一种用于旋转反应器的支撑机构制造技术

技术编号:20340478 阅读:26 留言:0更新日期:2019-02-16 08:50
本实用新型专利技术公开了一种用于旋转反应器的支撑机构,所述的支撑机构包括能够固定在结构底座上的安装底板(1),安装底板(1)的上方设有用于支撑旋转反应器机身的支座(2),在安装底板(1)的顶部焊接有带顶凹槽(31)的下滑道副(3)且支座(2)的底部焊接有带底凹槽(41)的上滑道副(4),顶凹槽(31)和底凹槽(41)相对设置且两者构成一个能够容纳滑块(5)的腔体,所述的下滑道副(3)、滑块(5)和上滑道副(4)构成一个完整的滑道副。本实用新型专利技术通过在支撑机构中设置滑道副,给旋转反应器转动时留出了轴向窜动量,并限定了轴向窜动量和磨损量,该支撑结构能有效解决现有旋转反应器的轴向窜动,故适宜推广使用。

【技术实现步骤摘要】
一种用于旋转反应器的支撑机构
本技术涉及旋转反应器
,具体地说是一种能够解决旋转反应器转动时轴向窜动的用于旋转反应器的支撑机构。
技术介绍
旋转反应器在工作时,由于里面输送介质的影响,可能会产生轴向窜动,而现有的支撑反应器由于固定设置,导致旋转部分在旋转时,会对支撑件造成拉扯,对旋转反应器的正常工作造成一定的影响,并降低旋转反应器的使用寿命。
技术实现思路
本技术的目的是针对现有技术存在的问题,提供一种能够解决旋转反应器转动时轴向窜动的用于旋转反应器的支撑机构。本技术的目的是通过以下技术方案解决的:一种用于旋转反应器的支撑机构,其特征在于:所述的支撑机构包括能够固定在结构底座上的安装底板,安装底板的上方设有用于支撑旋转反应器机身的支座,在安装底板的顶部焊接有带顶凹槽的下滑道副且支座的底部焊接有带底凹槽的上滑道副,顶凹槽和底凹槽相对设置且两者构成一个能够容纳滑块的腔体,所述的下滑道副、滑块和上滑道副构成一个完整的滑道副。所述下滑道副的下平面和上滑道副的上平面之间留有间隙。所述间隙的高度与滑块的高度之比为10~15:100。所述滑块的长度小于顶凹槽和底凹槽的长度。所述滑块的长度和顶凹槽和底凹槽的长度之比皆为90~95:100。本技术相比现有技术有如下优点:本技术通过在支撑机构中设置滑道副,给旋转反应器转动时留出了轴向窜动量,并通过对滑道副进行具体的限定,限定了轴向窜动量和磨损量,该支撑结构简单实用,能有效解决现有旋转反应器的轴向窜动,故适宜推广使用。附图说明附图1是本技术的用于旋转反应器的支撑机构的结构示意图。其中:1—安装底板;2—支座;3—下滑道副;31—顶凹槽;4—上滑道副;41—底凹槽;5—滑块;6—间隙。具体实施方式下面结合附图与实施例对本技术作进一步的说明。如图1所示:一种用于旋转反应器的支撑机构,该支撑机构包括能够固定在结构底座上的安装底板1,安装底板1的上方设有用于支撑旋转反应器机身的支座2,在安装底板1的顶部焊接有带顶凹槽31的下滑道副3且支座2的底部焊接有带底凹槽41的上滑道副4,顶凹槽31和底凹槽41相对设置且两者构成一个能够容纳滑块5的腔体,上述的下滑道副3、滑块5和上滑道副4构成一个完整的滑道副。具体来说,在下滑道副3的下平面和上滑道副4的上平面之间留有间隙6,以给滑块5提供磨损高度方向上磨损空间,且间隙6的高度与滑块5的高度之比为10~15:100;滑块5的长度小于顶凹槽31和底凹槽41的长度,具体来说,滑块5的长度和顶凹槽31和底凹槽41的长度之比皆为90~95:100,即给旋转反应器留有顶凹槽31和底凹槽41的长度5%-10%的轴向窜动空间。本技术通过在支撑机构中设置滑道副,给旋转反应器转动时留出了轴向窜动量,并通过对滑道副进行具体的限定,限定了轴向窜动量和磨损量,该支撑结构简单实用,能有效解决现有旋转反应器的轴向窜动,故适宜推广使用。以上实施例仅为说明本技术的技术思想,不能以此限定本技术的保护范围,凡是按照本技术提出的技术思想,在技术方案基础上所做的任何改动,均落入本技术保护范围之内;本技术未涉及的技术均可通过现有技术加以实现。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于旋转反应器的支撑机构,其特征在于:所述的支撑机构包括能够固定在结构底座上的安装底板(1),安装底板(1)的上方设有用于支撑旋转反应器机身的支座(2),在安装底板(1)的顶部焊接有带顶凹槽(31)的下滑道副(3)且支座(2)的底部焊接有带底凹槽(41)的上滑道副(4),顶凹槽(31)和底凹槽(41)相对设置且两者构成一个能够容纳滑块(5)的腔体,所述的下滑道副(3)、滑块(5)和上滑道副(4)构成一个完整的滑道副。

【技术特征摘要】
1.一种用于旋转反应器的支撑机构,其特征在于:所述的支撑机构包括能够固定在结构底座上的安装底板(1),安装底板(1)的上方设有用于支撑旋转反应器机身的支座(2),在安装底板(1)的顶部焊接有带顶凹槽(31)的下滑道副(3)且支座(2)的底部焊接有带底凹槽(41)的上滑道副(4),顶凹槽(31)和底凹槽(41)相对设置且两者构成一个能够容纳滑块(5)的腔体,所述的下滑道副(3)、滑块(5)和上滑道副(4)构成一个完整的滑道副。2.根据权利要求1所述的用于旋转反应器的支撑机构,其...

【专利技术属性】
技术研发人员:李伟詹蓉史玉芬宋梦歧
申请(专利权)人:江苏远方迪威尔设备科技有限公司
类型:新型
国别省市:江苏,32

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