一种透明导电金属网格薄膜及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种透明导电金属网格薄膜，包括基材层，所述基材层的上侧设有涂布层，在涂布层上内嵌有金属导电线路，所述金属导电线路为网格状排布，本发明专利技术还公开了一种透明导电金属网格薄膜的制备方法，本发明专利技术一种透明导电金属网格薄膜，可有效降低嵌入式导电薄膜制备难度，简化制备工艺，剔除具有环境污染性的模具电镀工艺，另光阻树脂及显影液都为环境友好型材料，显影部分为电路部分占比小于10%，相比铜刻蚀工艺污染大的缺点，该发明专利技术更具环境友好及成本优势，光阻感光效果优异可实现1um‑100um线宽范围，设计制造满足不同需求。

【技术实现步骤摘要】
一种透明导电金属网格薄膜及其制备方法
本专利技术涉及导电薄膜
，具体是一种透明导电金属网格薄膜及其制备方法。
技术介绍
现有金属网格分为三种：一，刻蚀铜金属网格工艺路线为：铜箔覆干膜-曝光-显影-刻蚀；二、感光银工艺：丝印感光银油墨-曝光-显影；三、嵌入式纳米银工艺路线为：光刻-电铸-压印-印刷。刻蚀铜工艺缺点为：导电线路裸露在基材表面，刻蚀铜离子为重金属污染大成本高。感光银工艺的缺点：为导电线路裸露在基材表面网格线条宽度大。嵌入式纳米银工艺缺点为：工艺路线复杂技术门槛高，易出现银迁移等问题。以上三种金属网格生产工艺，都不能满足现代化的生产和使用需求。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种透明导电金属网格薄膜及其制备方法，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：一种透明导电金属网格薄膜，包括基材层，所述基材层的上侧设有涂布层，在涂布层上内嵌有金属导电线路，所述金属导电线路为网格状排布。进一步的，所述基材层优选为上部涂有机光学树脂或者无机纳米材料的基材层，其中基材层的材质为PET、PI和玻璃中的一种，基材层的上部是指与涂布层接触的部分。进一步的，所述涂布层为UV感光成型树脂涂布层和光刻胶涂布层中的一种。进一步的，所述金属导电线路为导电金属油墨层。一种透明导电金属网格薄膜的制备方法，具体包括以下步骤：S1、根据需要选择合适的材质作为基材层；S2、在基材层上进行涂布层的涂布；S3、涂布完成后，进行定向曝光成型；S4、曝光完成后，置于显影液中进行显影漂洗；S5、显影漂洗完成后，按照网格状印刷导电金属油墨及防反射油墨，形成网格状的金属导电线路。进一步的，所述步骤S2中涂布层的涂布在黄光环境下完成。进一步的，所述步骤S2中当涂布层选为光刻胶涂布层时，在涂布过程中涂布光刻正胶层和光刻反胶层，且在涂布完成后对光刻胶涂布层进行前烘，烘干时间为5-20min。进一步的，所述步骤S4中，显影漂洗时间≤10min。与现有技术相比，本专利技术的有益效果是：1、可有效降低嵌入式导电薄膜制备难度，简化制备工艺，剔除具有环境污染性的模具电镀工艺，另光阻树脂及显影液都为环境友好型材料，显影部分为电路部分占比小于10%。2、相比铜刻蚀工艺污染大的缺点，该专利技术更具环境友好及成本优势。3、光阻感光效果优异可实现1um-100um线宽范围，设计制造满足不同需求。附图说明图1为一种透明导电金属网格薄膜的结构示意图。图中：1-基材层、2-涂布层、3-金属导电线路。具体实施方式为了加深对本专利技术的理解，下面将结合实施例对本专利技术作进一步详述，以下实施例仅用于解释本专利技术，并不构成对本专利技术保护范围的限定。实施例1请参阅图1，一种透明导电金属网格薄膜，包括基材层1，所述基材层1的上侧设有涂布层2，在涂布层2上内嵌有金属导电线路3，所述金属导电线路3为网格状排布；所述基材层优选为上部涂有机光学树脂或者无机纳米材料的基材层，其中基材层的材质为PET，基材层的上部是指与涂布层接触的部分；所述涂布层2为UV感光成型树脂涂布层；所述金属导电线路3为导电金属油墨层；一种透明导电金属网格薄膜的制备方法，具体包括以下步骤：S1、根据需要选择合适的材质作为基材层1；S2、在基材层1上进行涂布层2的涂布；S3、涂布完成后，进行定向曝光成型；S4、曝光完成后，置于显影液中进行显影漂洗；S5、显影漂洗完成后，按照网格状印刷导电金属油墨及防反射油墨，形成网格状的金属导电线路3；所述步骤S2中涂布层2的涂布在黄光环境下完成；所述步骤S4中，显影漂洗时间为5min。本实施例中，可有效降低嵌入式导电薄膜制备难度，简化制备工艺，剔除具有环境污染性的模具电镀工艺，另光阻树脂及显影液都为环境友好型材料，显影部分为电路部分占比为5%，相比铜刻蚀工艺污染大的缺点，该专利技术更具环境友好及成本优势，光阻感光效果优异可实现1um-100um线宽范围，设计制造满足不同需求。实施例2请参阅图1，一种透明导电金属网格薄膜，包括基材层1，所述基材层1的上侧设有涂布层2，在涂布层2上内嵌有金属导电线路3，所述金属导电线路3为网格状排布；所述基材层优选为上部涂有机光学树脂或者无机纳米材料的基材层，其中基材层的材质为PET，基材层的上部是指与涂布层接触的部分；所述涂布层2为光刻胶涂布层中；所述金属导电线路3为导电金属油墨层；一种透明导电金属网格薄膜的制备方法，具体包括以下步骤：S1、根据需要选择合适的材质作为基材层1；S2、在基材层1上进行涂布层2的涂布；S3、涂布完成后，进行定向曝光成型；S4、曝光完成后，置于显影液中进行显影漂洗；S5、显影漂洗完成后，按照网格状印刷导电金属油墨及防反射油墨，形成网格状的金属导电线路3；所述步骤S2中涂布层2的涂布在黄光环境下完成；所述步骤S2中，在涂布过程中涂布光刻正胶层和光刻反胶层，且在涂布完成后对光刻胶涂布层进行前烘，烘干时间为10min；所述步骤S4中，显影漂洗时间为6min。本实施例中，可有效降低嵌入式导电薄膜制备难度，简化制备工艺，剔除具有环境污染性的模具电镀工艺，另光阻树脂及显影液都为环境友好型材料，显影部分为电路部分占比为6%，相比铜刻蚀工艺污染大的缺点，该专利技术更具环境友好及成本优势，光阻感光效果优异可实现1um-100um线宽范围，设计制造满足不同需求。实施例3请参阅图1，一种透明导电金属网格薄膜，包括基材层1，所述基材层1的上侧设有涂布层2，在涂布层2上内嵌有金属导电线路3，所述金属导电线路3为网格状排布；所述基材层优选为上部涂有机光学树脂或者无机纳米材料的基材层，其中基材层的材质为PI，基材层的上部是指与涂布层接触的部分；所述涂布层2为UV感光成型树脂涂布层；所述金属导电线路3为导电金属油墨层；一种透明导电金属网格薄膜的制备方法，具体包括以下步骤：S1、根据需要选择合适的材质作为基材层1；S2、在基材层1上进行涂布层2的涂布；S3、涂布完成后，进行定向曝光成型；S4、曝光完成后，置于显影液中进行显影漂洗；S5、显影漂洗完成后，按照网格状印刷导电金属油墨及防反射油墨，形成网格状的金属导电线路3；所述步骤S2中涂布层2的涂布在黄光环境下完成；所述步骤S4中，显影漂洗时间为8min。本实施例中，可有效降低嵌入式导电薄膜制备难度，简化制备工艺，剔除具有环境污染性的模具电镀工艺，另光阻树脂及显影液都为环境友好型材料，显影部分为电路部分占比为7%，相比铜刻蚀工艺污染大的缺点，该专利技术更具环境友好及成本优势，光阻感光效果优异可实现1um-100um线宽范围，设计制造满足不同需求。实施例4请参阅图1，一种透明导电金属网格薄膜，包括基材层1，所述基材层1的上侧设有涂布层2，在涂布层2上内嵌有金属导电线路3，所述金属导电线路3为网格状排布；所述基材层优选为上部涂有机光学树脂或者无机纳米材料的基材层，其中基材层的材质为玻璃，基材层的上部是指与涂布层接触的部分；所述涂布层2为光刻胶涂布层；所述金属导电线路3为导电金属油墨层；一种透明导电金属网格薄膜的制备方法，具体包括以下步骤：S1、根据需要选择合适的材质作为基材层1；S2、在基材层1上进行涂布层2的涂布；S3、涂布完成后，进行定向曝光成型；S4、曝光完成后，置于显影液中进行显影漂洗；S5、显影漂洗本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种透明导电金属网格薄膜，包括基材层（1），其特征在于，所述基材层（1）的上侧设有涂布层（2），在涂布层（2）上内嵌有金属导电线路（3），所述金属导电线路（3）为网格状排布。

【技术特征摘要】
1.一种透明导电金属网格薄膜，包括基材层（1），其特征在于，所述基材层（1）的上侧设有涂布层（2），在涂布层（2）上内嵌有金属导电线路（3），所述金属导电线路（3）为网格状排布。2.根据权利要求1所述的一种透明导电金属网格薄膜，其特征在于，所述基材层（1）优选为上部涂有机光学树脂或者无机纳米材料的基材层，其中基材层的材质为PET、PI和玻璃中的一种，基材层的上部是指与涂布层（2）接触的部分。3.根据权利要求1所述的一种透明导电金属网格薄膜，其特征在于，所述涂布层（2）为UV感光成型树脂涂布层和光刻胶涂布层中的一种。4.根据权利要求1所述的一种透明导电金属网格薄膜，其特征在于，所述金属导电线路（3）为导电金属油墨层。5.一种透明导电金属网格薄膜的制备方法，其特征在于，具体包括以下步骤：S1、根据需要选...

【专利技术属性】
技术研发人员：姚艳芳，
申请(专利权)人：吴江友鑫新材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32