宽度也可以与底部宽度一致。该具体实施方式中，所述凹陷部321的深度小于所述梢头320的高度，在其他具体实施方式中，所述凹陷部321的深度还可以等于所述梢头320的高度；或者大于所述梢头320的高度，使得所述凹陷部321的底部位于所述柱体310内。所述凹陷部321深度越大，后续置于所述凹陷部321内的晶圆越不易滑出。在一个具体实施方式中，所述凹陷部321的深度为0.5cm～2cm。所述凹陷部321的顶部宽度大于底部宽度，便于晶圆进入所述凹陷部321内。该具体实施方式中，所述凹陷部321的长度方向为平行y轴的方向，宽度方向为平行x轴的方向。所述凹陷部321具有倾斜侧壁，沿垂直所述凹陷部321的长度方向上的横截面为V字形。所述凹陷部321的倾斜侧壁与z轴之间的倾斜角α可以为15°～60°，所述倾斜角α不能过大，否则，晶圆容易沿侧壁从凹陷部321内滑出。该具体实施方式中，所述凹陷部321的底部为两侧壁相交的棱线；在其他具体实施方式中，所述凹陷部321的底部为具有一定宽度的平面。例如，所述凹陷部321底部平面的宽度可以与待放置的晶圆厚度一致或略大于晶圆的厚度。该具体实施方式中，所述凹陷部321的底部为与xy平面平行的平直的底部；在其他具体实施方式中，所述凹陷部321的底部还可以为向-z方向凸出的弧形，可以为一弧线，或一弧形平面。具体的，所述弧形的曲率半径与所述待放置的晶圆半径相同，使得所述凹陷部321的底部与晶圆的边缘贴合更为紧密，晶圆放置于所述凹陷部321内时，更为稳定。请参考图4，为本专利技术另一具体实施方式的用于晶圆干燥装置的推梢的结构示意图，包括正视图、侧视图以及俯视图。该具体实施方式中，所述梢头320内具有凹陷部322，所述凹陷部322的侧壁与z轴平行，垂直于底部，所述凹陷部322的顶部宽度等于底部宽度，在xz平面上的横截面为U字形。请参考图5，为本专利技术一具体实施方式中，一晶圆置于推梢顶部时的侧视示意图。其中，以图3所示的推梢300作为示例。当晶圆500放置于所述推梢300顶部时，所述晶圆500表面与凹陷部321长度方向(y轴方向)平行，晶圆500的部分边缘位于所述凹陷部321内。所述凹陷部321的两侧可以阻挡晶圆500向外滑出，避免晶圆500于所述推梢300顶部滑落，从而减少晶圆500的破损率，提高产率。本专利技术的具体实施方式中，还提供一种晶圆干燥装置。所述晶圆干燥装置包括上述任一具体实施方式中提供的推梢。所述推梢连接至一驱动单元，能够在所述驱动单元的驱动下，在所述晶圆干燥装置的顶部和底部之间移动。在一个具体实施方式中，所述晶圆干燥装置可以包括一盛放异丙醇(IPA)溶液或蒸汽的干燥室，所述推梢设置于所述干燥室内。晶圆置于所述推梢顶部，在干燥过程中，所述驱动单元驱动所述推梢自燥室底部向上运动，从而带动晶圆向上运动。由于所述推梢顶部具有凹陷部，所述晶圆边缘位于所述凹陷部内，在移动晶圆的过程中，所述凹陷部侧壁能够阻挡所述晶圆发生侧滑，避免晶圆自推梢的顶部滑落，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于晶圆干燥装置的推梢，其特征在于，所述推梢为柱形，顶部具有凹陷部，用于放置晶圆；当晶圆放置于所述推梢顶部时，所述晶圆表面与凹陷部的长度方向平行，晶圆的部分边缘位于所述凹陷部内。

【技术特征摘要】
1.一种用于晶圆干燥装置的推梢，其特征在于，所述推梢为柱形，顶部具有凹陷部，用于放置晶圆；当晶圆放置于所述推梢顶部时，所述晶圆表面与凹陷部的长度方向平行，晶圆的部分边缘位于所述凹陷部内。2.根据权利要求1所述的推梢，其特征在于，所述凹陷部的底部为弧形，所述弧形的曲率半径与所述晶圆的半径相同。3.根据权利要求1所述的推梢，其特征在于，所述凹陷部的顶部宽度大于底部宽度。4.根据权利要求3所述的推梢，其特征在于，所述凹陷部具有侧壁倾斜。5.根据权利要求4所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：张大伟，
申请(专利权)人：长江存储科技有限责任公司，
类型：发明
国别省市：湖北,42