防止抛光面变形的镜面抛光方法技术

本发明专利技术涉及一种防止抛光面变形的镜面抛光方法，所述方法包括如下步骤：将待抛光件的待抛光面朝上，根据所述待抛光面的面积大小及形状选择石墨的面积；将所述石墨放置于铜粒机的一端，启动所述铜粒机的开关，使得所述石墨与所述待抛光面接触打磨以进行抛光动作。通过将石墨固定在铜粒机的一端并与待抛光面进行打磨抛光动作，使得待抛光面打磨更为平整，从而使得待抛光面上的料纹、麻点能够消除以达到光滑平整的效果，呈现镜面效果；并且由于石墨本身的韧性，在其打磨过程中更有利于贴合模具本身形状以达到防止模具变形的效果；且本发明专利技术方法步骤简单，操作方便。

【技术实现步骤摘要】
防止抛光面变形的镜面抛光方法
本专利技术涉及一种防止抛光面变形的镜面抛光方法。
技术介绍
模具，工业生产上用以注塑、吹塑、挤出、压铸或锻压成型、冶炼、冲压等方法得到所需产品的各种模子和工具。简而言之，模具是用来制作成型物品的工具，这种工具由各种零件构成，不同的模具由不同的零件构成。它主要通过所成型材料物理状态的改变来实现物品外形的加工。模具最为重要的即是模仁，因此模仁的表面平整度会直接影响到产品质量的好坏。现有技术中，一般的镜面抛光技术无法满足市场或厂家对模仁表面的光洁度及平整度，还需对模仁进行进一步的抛光及打磨加工。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种抛光精度更高、步骤简单、操作方便的防止抛光面变形的镜面抛光方法。为达到上述目的，本专利技术提供如下技术方案：一种防止抛光面变形的镜面抛光方法，所述方法包括如下步骤：将待抛光件的待抛光面朝上，根据所述待抛光面的面积大小及形状选择石墨的面积；将所述石墨放置于铜粒机的一端，启动所述铜粒机的开关，使得所述石墨与所述待抛光面接触打磨以进行抛光动作。进一步地，所述根据所述待抛光面的面积大小及形状选择石墨的面积具体为：测量并计算所述待抛光面的面积，根据计算所得的面积选取石墨并进行切割。进一步地，所述使得所述石墨与所述待抛光面接触打磨以进行抛光动作具体为：在所述石墨打磨所述待抛光面的过程中，需要在所述待抛光面上涂抹金刚石研磨膏，直至所述待抛光面完成抛光程序。进一步地，所述金刚石研磨膏的粒度范围为W0.5-W14。进一步地，所述铜粒机的转速为1000-3000转/分钟。进一步地，所述石墨的抛光时间范围为40-80秒。本专利技术的有益效果在于：通过将石墨固定在铜粒机的一端并与待抛光面进行打磨抛光动作，使得待抛光面打磨更为平整，从而使得待抛光面上的料纹、麻点能够消除以达到光滑平整的效果，呈现镜面效果；并且由于石墨本身的韧性，在其打磨过程中更有利于贴合模具本身形状以达到防止模具变形的效果；且本专利技术方法步骤简单，操作方便。上述说明仅是本专利技术技术方案的概述，为了能够更清楚了解本专利技术的技术手段，并可依照说明书的内容予以实施，以下以本专利技术的较佳实施例并配合附图详细说明如后。附图说明图1为本专利技术的防止抛光面变形的镜面抛光方法的流程图。具体实施方式下面结合附图和实施例，对本专利技术的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本专利技术，但不用来限制本专利技术的范围。请参见图1，本专利技术的一较佳实施例中的一种防止抛光面变形的镜面抛光方法，所述方法包括如下步骤：将待抛光件的待抛光面朝上，根据所述待抛光面的面积大小及形状选择石墨的面积；将所述石墨放置于铜粒机的一端，启动所述铜粒机的开关，使得所述石墨与所述待抛光面接触打磨以进行抛光动作。更为具体的，所述根据所述待抛光面的面积大小及形状选择石墨的面积具体为：测量并计算所述待抛光面的面积，根据计算所得的面积选取石墨并进行切割。在抛光过程中，由于石墨本身的韧性，在其打磨过程中更有利于贴合模具本身形状以达到防止模具变形的效果。更为具体的，所述使得所述石墨与所述待抛光面接触打磨以进行抛光动作具体为：在所述石墨打磨所述待抛光面的过程中，需要在所述待抛光面上涂抹金刚石研磨膏，直至所述待抛光面完成抛光程序。金刚石研磨膏与所述石墨相互配合，使得抛光后的待抛光面更加光洁、平整，使其消除橘皮麻点，以达到实际生产的需求。在本实施例中，所述金刚石研磨膏的粒度范围为W0.5-W14。诚然，在其他实施例中，所述金刚石研磨膏的粒度也可为其他，根据实际生产需求而定。所述金刚石研磨膏的粒度范围越大，则表示研磨越粗糙，在实际生产需求中，可根据不同的抛光精度进行选择。在抛光过程中，所述铜粒机的转速为1000-3000转/分钟，在此转速范围内可更好的保护待抛光件，使得待抛光面不被破坏。当然，所述铜粒机的转速范围是根据待抛光件的材料而定，也根据实际生产需求而定。综上所述：通过将石墨固定在铜粒机的一端并与待抛光面进行打磨抛光动作，使得待抛光面打磨更为平整，从而使得待抛光面上的料纹、麻点能够消除以达到光滑平整的效果，呈现镜面效果；并且由于石墨本身的韧性，在其打磨过程中更有利于贴合模具本身形状以达到防止模具变形的效果；且本专利技术方法步骤简单，操作方便。以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。以上所述实施例仅表达了本专利技术的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对专利技术专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本专利技术构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本专利技术的保护范围。因此，本专利技术专利的保护范围应以所附权利要求为准。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种防止抛光面变形的镜面抛光方法，其特征在于，所述方法包括如下步骤：将待抛光件的待抛光面朝上，根据所述待抛光面的面积及形状选择石墨的面积及形状；将所述石墨放置于铜粒机的一端，启动所述铜粒机的开关，使得所述石墨与所述待抛光面接触打磨以进行抛光动作。

【技术特征摘要】
1.一种防止抛光面变形的镜面抛光方法，其特征在于，所述方法包括如下步骤：将待抛光件的待抛光面朝上，根据所述待抛光面的面积及形状选择石墨的面积及形状；将所述石墨放置于铜粒机的一端，启动所述铜粒机的开关，使得所述石墨与所述待抛光面接触打磨以进行抛光动作。2.如权利要求1所述的防止抛光面变形的镜面抛光方法，其特征在于，所述根据所述待抛光面的面积大小及形状选择石墨的面积具体为：测量并计算所述待抛光面的面积，根据计算所得的面积选取石墨并进行切割。3.如权利要求1所述的防止抛光面变形的镜面抛光方法，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：廖文亮，
申请(专利权)人：苏州亮宇模具科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32