光学设备、投影光学系统、曝光装置和物品制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及光学设备、投影光学系统、曝光装置和物品制造方法。光学设备包含反射镜和被配置为使反射镜的反射表面的形状变形的多个致动器。所述多个致动器中的至少一些被布置在多个同心圆上，所述多个同心圆以当同心圆的位置被定位为越远离反射镜的反射表面的中心时同心圆被越致密地布置的方式被布置，并且，所述多个致动器中的至少一些沿同心圆的圆周方向以均等的间隔被布置。

【技术实现步骤摘要】
光学设备、投影光学系统、曝光装置和物品制造方法
本专利技术涉及包括可变形反射镜的光学设备、投影光学系统、曝光装置和物品的制造方法。
技术介绍
特别是在半导体曝光装置、平板曝光装置和天文望远镜中，使用包括可变形反射镜以校正波前误差或图像畸变的光学设备。近年，对曝光装置的分辨率的要求增加了。因此，对校正曝光像差的需要也增加了。作为响应，为了校正曝光像差，曝光装置包括可变形反射镜的装置配置得到讨论。并且，在天文领域中，为了抑制空气波动对安装于地面上的望远镜的影响，也越来越多地使用可变形反射镜。为了减少空气波动对地面基天文望远镜的影响，M.Lloyd-Hart等人的"Adaptiveopticsforthe6.5mMMT",ProceedingsofSPIE,USA,SPIE,2000,Vol.4007,p.167-174讨论了336个音圈马达被均等地布置于薄二次反射镜的后表面上作为用于使二次反射镜变形的致动器的配置。为了减少当应用于曝光装置的可变形反射镜变形时由致动器产生的热的影响，日本专利申请公开No.2007-316132讨论了利用电磁体的可变形反射镜的配置，该电磁体可产生大的力并且产生相对少的热。但是，在如M.Lloyd-Hart等人的"Adaptiveopticsforthe6.5mMMT",ProceedingsofSPIE,USA,SPIE,2000,Vol.4007,p.167-174中那样均等且致密地布置致动器的配置中，致动器也会被布置在不必要的位置处。这不仅导致复杂的制造和控制，而且导致可变形反射镜的成本的增加。并且，日本专利申请公开No.2007-316132示出用于校正由泽尼克(Zernike)多项式表达的反射镜的2θ分量和3θ分量的致动器的布置例子。但是，日本专利申请公开No.2007-316132没有讨论存在于布置例子中的布置策略和布置原理。
技术实现思路
本公开针对用于以尽可能少的致动器在能够实现期望的精度的反射镜变形的反射镜上布置致动器的技术。根据本公开的一个方面，一种光学设备包括：反射镜，和被配置为使反射镜的反射表面的形状变形的多个致动器，其中，所述多个致动器中的至少一些被布置在多个同心圆上，所述多个同心圆被布置为使得越远离反射镜的反射表面的中心同心圆越致密，并且，所述多个致动器中的至少一些还沿同心圆的圆周方向以均等的间隔被布置。从参照附图对示例性实施例的以下描述，本专利技术的其它特征将变得清晰。附图说明图1A和图1B是示出根据第一示例性实施例的驱动点布置(致动器布置)的示图。图2A、图2B、图2C、图2D、图2E和图2F是示出根据第一示例性实施例的例子1的计算结果的示图。图3A和图3B是示出根据第二示例性实施例的驱动点布置(致动器布置)的示图。图4是示出根据第二示例性实施例的用于沿径向方向布置驱动点的方法的示图。图5A、图5B和图5C是示出根据第二示例性实施例的计算例子的示图。图6是示出根据第三示例性实施例的驱动点布置(致动器布置)的示图。图7是示出根据第五示例性实施例的曝光装置的示图。图8是用于解释定义的术语的示图。具体实施方式根据本公开的一个方面，用于使反射镜的反射表面的形状变形的多个致动器中的至少一些被布置在多个同心圆上，所述多个同心圆以当位置越远离反射镜的反射表面的中心时致动器被越致密地布置于同心圆上的方式被布置，并且，所述多个致动器中的至少一些也沿同心圆的圆周方向以均等的间隔被布置。“致密”意味着沿径向方向越向外则同心圆之间的径向方向的距离越小。该布置策略意在找到用于校正反射镜的反射表面的形状的致动器的有效布置位置，由此实现高精度的反射镜变形和布置数量少的致动器两者。作为致动器的有效布置位置，参照表达反射镜的目标形状的表达式(例如，泽尼克多项式)搜索反射镜的径向方向的致动器的有效布置位置，并且在圆周方向上考虑反射镜的形状的旋转对称性。一般地，为了以高的精度规定反射镜的外周附近部分的形状，需要关于致动器的布置位置之间的距离的最大空间频率的概念，并且期望在反射镜的外周附近以最小驱动点间隔布置致动器。因此，期望以致动器随着位置越远离反射镜的中心被越致密地布置的方式布置致动器。另外，期望在反射镜的外周部分中最致密地布置致动器。在从垂直于反射表面的方向观看的反射镜的形状是具有对称数无限的旋转对称的圆形形状的情况下，沿同心圆的圆周方向以均等的间隔布置致动器是更有效的。并且，从该观点，期望多个致动器的总体布置应是旋转对称的。以下将参照附图更详细地描述本公开的数个示例性实施例。首先，定义用于规定本公开的方面的术语。圆周方向的“相等间隔”被定义如下。在理想情况下，沿同一圆周方向布置的多个致动器以几何相等间隔La被布置。但是，出于诸如装置的加工和组装等的原因，存在难以在理想位置处精确地布置多个致动器的许多情况。因此，“相等间隔”也包括致动器的位置偏移量处于几何相等间隔La中的每一个的±30％内的情况。并且，在本说明书中使用的“极值附近”和“拐点附近”中的“附近”指的是致动器沿径向方向从理想位置的位置偏移量处于彼此相邻的致动器之间的间隔Lb的30％内的事实。在描述示例性实施例之后，将参照图8，描述将术语“相等间隔”中的位置偏移量定义为在±30％内(在-30％与30％之间的范围内)的原因以及将术语“附近”中的位置偏移量定义为在30％内的原因。图1A和图1B是示出根据第一示例性实施例的光学设备10的配置的示意图。图1A示出光学设备10的顶视图。图1B示出光学设备10的截面(前视)图。光学设备10是能够使反射镜1变形、具体而言将反射镜1的反射表面1a变形成期望的目标形状的可变形反射镜设备。光学设备10可以包括反射镜1、保持部件2、基座板(baseplate)4和致动器3。具有光轴A的反射镜1经由保持部件2被固定到基座板4。在反射镜1与基座板4之间，布置用于将反射镜1的反射表面1a的形状变形成期望的形状的多个致动器3。根据本示例性实施例的致动器3中的每一个可以包括附着到反射镜1的后表面1b的由磁体3a构成的音圈马达(VCM)和附着到基座板4的线圈3b。反射镜1具有当从垂直于反射表面1a的方向观看时为圆形的平面形状，并且穿过反射镜1的中心并且垂直于所述平面形状的中心轴是光轴A。作为替代方案，反射镜1可以是反射表面1a具有凹面形状的凹面反射镜，或者可以是反射表面1a具有凸面形状的凸面反射镜。换句话说，反射镜1能够以反射表面1a具有平面形状、凹面形状和凸面形状中的任一种的方式被配置。驱动点5代表致动器3的位置。驱动点5被布置在反射镜1的多个同心圆上，并且所述多个同心圆以同心圆随着它们的位置越远离穿过反射镜1的中心的光轴A被越致密地布置的方式被布置。由最内的点划线表示的同心圆和由最外的点划线表示的同心圆分别代表内光学有效区域边界6和外光学有效区域边界7。并且，致动器3在相同的半径上沿圆周方向以相等间隔被布置。并且，致动器3沿径向方向以对准的方式被布置，并且多个致动器3的总体布置具有90度旋转对称性。并且，反射镜1可以经由具有弹簧性能的弹性部件由例如环形中间部件保持。例如以120°间隔在反射镜1的外周部分的同一圆周的三个位置处设置弹性部件。中间部件具有高的刚性，并且在XYZ轴方向上或在围绕XYZ轴的旋本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光学设备，其特征在于，包括：反射镜；和被配置为使反射镜的反射表面的形状变形的多个致动器，其中，所述多个致动器中的至少一些被布置在多个同心圆上，所述多个同心圆以当同心圆的位置被定位为越远离反射镜的反射表面的中心时同心圆被越致密地布置的方式被布置，并且，所述多个致动器中的至少一些沿同心圆的圆周方向以均等的间隔被布置。

【技术特征摘要】
2017.08.01 JP 2017-1495401.一种光学设备，其特征在于，包括：反射镜；和被配置为使反射镜的反射表面的形状变形的多个致动器，其中，所述多个致动器中的至少一些被布置在多个同心圆上，所述多个同心圆以当同心圆的位置被定位为越远离反射镜的反射表面的中心时同心圆被越致密地布置的方式被布置，并且，所述多个致动器中的至少一些沿同心圆的圆周方向以均等的间隔被布置。2.根据权利要求1所述的光学设备，其中，所述多个致动器的总体布置是旋转对称的。3.根据权利要求1所述的光学设备，还包括基座板，其中，致动器被布置在反射镜的后表面与基座板之间。4.根据权利要求1所述的光学设备，其中，致动器被布置在作为反射镜的光学有效区域的边界上或附近，并且被布置在选自要变形的反射表面的形状的极值或极值附近的位置处。5.根据权利要求4所述的光学设备，其中，致动器进一步被布置在选自要变形的反射表面的形状的拐点或拐点附近的位置处。6.根据权利要求5所述的光学设备，其中，极值或拐点是在具有直到第n项的泽尼克多项式中展开要变形的反射表面的形状时的各项的极值或拐点。7.根据权利要求1所述的光学设备，其中，当从垂直于中心处的反射表面的方向观看时，反射镜具有圆形形状。8.根据权利要求1所述的光学设备，其中，反射镜的反射表面具有平面形状、凹面形状和凸面形状中的任一个。9.一种用于将掩模的图案投影到基板上的投影光学系统，其特征在于，投影光...

【专利技术属性】
技术研发人员：崔长植，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP