蒸镀掩模制造技术

本实用新型专利技术提供蒸镀掩模，在设从P1点至Q1点的尺寸为X1，设从P2点至Q2点的尺寸为X2，且设规定的值为αX时，蒸镀掩模满足

【技术实现步骤摘要】
蒸镀掩模
本技术涉及蒸镀掩模。
技术介绍
近年，对于在智能手机或平板电脑等可移动设备中使用的显示装置，要求高精细化，例如要求像素密度为500ppi以上。另外，即使对于可移动设备，应对超高清的需要也在不断高涨，这种情况下，要求显示装置的像素密度为例如800ppi以上。在显示装置中，由于响应性良好、能耗低且对比度高，有机EL显示装置正在受到关注。作为形成有机EL显示装置的像素的方法，已知这样的方法：使用形成有以所希望的图案排列的贯通孔的蒸镀掩模，以所希望的图案形成像素。具体来说，首先，使蒸镀掩模紧密贴合于有机EL显示装置用的基板，接着，将紧密贴合的蒸镀掩模和基板一起放入蒸镀装置中，执行使有机材料蒸镀到基板上的蒸镀工序。这种情况下，为了精密地制作具有高像素密度的有机EL显示装置，要求按照设计精密地再现蒸镀掩模的贯通孔的位置或形状。作为蒸镀掩模的制造方法，已知如下的方法：例如如专利文献1所公开的，通过使用了光刻技术的蚀刻，在金属板上形成贯通孔。例如，首先，通过曝光/显影处理在金属板的第1面上形成第1抗蚀剂图案，另外，通过曝光/显影处理在金属板的第2面上形成第2抗蚀剂图案。接下来，对金属板的第1面中的未被第1抗蚀剂图案覆盖的区域进行蚀刻，在金属板的第1面上形成第1开口部。然后，对金属板的第2面中的未被第2抗蚀剂图案覆盖的区域进行蚀刻，在金属板的第2面上形成第2开口部。此时，通过以使第1开口部和第2开口部互相连通的方式进行蚀刻，由此能够形成贯通金属板的贯通孔。用于制作蒸镀掩模的金属板例如可以通过对铁合金等母材进行轧制来获得。作为其它的蒸镀掩模的制造方法，已知如下的方法：例如如专利文献2所公开的，利用镀覆处理来制造蒸镀掩模。例如在专利文献2所记载的方法中，首先，准备具有导电性的基材。接下来，通过曝光/显影处理，在基材上形成隔开规定的间隙配置的抗蚀剂图案。该抗蚀剂图案被设置于待形成蒸镀掩模的贯通孔的位置处。然后，将镀覆液供给至抗蚀剂图案的间隙中，通过电镀处理在基材上析出金属层。然后，使金属层从基材分离，由此能够得到形成有多个贯通孔的蒸镀掩模。专利文献1：日本特许第5382259号公报专利文献2：日本特开2001-234385号公报在使用蒸镀掩模来使蒸镀材料在基板上成膜的情况下，蒸镀材料不仅附着于基板上，也附着于蒸镀掩模上。例如，在蒸镀材料中，也存在沿着相对于蒸镀掩模的法线方向大幅地倾斜的方向朝向基板的蒸镀材料，但这样的蒸镀材料在到达基板之前到达并附着于蒸镀掩模的贯通孔的壁面上。这种情况下，在基板中的位于蒸镀掩模的贯通孔的壁面附近的区域中，蒸镀材料难以附着，其结果是，可以想到：附着的蒸镀材料的厚度比其它部分小，或者产生未附着蒸镀材料的部分。即，可以认为，蒸镀掩模的贯通孔的壁面附近的蒸镀变得不稳定。因此，在为了形成有机EL显示装置的像素而使用了蒸镀掩模的情况下，像素的尺寸精度或位置精度低下，其结果是，有机EL显示装置的发光效率变得低下。为了解决这样的课题，可以考虑减小用于制造蒸镀掩模的金属板的厚度。这是因为，通过减小金属板的厚度，能够减小蒸镀掩模的贯通孔的壁面的高度，由此，能够降低蒸镀材料中的附着于贯通孔的壁面上的蒸镀材料的比例。对于用于制作蒸镀掩模的金属板，有时使用通过将母材轧制至规定的厚度而得到的轧制件。为了减小这样的金属板的厚度，需要增大金属板的轧制率。在此，轧制率是指根据(母材的厚度-金属板的厚度)/(母材的厚度)所计算出的值。可是，金属板的伸展率对应于宽度方向(与母材的输送方向垂直的方向)的位置而不同。并且，轧制率越大，基于轧制所引起的变形的不均匀的程度会变得越大。因此，已知：在以大轧制率轧制出的金属板上会出现波动形状。具体来说，可以列举出被称作边纹(耳伸び)的、在金属板的宽度方向上的侧缘处形成的波动形状。另外，可以列举出被称作中央波纹(中伸び)的、在金属板的宽度方向上的中央处形成的波动形状。即使在轧制后实施了退火等热处理的情况下，也会出现这样的波动形状。另外，还存在如下情况：通过利用了镀覆处理的制箔工序，来制作具有规定的厚度的金属板。可是，在制箔工序中，若电流密度不均匀，则制作出的金属板的厚度也会变得不均匀。由此，存在如下可能性：在金属板的宽度方向上的侧缘处，出现同样的波动形状。在由像这样形成有波动形状的金属板来制作出蒸镀掩模并将其张紧设置的情况下，蒸镀掩模的伸展在宽度方向上不同，由此，贯通孔的位置可能发生偏移。更具体来说，在金属板中的波动形状较大的部分形成为蒸镀掩模的情况下，与波动形状较小的部分相比，长度方向尺寸变长。在此，设想如下的情况：对在宽度方向上互不相同的第1位置部分和第2位置部分施加拉伸力，来张紧设置蒸镀掩模。这种情况下，若第1位置部分处的蒸镀掩模的长度方向长度比第2位置部分处的长度方向长度短，则张力被以第1位置部分的长度方向长度变得与第2位置部分的长度方向长度相等的方式施加于蒸镀掩模。因此，存在如下可能性：第1位置部分比第2位置部分大幅地伸展，从而，蒸镀掩模的长度方向中央部在宽度方向上向第1位置部分侧偏移。这种情况下，存在张紧设置时的贯通孔的位置发生偏移的可能性。若张紧设置时的蒸镀掩模的贯通孔的位置像这样发生偏移，则会导致经由该贯通孔蒸镀到基板上的蒸镀材料的位置发生偏移，从而，存在有机EL显示装置的像素的尺寸精度或位置精度降低的担忧。
技术实现思路
本技术是考虑了这样的课题而完成的，其目的在于提供一种能够提高张紧设置时的贯通孔的位置精度的蒸镀掩模。本技术是蒸镀掩模，该蒸镀掩模在第1方向上延伸，其中，所述蒸镀掩模具备：中心轴线，其在所述第1方向上延伸，且被配置于和所述第1方向垂直的第2方向的中心位置处；P1点和Q1点，它们被设置于所述中心轴线的一侧，且沿着所述第1方向互相分离；以及P2点和Q2点，它们被设置于所述中心轴线的另一侧，且沿着所述第1方向互相分离，所述P1点和所述P2点被有意配置成在蒸镀时关于所述中心轴线互相对称，所述Q1点和所述Q2点被有意配置成在蒸镀时关于所述中心轴线互相对称，在设从所述P1点至所述Q1点的尺寸为X1，设从所述P2点至所述Q2点的尺寸为X2，设规定的值为αX时，满足【算式1】且满足【算式2】|X1-X2|≤60μm。在本技术的蒸镀掩模中，可以是，所述蒸镀掩模还具备：第1耳部和第2耳部，它们构成所述蒸镀掩模在所述第1方向上的一对端部；和多个贯通孔，它们被设置于所述第1耳部与所述第2耳部之间，在蒸镀时供蒸镀材料通过，所述P1点和所述P2点被定位在形成于所述第1耳部侧的对应的所述贯通孔的中心点处，所述Q1点和所述Q2点被定位在形成于所述第2耳部侧的对应的所述贯通孔的中心点处。在本技术的蒸镀掩模中，可以是，在所述第1耳部与所述第2耳部之间设置有多个形成有所述贯通孔的有效区域，多个所述有效区域具有沿着所述蒸镀掩模的所述第1方向排列的第1有效区域和第2有效区域，所述第1有效区域被配置于所述第1耳部侧，所述第2有效区域被配置于所述第2耳部侧，所述P1点和所述P2点被定位在形成于所述第1有效区域的对应的所述贯通孔的中心点处，所述Q1点和所述Q2点被定位在形成于所述第2有效区域的对应的所述贯通孔的中心点处。在本技术的蒸镀掩模中，可以是，在多个所述有本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种蒸镀掩模，其在第1方向上延伸，其特征在于，所述蒸镀掩模具备：中心轴线，其在所述第1方向上延伸，且被配置于和所述第1方向垂直的第2方向的中心位置处；P1点和Q1点，它们被设置于所述中心轴线的一侧，且沿着所述第1方向互相分离；以及P2点和Q2点，它们被设置于所述中心轴线的另一侧，且沿着所述第1方向互相分离，所述P1点和所述P2点被有意配置成在蒸镀时关于所述中心轴线互相对称，所述Q1点和所述Q2点被有意配置成在蒸镀时关于所述中心轴线互相对称，在设从所述P1点至所述Q1点的尺寸为X1，设从所述P2点至所述Q2点的尺寸为X2，设规定的值为αX时，满足【算式1】

【技术特征摘要】
2017.01.10 JP 2017-002157;2017.12.12 JP 2017-238091.一种蒸镀掩模，其在第1方向上延伸，其特征在于，所述蒸镀掩模具备：中心轴线，其在所述第1方向上延伸，且被配置于和所述第1方向垂直的第2方向的中心位置处；P1点和Q1点，它们被设置于所述中心轴线的一侧，且沿着所述第1方向互相分离；以及P2点和Q2点，它们被设置于所述中心轴线的另一侧，且沿着所述第1方向互相分离，所述P1点和所述P2点被有意配置成在蒸镀时关于所述中心轴线互相对称，所述Q1点和所述Q2点被有意配置成在蒸镀时关于所述中心轴线互相对称，在设从所述P1点至所述Q1点的尺寸为X1，设从所述P2点至所述Q2点的尺寸为X2，设规定的值为αX时，满足【算式1】且满足【算式2】|X1-X2|≤60μm。2.根据权利要求1所述的蒸镀掩模，其特征在于，所述蒸镀掩模还具备：第1耳部和第2耳部，它们构成所述蒸镀掩模在所述第1方向上的一对端部；和多个贯通孔，它们被设置于所述第1耳部与所述第2耳部之间，在蒸镀时供蒸镀材料通过，所述P1点和所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：池永知加雄，
申请(专利权)人：大日本印刷株式会社，
类型：新型
国别省市：日本,JP