The invention relates to the technical field of hydrolysis of organosilicon monomers, in particular to a saturated hydrochloric acid hydrolysis method. It includes: hydrolysis reactor: dimethyldichlorosilane mixed with saturated hydrochloric acid solution is hydrolyzed to produce acid hydrolysate and hydrogen chloride gas, hydrogen chloride gas directly into the hydrogen chloride gas treatment device for purification and reuse; acid hydrolysate enters the process water washing device through the first separation device, and the remaining saturated hydrochloric acid solution of hydrolysis reaction is packed through the first separation device. Put into the saturated hydrochloric acid pump for recycling use; process water washing device: the hydrolysate is washed in the process water washing device to get the second hydrolysate; vacuum distillation device: the second hydrolysate is heated and separated into falling film evaporator to get the neutral hydrolysate, and the hydrogen chloride gas generated in the vacuum distillation stage enters the hydrogen chloride gas treatment device, and the saturated hydrochloric acid solution is recycled to make the neutral hydrolysate. Use. The neutral hydrolysate can be obtained by the invention, which has the advantages of simple equipment, low power consumption, energy saving and easy operation.
【技术实现步骤摘要】
一种饱和盐酸水解方法
本专利技术涉及有机硅单体的水解
,尤其涉及一种饱和盐酸水解方法。
技术介绍
二甲基二氯硅烷水解工艺为对二甲基二氯硅烷水解制得环状聚硅氧烷和线状聚硅氧烷的混合物的过程,通常采用盐酸作为水解的水源;二甲基二氯硅烷水解一般有:过量水水解、缺水条件下水解、恒沸酸水解、浓酸水解、饱和酸水解、在强酸性介质中或在碱性介质中水解和在水合阳离子表面活性剂存在的条件下水解等多种方法,其中饱和酸水解是采用浓度大于37%的饱和盐酸水解二甲基二氯硅烷,直接得到带压的气相氯化氢,用于合成氯甲烷,能耗较低,废水量很少。传统的饱和盐酸水解工艺为:对二甲基二氯硅烷进行加压水解反应,生成氯化氢和油状液体水解物;对酸性的油状液体水解物进行常压水洗;对经过多次水洗后仍旧呈酸性的水解物进行碱中和,使酸性水解物趋于中性;但是传统的饱和盐酸水解工艺在水解反应阶段存在二甲基二氯硅烷与饱和盐酸接触不充分的问题;在碱中和工艺阶段,由于水解物呈油性,与水互不相溶,在理论上,通过碱中和的方法完全分离开油性水解物中包裹的氯化氢、水、二甲基二氯硅烷是行不通的。为此,我们提出一种饱和盐酸水解方法及装置来解决上述问题。
技术实现思路
本专利技术的目的是为了解决现有技术中存在的缺点,而提出的一种饱和盐酸水解方法。为了实现上述目的,本专利技术采用了如下技术方案:一种饱和盐酸水解装置,所述装置包括:水解反应装置:二甲基二氯硅烷与饱和盐酸溶液混合后进入水解反应器进行水解反应得到水解产物,所述水解产物包括酸性水解物、氯化氢气体,所述氯化氢气体直接进入氯化氢气体处理装置进行净化与再利用;所述水解产物与水解反 ...
【技术保护点】
1.一种饱和盐酸水解装置,其特征在于,所述装置包括:水解反应装置:二甲基二氯硅烷与饱和盐酸溶液混合后进入水解反应器进行水解反应得到水解产物,所述水解产物包括酸性水解物、氯化氢气体,所述氯化氢气体直接进入氯化氢气体处理装置进行净化与再利用;所述水解产物与水解反应剩余的饱和盐酸溶液进入第一分离装置,其中,所述酸性水解物通过所述第一分离装置进入工艺水洗装置,所述水解反应剩余的饱和盐酸溶液通过所述第一分离装置进入饱和盐酸泵循环使用;工艺水洗装置:所述酸性水解物在所述工艺水洗装置中进行水洗除杂,得到第二水解物;其中,工艺水洗过程中的水洗水循环使用;真空蒸馏装置:所述第二水解物进入降膜蒸发器进行加热分离,得到中性水解物。
【技术特征摘要】
1.一种饱和盐酸水解装置,其特征在于,所述装置包括:水解反应装置:二甲基二氯硅烷与饱和盐酸溶液混合后进入水解反应器进行水解反应得到水解产物,所述水解产物包括酸性水解物、氯化氢气体,所述氯化氢气体直接进入氯化氢气体处理装置进行净化与再利用;所述水解产物与水解反应剩余的饱和盐酸溶液进入第一分离装置,其中,所述酸性水解物通过所述第一分离装置进入工艺水洗装置,所述水解反应剩余的饱和盐酸溶液通过所述第一分离装置进入饱和盐酸泵循环使用;工艺水洗装置:所述酸性水解物在所述工艺水洗装置中进行水洗除杂,得到第二水解物;其中,工艺水洗过程中的水洗水循环使用;真空蒸馏装置:所述第二水解物进入降膜蒸发器进行加热分离,得到中性水解物。2.根据权利要求1所述的一种饱和盐酸水解装置,其特征在于,所述水解反应装置,具体包括:二甲基二氯硅烷通过二甲基二氯硅烷泵泵入水解反应器,饱和盐酸溶液通过所述饱和盐酸泵泵入水解反应器,其中,二甲基二氯硅烷在泵入水解反应器时通过多管出料口与饱和盐酸溶液进行充分混合。3.根据权利要求1或2所述的一种饱和盐酸水解装置,其特征在于,所述水解反应装置,具体包括:饱和盐酸泵与所述水解反应器之间还设置加热器,所述加...
【专利技术属性】
技术研发人员:阎世城,王宇光,李全,
申请(专利权)人:中国化学赛鼎宁波工程有限公司,阎世城,
类型:发明
国别省市:浙江,33
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