The invention provides a system for improving film forming stability, which belongs to the field of semiconductor manufacturing technology, including: an ozone generator for generating and outputting ozone; a reaction chamber for performing the STI HARP film forming process based on the ozone; a first pipeline for conveying the ozone output from the ozone generator to the reaction chamber; an ozone processor for connecting. The excess ozone is collected; the second pipeline is used to transport the ozone output from the ozone generator to the ozone processor; and the third pipeline is used to distribute the ozone delivered in the first pipeline to the ozone processor according to the diversion strategy. The beneficial effect of the invention is that the stability of ozone concentration in the whole film forming process can be effectively guaranteed and the stability of the film forming can be improved. The abnormal risk of film formation caused by the fluctuation of ozone concentration was reduced.
【技术实现步骤摘要】
一种提高成膜稳定性的系统
本专利技术涉及半导体制造
,尤其涉及一种提高成膜稳定性的系统。
技术介绍
浅沟槽隔离高深宽比工艺(ShallowTrenchIsolationHighAspectRatioProcess,简称STIHARP)成膜工艺的主要反应源是臭氧和正硅酸乙酯。臭氧是由臭氧发生器产生的重量浓度为12.5%的臭氧和氧气混合气。臭氧发生器产生稳定浓度的臭氧需要一定的时间,流量和浓度变化时,需要较长时间稳定。实际生产中为得到稳定的臭氧源,臭氧发生器持续不断地产生同一流量和浓度的臭氧。臭氧不参与反应时就流向臭氧处理装置,需要臭氧进入反应腔体时通过阀体切换流量。STIHARP成膜的步骤是一开始慢速成膜,最后快速成膜。快速成膜是通过降低臭氧占总反应气体的比例,此处,臭氧流量降低。臭氧流量下降导致臭氧浓度波动,臭氧发生器状态不同,稳定需要时间不同,臭氧浓度变化,成膜速率发生变化。可能影响成膜质量和稳定性,影响到产品良率和可靠性。如图1所示,臭氧管路分布,臭氧流量由流量计控制,臭氧发生器(O3Generation)持续产生臭氧并流出,有O3处理装置和反应腔体两个方向。当成膜工艺开始快速成膜时,臭氧流量变化,臭氧浓度出现波动,臭氧浓度能影响到成膜速率,如图2。
技术实现思路
针对现有技术中存在的问题,本专利技术涉及提高成膜稳定性的系统。本专利技术采用如下技术方案:一种提高成膜稳定性的系统,适用于STIHARP成膜工艺,所述STIHARP成膜工艺包括通过臭氧和正硅酸乙酯进行成膜反应形成膜层;所述系统包括:臭氧发生器,所述臭氧发生器用于产生并输出臭氧;反应腔体,所 ...
【技术保护点】
1.一种提高成膜稳定性的系统,其特征在于,适用于STI HARP成膜工艺;所述系统包括:臭氧发生器,所述臭氧发生器用于产生并输出臭氧;反应腔体,所述反应腔体用于接收所述臭氧,并基于所述臭氧进行所述STI HARP成膜工艺;第一管路,所述第一管路用于将所述臭氧发生器输出的臭氧输送至所述反应腔体;臭氧处理器,所述臭氧处理器用于接收所述第一管路中多余的所述臭氧;第二管路,所述第二管路用于将所述臭氧发生器输出的臭氧输送至所述臭氧处理器;所述系统还包括:第三管路,所述第三管路用于将所述第一管路中输送的所述臭氧按照分流策略部分分流至所述臭氧处理器。
【技术特征摘要】
1.一种提高成膜稳定性的系统,其特征在于,适用于STIHARP成膜工艺;所述系统包括:臭氧发生器,所述臭氧发生器用于产生并输出臭氧;反应腔体,所述反应腔体用于接收所述臭氧,并基于所述臭氧进行所述STIHARP成膜工艺;第一管路,所述第一管路用于将所述臭氧发生器输出的臭氧输送至所述反应腔体;臭氧处理器,所述臭氧处理器用于接收所述第一管路中多余的所述臭氧;第二管路,所述第二管路用于将所述臭氧发生器输出的臭氧输送至所述臭氧处理器;所述系统还包括:第三管路,所述第三管路用于将所述第一管路中输送的所述臭氧按照分流策略部分分流至所述臭氧处理器。2.根据权利要求1的系统,其特征在于,所述系统还包括:第四管路,所述第四管路用于向所述臭氧发生器中输入氧气;第五管路,所述第五管路用于向所述臭氧发生器中输入氮气。3.根据权利要求1的系统,其特征在于,所述第一管路和所述第二管路具有连通部位,且于所述连通管部位设有第一阀体,以调节所述第一管路和所述第二管路中的所述臭氧的输送速度,所述第...
【专利技术属性】
技术研发人员:王德龙,谢婉扬,蔡毅,
申请(专利权)人:上海华力微电子有限公司,
类型:发明
国别省市:上海,31
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