一种张网设备的辅助装置及张网设备制造方法及图纸

技术编号:20296838 阅读:90 留言:0更新日期:2019-02-11 03:14
本实用新型专利技术实施例提供的一种张网设备的辅助装置及张网设备,用于固定掩膜框架,所述辅助装置包括:气浮基台和设置在所述气浮基台表面上相对两侧的卡扣;所述卡扣在所述气浮基台上具有用于取放所述掩膜框架的第一工位和用于固定所述掩膜框架的第二工位,所述卡扣处于所述第二工位时,朝向所述掩膜框架的表面齐平。本实用新型专利技术实施例中,能够保证在气浮过程中,掩膜框架保持水平,提高制备掩膜版的精度。

An Auxiliary Device and Netting Equipment for Netting Equipment

An auxiliary device and a netting device for fixing the mask frame are provided according to the embodiment of the utility model. The auxiliary device includes an air-floated base and a clasp on opposite sides of the surface of the air-floated base; the clasp has a first station for taking and placing the mask frame and a second station for fixing the mask frame on the air-floated base. When the clasp is in the second position, the surface of the mask frame is even. In the embodiment of the utility model, the mask frame can be maintained at a level during the air floatation process, and the precision of preparing the mask plate can be improved.

【技术实现步骤摘要】
一种张网设备的辅助装置及张网设备
本技术涉及机械设备组件,尤其涉及一种张网设备的辅助装置及张网设备。
技术介绍
在采用张网设备制备高精度掩膜版时,在拉伸工艺中,需将掩膜版条焊接在掩膜框架上,掩膜版条在焊接时,由于在一个方向对掩膜版条具有拉伸力,使掩膜版条出现应变,所以需要在这个方向添加挤压力,防止掩膜版条发生应变。而在施加挤压力时,掩膜框架会与张网设备的摩擦力使真实施加的挤压力值与需要的挤压力值有一定的偏差。目前,采用导入气体浮力使掩膜框架与张网设备之间具有一定的空隙,来避免摩擦力的影响,但是浮力会导致掩膜框架无法达到水平,进而导致挤压力的施加无法达到同一水平线,影响最后掩膜版形成的精度。
技术实现思路
本技术提供一种张网设备的辅助装置,以解决现有技术中框架与张网设备具有摩擦力,气浮使掩膜框架无法保持水平状态,进而影响掩膜版精度的问题。根据本技术的第一方面,提供了一种张网设备的辅助装置,用于固定掩膜框架,所述辅助装置包括:气浮基台和设置在所述气浮基台表面上相对两侧的卡扣;所述卡扣在所述气浮基台上具有用于取放所述掩膜框架的第一工位和用于固定所述掩膜框架的第二工位,所述卡扣处于所述第二工位时,朝向所述掩膜框架的表面齐平。优选的,还包括:于所述卡扣连接的驱动机构,以驱动所述卡扣在所述第一工位与所述第二工位之间移动。优选的,所述驱动机构包括伺服电机。优选的,还包括:距离感应装置,所述距离感应装置与所述驱动机构连接,以感应所述卡扣与所述掩膜框架之间的距离,并将所述距离发送至所述驱动机构,以供所述驱动机构驱动所述卡扣。优选的,所述卡扣呈“L”型。优选的,在所述气浮基台的表面上相对两侧分别具有2个所述卡扣。优选的,所述卡扣朝向所述掩膜框架的表面为陶瓷表面。根据本技术的第二方面,提供了一种张网设备,包括:气浮装置和如上述任意一项所述的辅助装置,其中所述气浮基台设置在所述气浮装置上。本技术实施例提供的张网设备的辅助装置,用于固定掩膜框架,包括:气浮基台和设置在所述气浮基台表面上相对两侧的卡扣;所述卡扣在所述气浮基台上具有用于取放所述掩膜框架的第一工位和用于固定所述掩膜框架的第二工位,所述卡扣处于所述第二工位时,朝向所述掩膜框架的表面齐平。本技术实施例中,能够保证在气浮过程中,掩膜框架保持水平,提高制备掩膜版的精度。附图说明为了更清楚地说明本技术实施例的技术方案,下面将对本技术实施例的描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是本技术实施例提供的一种张网设备的辅助装置在使用过程中的结构示意图;图2是本技术实施例提供的一种气浮基台的结构示意图;图3是本技术实施例提供的一种张网设备的辅助装置的俯视结构示意图。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图,对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本技术一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本技术保护的范围。下面通过列举几个具体的实施例详细介绍本技术提供的一种张网设备的辅助装置及张网设备。参照图1,示出了本技术实施例的一种张网设备的辅助装置的结构示意图;在本技术实施例中,所述辅助装置用于固定掩膜框架10,所述辅助装置包括:气浮基台20和设置在所述气浮基台表面上相对两侧的卡扣30。参照图2,所述卡扣30在所述气浮基台20上具有用于取放所述掩膜框架10的第一工位40和用于固定所述掩膜框架10的第二工位50,所述卡扣30处于所述第二工位50时,朝向所述掩膜框架10的表面齐平。在本是技术实施例中,气浮基台20下方具有气浮装置,气浮装置用于向上吹气,其中,气浮基台的四周具有空隙,气体从空隙穿过,在气浮基台20的上方产生气浮力,用于将掩膜框架10浮起。参照图3,在掩膜框架上制备掩膜条时,会在x方向施加挤压力f,因此本技术实施例中,将卡扣30设置在气浮基台20上的相对两侧,具体设置在与挤压力f方向不同的y方向。在本技术实施例中,所述卡扣朝向所述掩膜框架10的表面齐平,能够保证掩膜框架10处于水平位置,进而保证在制备掩膜版条时,施加的挤压力保持水平。参照图2,在本技术实施例中,卡扣30在气浮基台20上具有第一工位40和第二工位50。在本技术实施例中,所述辅助装置还包括:与所述卡扣连接的驱动机构(图中未示出),所述驱动机构用于驱动所述卡扣30在所述第一工位40和所述第二工位50之间移动。在本技术实时例中,卡扣30在第一工位40和第二工位50之间移动是通过驱动机构进行驱动。当气浮基台20上无掩膜框架10时,将卡扣30置于第一工位40,当气浮基台20上放上掩膜框架10时,将卡扣30置于第二工位50。当掩膜框架10完成掩膜版条的制备后,需将掩膜框架移开时,再次将卡扣30置于第一工位40。所述驱动机构控制卡扣30移动的位置,时间及速度。在本技术实施例中,所述驱动机构包括伺服电机(图中未示出)。在本技术实施例中,每个卡扣30都有自身的伺服电机,伺服电机用于给卡扣30提供动力,以保证卡扣30的移动。在本技术实施例中,所述辅助装置还包括距离感应装置(图中未示出),所述距离感应装置与所述驱动机构连接,以感应所述卡扣30与所述掩膜框架10之间的距离。在本技术实施例中,距离感应装置用于感应卡扣30与掩膜框架10之间的距离,并将距离传递给所述驱动机构,驱动机构可根据距离的大小确定是否需要继续移动卡扣30。在本技术实施例中,所述卡扣30呈“L”型。在本技术中,如图1所示,所述卡扣30的第一边的第一端与所述气浮基台20连接,并且所述卡扣30的第一边与所述气浮基台20的第一表面垂直;所述卡扣30的第一边的第二端与所述卡扣30的第二边的一端连接;所述卡扣30的第二边与所述气浮基台20的第一表面平行。在本技术实施例中,在所述气浮基台20的相对两侧分别具有2个所述卡扣30。在本技术实施例中,每侧的卡扣数量可根据实际需要进行设置,本技术实施例对此不加以限制。在本技术实施例中,所述卡扣朝向所述掩膜框架的表面为陶瓷表面。在本技术实施例中,所述卡扣优选材料为陶瓷,因陶瓷表面平整,可以降低卡扣和掩膜框架直接的摩擦力。在本技术实施例中,还提供一种张网设备,所述张网设备包括:气浮装置和如上述所述的辅助装置,其中所述气浮基台设置在所述气浮装置上。综上所述,本技术实施例提供的张网设备的辅助装置,用于固定掩膜框架,包括:气浮基台和设置在所述气浮基台表面上相对两侧的卡扣;所述卡扣在所述气浮基台上具有用于取放所述掩膜框架的第一工位和用于固定所述掩膜框架的第二工位,所述卡扣处于所述第二工位时,朝向所述掩膜框架的表面齐平。本技术实施例中,能够保证在气浮过程中,掩膜框架保持水平,提高制备掩膜版的精度。所属领域的技术人员可以清楚地了解到,为描述的方便和简洁,上述描述的系统、装置和单元的具体工作过程,可以参考前述方法实施例中的对应过程本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种张网设备的辅助装置,用于固定掩膜框架,其特征在于,所述辅助装置包括:气浮基台和设置在所述气浮基台表面上相对两侧的卡扣;所述卡扣在所述气浮基台上具有用于取放所述掩膜框架的第一工位和用于固定所述掩膜框架的第二工位,所述卡扣处于所述第二工位时,朝向所述掩膜框架的表面齐平。

【技术特征摘要】
1.一种张网设备的辅助装置,用于固定掩膜框架,其特征在于,所述辅助装置包括:气浮基台和设置在所述气浮基台表面上相对两侧的卡扣;所述卡扣在所述气浮基台上具有用于取放所述掩膜框架的第一工位和用于固定所述掩膜框架的第二工位,所述卡扣处于所述第二工位时,朝向所述掩膜框架的表面齐平。2.根据权利要求1所述的辅助装置,其特征在于,还包括:与所述卡扣连接的驱动机构,以驱动所述卡扣在所述第一工位与所述第二工位之间移动。3.根据权利要求2所述的辅助装置,其特征在于,所述驱动机构包括伺服电机。4.根据权利要求2所述的辅助装置,其特征在于,还包括...

【专利技术属性】
技术研发人员:袁鹏程
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司成都京东方光电科技有限公司
类型:新型
国别省市:北京,11

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