有机电子元件的制造方法及功能层的制造方法技术

技术编号:20291492 阅读:34 留言:0更新日期:2019-02-10 21:25
本发明专利技术的一个实施方式的有机电子元件的制造方法具备:涂布膜形成工序,将具有给定功能的功能层用的涂布液涂布于塑料基板而形成涂布膜;以及加热工序,在红外线加热炉内向上述涂布膜照射红外线而使上述涂布膜加热固化,由此形成上述功能层,上述加热工序中,在将上述红外线加热炉所具有、且在上述塑料基板的周围与上述塑料基板分离地配置的构件冷却到100℃以下的同时,将上述涂布膜利用上述红外线加热固化。

Manufacturing Method of Organic Electronic Components and Manufacturing Method of Functional Layer

The manufacturing method of an organic electronic component according to one embodiment of the present invention includes: a coating film forming process in which a coating liquid used for a functional layer with a given function is coated on a plastic substrate to form a coating film; and a heating process in which the coating film is heated and cured by irradiating infrared rays on the coating film in an infrared heating furnace, thereby forming the functional layer. In the sequence, the coating film is solidified by using the infrared heating while cooling the components possessed by the infrared heating furnace and separately disposed around the plastic substrate to below 100 C.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】有机电子元件的制造方法及功能层的制造方法
本专利技术涉及有机电子元件的制造方法及功能层的制造方法。
技术介绍
有机电致发光元件(以下有时称作“有机EL元件”)、有机光电转换元件、有机薄膜晶体管等有机电子元件具备设于基板上、且具有给定功能的功能层。作为上述功能层的形成方法的例子,已知有专利文献1的技术。专利文献1中,首先,将包含具有交联性基团、且作为功能层(专利文献1中的导电性薄膜)的材料的高分子化合物的涂布液涂布于基板上而形成涂布膜。其后,从红外线加热器向涂布膜照射红外线,利用该红外线使交联性基团交联,由此将涂布膜加热固化,形成功能层。现有技术文献专利文献专利文献1:国际公开第2013/180036号
技术实现思路
专利技术所要解决的问题如专利文献1所述,在对形成于基板上的涂布膜进行红外线加热时,通常在红外线加热炉内实施涂布膜的红外线加热。在涂布膜的红外线加热的工序中,由于从红外线加热器以辐射状射出红外线,因此红外线也会射入配置于红外线加热炉内的带有涂布膜的基板的周围的构件、例如红外线加热炉的炉壁。该情况下,红外线所射入的构件受到加热,产生远红外线辐射。作为有机电子元件的基板,为了使有机电子元件具有挠曲性,近年来有使用塑料基板的趋势。塑料基板在红外线当中,与近红外线(例如波长范围1.2μm~5.0μm的红外线)相比,更易于吸收远红外线(例如波长范围5.0μm~10.0μm的红外线)。因而,如果如上所述,例如红外线加热炉的炉壁由红外线加热,产生远红外线辐射,则塑料基板就被该远红外线不必要地加热。如果如此所述地加热塑料基板,就会在塑料基板中产生损伤(变形等),存在有机电子元件的制造成品率降低的问题。因而,本专利技术的目的在于,提供可以在减少对塑料基板的损伤的同时实现制造成品率的提高的有机电子元件的制造方法、及功能层的形成方法。用于解决问题的方法本专利技术的一个方面的有机电子元件的制造方法是有机电子元件的制造方法,具备:涂布膜形成工序,将具有给定功能的功能层用的涂布液涂布于塑料基板而形成涂布膜;以及加热工序,在红外线加热炉内向上述涂布膜照射红外线而使上述涂布膜加热固化,由此形成上述功能层,上述加热工序中,在将上述红外线加热炉所具有、且在上述塑料基板的周围与上述塑料基板分离地配置的构件冷却到100℃以下的同时,将上述涂布膜利用上述红外线加热固化。该制造方法中的加热工序中,在将上述红外线加热炉所具有、且在上述塑料基板的周围与上述塑料基板分离地配置的构件冷却到100℃以下的同时,将上述涂布膜利用上述红外线加热固化。即使红外线射入冷却到100℃以下的构件,也难以产生波长范围5.0μm~10.0μm的红外线(以下也称作“远红外线”)的辐射。因而,在加热工序中,塑料基板的不必要的加热得到抑制。其结果是,难以在塑料基板中产生变形等损伤。因而,可以实现有机电子元件的制造成品率的提高。上述涂布液包含具有交联性基团的材料,上述加热工序中,可以通过利用上述红外线使上述交联性基团交联,而将上述涂布膜加热固化。上述加热工序中,可以在将作为上述红外线加热炉所具有的构件的炉壁的一部分冷却到100℃以下的同时,将上述涂布膜利用上述红外线加热固化。由此,来自上述炉壁的一部分的远红外线辐射得到抑制,因此难以在塑料基板中产生损伤。可以在将上述炉壁当中的上述塑料基板的厚度方向上的上侧及下侧的区域冷却到100℃以下的同时,将上述涂布膜利用上述红外线加热固化。该情况下,上述炉壁当中的至少上述塑料基板的厚度方向上的上侧及下侧的区域被冷却到100℃以下,难以产生来自这些区域的远红外线辐射。对于塑料基板而言,通常与厚度方向正交的表面(或背面)的面积大于侧面的面积。因而,通过如上所述地抑制来自炉壁当中的上述塑料基板的上侧及下侧的区域的远红外线辐射,可以有效地抑制远红外线向塑料基板的射入。上述加热工序中,可以在上述红外线加热炉内,在运送上述塑料基板的同时,向上述涂布膜照射上述红外线,在将上述炉壁当中的以隧道状包围上述塑料基板的运送路径的区域冷却到100℃以下的同时,将上述涂布膜利用上述红外线加热固化。该情况下,由于可以抑制来自上述炉壁当中的包围上述塑料基板的运送路径的区域的远红外线辐射,因此可以进一步减少远红外线向塑料基板的射入。上述红外线加热炉可以在上述红外线加热炉的炉壁与上述塑料基板之间具有至少一个冷却构件,在将上述冷却构件与上述红外线加热炉的炉壁的一部分一起冷却到100℃以下的同时,将上述涂布膜利用上述红外线加热固化。该情况下,由于冷却构件配置于红外线加热炉的炉壁与上述塑料基板之间,因此来自红外线照射部的红外线被冷却构件遮挡,难以到达炉壁。因而,来自该炉壁的远红外线辐射得到抑制。即使红外线射入冷却构件,由于冷却构件被冷却到100℃以下,因此也可以抑制来自冷却构件的远红外线辐射。因而,可以减少远红外线向塑料基板的射入。上述红外线加热炉可以具有在上述塑料基板的厚度方向上分别配置于上侧及下侧的上述冷却构件。该情况下,在加热工序中,在上述塑料基板的厚度方向上分别配置于上侧及下侧的冷却构件被冷却到100℃以下。对于塑料基板而言,通常与厚度方向正交的表面(或背面)的面积大于侧面的面积。由此,如果如上所述,上述塑料基板的上侧及下侧的区域被冷却到100℃以下,来自这些区域的远红外线辐射减少,则可以有效地抑制远红外线向塑料基板的射入。上述加热工序中,可以在上述红外线加热炉内,在运送上述塑料基板的同时向上述涂布膜照射上述红外线,以包围上述塑料基板的运送路径的方式以隧道状形成上述冷却构件。该情况下,由于冷却构件以隧道状形成,包围塑料基板,因此红外线向炉壁的射入得到进一步减少,可以抑制来自炉壁的远红外线辐射。此外,由于以隧道状形成的冷却构件也被冷却到100℃以下,因此来自冷却构件的远红外线辐射也可以得到抑制。由此,远红外线更难以从包围塑料基板的运送路径的区域射入塑料基板。射入上述塑料基板的上述红外线当中的波长范围5.0μm~10.0μm的红外线的量可以为波长范围1.2μm~5.0μm的红外线的量的三分之一以下。在冷却到100℃以下的上述构件中,波长范围5.0μm~10.0μm的红外线(远红外线)的平均吸收率可以为80%以上。由此,有助于塑料基板的温度升高的上述波长范围的红外线被上述构件大量地吸收。此外,由于上述构件被冷却到100℃以下,因此即使远红外线由该构件吸收,也不会产生来自该构件的远红外线辐射。上述加热工序中,可以向上述塑料基板及上述涂布膜的至少一方吹送非活性气体。该情况下,由于塑料基板由非活性气体冷却,因此可以抑制塑料基板的温度升高。上述塑料基板可以呈带状,并且具有挠曲性,且上述塑料基板的长边方向的长度为短边方向的长度的10倍以上。该情况下,例如可以在有机电子元件的制造方法中应用卷对卷方式,能够提高有机电子元件的生产率。作为本专利技术的另一个方面的功能层的制造方法具备:涂布膜形成工序,将具有给定功能的功能层用的涂布液涂布于塑料基板而形成涂布膜;以及加热工序,在红外线加热炉内向上述涂布膜照射红外线而使上述涂布膜加热固化,由此形成上述功能层,上述加热工序中,在将上述红外线加热炉所具有、且在上述塑料基板的周围与上述塑料基板分离地配置的构件冷却到100℃以下的同时,将上述涂布膜利用上述红本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种有机电子元件的制造方法,该有机电子元件的制造方法具备:涂布膜形成工序,将具有给定功能的功能层用的涂布液涂布于塑料基板而形成涂布膜;以及加热工序,在红外线加热炉内向所述涂布膜照射红外线而使所述涂布膜加热固化,由此形成所述功能层,所述加热工序中,在将所述红外线加热炉所具有、且在所述塑料基板的周围与所述塑料基板分离地配置的构件冷却到100℃以下的同时,将所述涂布膜用所述红外线加热固化。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.06.17 JP 2016-1210101.一种有机电子元件的制造方法,该有机电子元件的制造方法具备:涂布膜形成工序,将具有给定功能的功能层用的涂布液涂布于塑料基板而形成涂布膜;以及加热工序,在红外线加热炉内向所述涂布膜照射红外线而使所述涂布膜加热固化,由此形成所述功能层,所述加热工序中,在将所述红外线加热炉所具有、且在所述塑料基板的周围与所述塑料基板分离地配置的构件冷却到100℃以下的同时,将所述涂布膜用所述红外线加热固化。2.根据权利要求1所述的有机电子元件的制造方法,其中,所述涂布液包含具有交联性基团的材料,所述加热工序中,利用所述红外线使所述交联性基团交联,由此将所述涂布膜加热固化。3.根据权利要求1或2所述的有机电子元件的制造方法,其中,所述加热工序中,在将作为所述红外线加热炉所具有的构件的炉壁的一部分冷却到100℃以下的同时,将所述涂布膜用所述红外线加热固化。4.根据权利要求3所述的有机电子元件的制造方法,其中,在将所述炉壁中的所述塑料基板的厚度方向上的上侧及下侧的区域冷却到100℃以下的同时,将所述涂布膜用所述红外线加热固化。5.根据权利要求3或4所述的有机电子元件的制造方法,其中,所述加热工序中,在所述红外线加热炉内,在运送所述塑料基板的同时向所述涂布膜照射所述红外线,在将所述炉壁中的以隧道状包围所述塑料基板的运送路径的区域冷却到100℃以下的同时,将所述涂布膜用所述红外线加热固化。6.根据权利要求3~5中任一项所述的有机电子元件的制造方法,其中,所述红外线加热炉在所述红外线加热炉的炉壁与所述塑料基板之间具有至少一个冷却构件,在将所述冷却构件与所述红外线加热炉的炉壁的一部分一起冷却到100℃以下的同时,将所述涂布膜用所述红外线加热固化。7.根据权利要求1或2所述的有...

【专利技术属性】
技术研发人员:吉冈秀益
申请(专利权)人:住友化学株式会社
类型:发明
国别省市:日本,JP

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