介质残留检测结构、暂存装置及介质处理机制造方法及图纸

本发明专利技术属于介质收纳技术领域，特别涉及一种介质残留检测结构、暂存装置及介质处理机，该介质残留检测结构包括转轴、及套设于转轴上的滚筒组，滚筒组包括第一滚筒、及同轴设置于第一滚筒两侧的第二滚筒与第三滚筒，第一滚筒的第一端面设有沿第一滚筒的轴向延伸的多个第一滚筒柱，第一滚筒的第二端面设有沿第一滚筒的轴向延伸的多个第二滚筒柱，第一滚筒柱与第二滚筒柱对称设置，相邻的第一滚筒柱及相邻的第二滚筒柱之间形成用于供第一检测传感器的第一检测信号通过的检测空间。当第一滚筒上没有介质残留时，第一检测信号可从检测空间通过，当第一滚筒上有介质残留时，介质阻挡第一检测信号通过，从而检测是否有介质残留。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】介质残留检测结构、暂存装置及介质处理机
本专利技术属于介质收纳
，特别涉及一种介质残留检测结构、暂存装置及介质处理机。
技术介绍
在介质处理机中，需要对批量处理的每一介质(比如钞票、支票、纸张等)逐一进行检测，以保证所处理的介质的真实性。在整个处理过程中，需要设置暂存装置对经过检测后的介质进行暂时存储，等待整个处理过程完成后再将暂存装置中的介质放出后输送到指定的位置。现有的暂存装置，介质通过卷带收纳至滚筒表面。由于介质破旧等原因，当收纳至滚筒表面的介质需要输出时，可能会有介质残留在滚筒表面，使得进入至储存箱或输出口的介质的数量与实际所需的数量不符。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种介质残留检测结构，旨在解决现有暂存装置无法检测是否有纸币残留的问题。为解决上述问题，本专利技术提供一种介质残留检测结构，包括第一检测传感器及滚筒组，所述滚筒组包括转轴、第一滚筒、及同轴设置于所述第一滚筒两侧的第二滚筒与第三滚筒，所述第一滚筒的第一端面设有沿所述第一滚筒的轴向延伸的多个第一滚筒柱，所述第一滚筒的第二端面设有沿所述第一滚筒的轴向延伸的多个第二滚筒柱，所述第一滚筒柱与所述第二滚筒柱对称设置，相邻的所述第一滚筒柱及相邻的所述第二滚筒柱之间形成用于供所述第一检测传感器的第一检测信号通过的检测空间。优选的，所述第一检测传感器包括设置于安装架上的发射部及接收部，所述发射部发射的所述第一检测信号可经由所述检测空间被所述接收部接收。优选的，所述介质残留检测结构包括两组第一检测传感器，一组所述第一检测传感器的第一检测信号可由相邻的所述第一滚筒柱之间形成的检测空间通过，另一组所述第一检测传感器的第一检测信号可由相邻的所述第二滚筒柱之间形成的检测空间通过。优选的，所述介质残留检测结构还包括第二检测传感器，所述第二检测传感器用于检测所述第一检测信号是否穿过所述检测空间。优选的，所述介质残留检测结构还包括遮光部，所述遮光部与所述第一滚筒柱及所述第二滚筒柱一一对应地设置于所述滚筒组上，所述遮光部与所述第一滚筒柱及所述第二滚筒柱存在预设相位差，所述遮光部遮挡所述第二检测传感器的第二检测信号时，所述第一检测信号可穿过所述检测空间。优选的，所述第二滚筒及所述第三滚筒分别可拆卸地连接在所述第一滚筒上。优选的，所述介质残留检测结构还包括用于将所述第一滚筒与所述第二滚筒连接的第一连接部，所述第一连接部与所述第一滚筒柱之间形成用于供第一检测信号通过的环形空间，所述第一连接部由所述第一端面向所述第二滚筒延伸，或由所述第二滚筒靠近所述第一滚筒的一端端面向所述第一滚筒延伸，对应地，所述第二滚筒靠近所述第一滚筒的一端端面或所述第一端面设有与所述第一连接部的相适配的第一插接孔。优选的，所述介质残留检测结构还包括用于将所述第一滚筒与所述第三滚筒连接的第二连接部，所述第二连接部由所述第二端面向所述第三滚筒延伸，或由所述第三滚筒靠近所述第一滚筒的一端端面向所述第一滚筒延伸，对应地，所述第三滚筒靠近所述第一滚筒的一端端面或所述第二端面设有与所述第二连接部相适配的第二插接孔。优选的，所述第一连接部及所述第二连接部与所述第一滚筒连接部分的横截面为弓形。优选的，所述介质残留检测结构还包括用于限制所述第一滚筒与所述第二滚筒中的至少一个相对于所述转轴转动的连接件。优选的，所述第一连接部与所述第二滚筒之间设有第一固定部，所述第二连接部与所述第三滚筒之间设有第二固定部，所述连接件分别穿过所述第一固定部及所述第二固定部与所述转轴连接，以限制所述第二滚筒及第三滚筒相对所述转轴旋转。优选的，所述第一滚筒柱的端面与所述第二滚筒的端面抵接，所述第二滚筒柱的端面与所述第三滚筒的端面抵接。优选的，所述第一端面或所述第二端面上设有用于指示所述第一滚筒的安装方向的指示部。优选的，所述指示部为凸出设置于所述第一端面或第二端面的柱体。另外，本专利技术还提供一种暂存装置，包括上述任意一项所述的介质残留检测结构。另外，本专利技术还提供一种介质处理机，包括上述任意一项所述的介质残留检测结构。本专利技术的介质残留检测结构，在第一滚筒的两端面分别设有第一滚筒柱及第二滚筒柱，相邻的第一滚筒柱及相邻的第二滚筒柱之间形成用于供第一检测传感器的第一检测信号通过的检测空间。当第一滚筒上没有介质残留时，第一检测信号可从检测空间通过，当第一滚筒上有介质残留时，介质阻挡第一检测信号从检测空间通过，通过第一检测信号是否被接收可以实现暂存装置及介质处理机的介质残留检测功能。此外，通过将第一滚筒柱及第二滚筒柱对称设置在第一滚筒的两端，可以保证第一滚筒及第二滚筒在第一滚筒的轴向投影面上的投影重合，而不会受到滚筒组安装误差的影响，提高了纸币残留检测的准确性。同时，由于第一滚筒柱及第二滚筒柱均设置于第一滚筒上，简化了第二滚筒及第三滚筒的加工，降低了生产成本。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他实施例的附图。图1为本专利技术一实施例提供的介质处理机的结构示意图；图2为图1所示介质处理机的控制示意图；图3为图1所示介质处理机中暂存装置的结构示意图；图4为图3所示暂存装置的另一视角的结构示意图；图5为本专利技术一实施例中的介质处理机的介质残留检测结构的示意图；图6为本专利技术一实施例中的介质处理机的介质残留检测结构的侧视图；图7为本专利技术一实施例中的介质处理机的介质残留检测结构的示意图；图8为本专利技术一实施例中的介质处理机的滚筒组及转轴部分的爆炸图；图9为本专利技术一实施例中的介质处理机的滚筒组的爆炸图；图10为本专利技术一实施例中的介质处理机的第一检测传感器的第一检测信号未被遮挡的示意图；图11为本专利技术一实施例中的介质处理机的第一检测传感器的第一检测信号被遮挡的示意图；图12为本专利技术一实施例中的介质处理机的第一滚筒的示意图。附图标号说明：1、机架；11、第一机芯；12、第二机芯；13、输入口；14、输出口；2、识别装置；3、暂存装置；31、安装架；311、第一侧板；312、第二侧板；313、第一横板；314、第二横板；32、第一旋转机构；33、第二旋转机构；331、第一滚筒；3311、第一插接孔；3312、第二插接孔；3313、第一滚筒柱；3314、第二滚筒柱；3315、指示部；3316、第一端面；3317、第二端面；332、第二滚筒；3322、第一连接部；3323、第一固定部；33231、第一连接通孔；3324、卷绕段；33241、连接带；3325、收纳段；3326、限位段；333、转轴；3331、螺纹孔；336、连接件；337、第三滚筒；3371、遮光部；3372、第二连接部；3373、第二固定部；33731、第二连接通孔；34、驱动机构；35、卷带；36、导向机构；361、上导向板；362、下导向板；37、输送机构；302、出入口；304、传输通道；38、张紧机构；4、传输装置；5、换向装置；6、储存箱；61、循环储存箱；62、废储存箱；7、控制器；8、第一检测传感器；81、发射部；82、接收部；83、第一检测信号；9、第二检测传感器。具体实施方本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种介质残留检测结构，其特征在于，包括第一检测传感器及滚筒组，所述滚筒组包括转轴、第一滚筒、及同轴设置于所述第一滚筒两侧的第二滚筒与第三滚筒，所述第一滚筒的第一端面设有沿所述第一滚筒的轴向延伸的多个第一滚筒柱，所述第一滚筒的第二端面设有沿所述第一滚筒的轴向延伸的多个第二滚筒柱，所述第一滚筒柱与所述第二滚筒柱对称设置，相邻的所述第一滚筒柱及相邻的所述第二滚筒柱之间形成用于供所述第一检测传感器的第一检测信号通过的检测空间。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2018.06.21 CN 201810645072X1.一种介质残留检测结构，其特征在于，包括第一检测传感器及滚筒组，所述滚筒组包括转轴、第一滚筒、及同轴设置于所述第一滚筒两侧的第二滚筒与第三滚筒，所述第一滚筒的第一端面设有沿所述第一滚筒的轴向延伸的多个第一滚筒柱，所述第一滚筒的第二端面设有沿所述第一滚筒的轴向延伸的多个第二滚筒柱，所述第一滚筒柱与所述第二滚筒柱对称设置，相邻的所述第一滚筒柱及相邻的所述第二滚筒柱之间形成用于供所述第一检测传感器的第一检测信号通过的检测空间。2.如权利要求1所述的介质残留检测结构，其特征在于，所述第一检测传感器包括设置于安装架上的发射部及接收部，所述发射部发射的所述第一检测信号可经由所述检测空间被所述接收部接收。3.如权利要求2所述的介质残留检测结构，其特征在于，所述介质残留检测结构包括两组所述第一检测传感器，一组所述第一检测传感器的第一检测信号可由相邻的所述第一滚筒柱之间形成的检测空间通过，另一组所述第一检测传感器的第一检测信号可由相邻的所述第二滚筒柱之间形成的检测空间通过。4.如权利要求2所述的介质残留检测结构，其特征在于，所述介质残留检测结构还包括第二检测传感器，所述第二检测传感器用于检测所述第一检测信号是否穿过所述检测空间。5.如权利要求4所述的介质残留检测结构，其特征在于，所述介质残留检测结构还包括遮光部，所述遮光部与所述第一滚筒柱及所述第二滚筒柱一一对应地设置于所述滚筒组上，所述遮光部与所述第一滚筒柱及所述第二滚筒柱存在预设相位差，所述遮光部遮挡所述第二检测传感器的第二检测信号时，所述第一检测信号可穿过所述检测空间。6.如权利要求1所述的介质残留检测结构，其特征在于，所述第二滚筒及所述第三滚筒分别可拆卸地连接在所述第一滚筒上。7.如权利要求6所述的介质残留检测结构，其特征在于，所述介质残留检测结构还包括用于将所述第一滚筒与所述第二滚筒连接的第一连接部，所述第一连接部与...

【专利技术属性】
技术研发人员：张凯凯，黄雪，
申请(专利权)人：深圳怡化电脑股份有限公司，深圳市怡化时代科技有限公司，深圳市怡化金融智能研究院，
类型：发明
国别省市：广东,44