电磁烹饪器具和用于电磁烹饪器具的线圈盘及其制造方法技术

本发明专利技术公开了一种电磁烹饪器具和用于电磁烹饪器具的线圈盘及其制造方法，线圈盘包括：支架；线圈，线圈包括本体层，本体层包括：设在支架的一侧表面的化学镀金属层，化学镀金属层镭射处理形成预定形状；电镀金属层，电镀金属层设在化学镀金属层上。根据本发明专利技术实施例的线圈盘可以降低制作成本，工艺更简单，制造更容易，并且可以实现减薄，有利于实现线圈盘的小型化，同时，线圈可以更易于实现各种不同的形状。

Electromagnetic cooking utensils and coil discs for electromagnetic cooking utensils and their manufacturing methods

The invention discloses an electromagnetic cooking utensil and a coil disc for an electromagnetic cooking utensil and a manufacturing method thereof. The coil disc includes a bracket, a coil and a coil comprising a body layer, which comprises an electroless plating metal layer on one side of the bracket, a laser treatment of the electroless plating metal layer to form a predetermined shape, and an electroplating metal layer and an electroplating metal layer on the electroless plating metal layer. The coil disc according to the embodiment of the present invention can reduce the manufacturing cost, has simpler process, is easier to manufacture, can realize thinning, is conducive to realizing the miniaturization of the coil disc, and at the same time, the coil can more easily realize various shapes.

【技术实现步骤摘要】
电磁烹饪器具和用于电磁烹饪器具的线圈盘及其制造方法
本专利技术涉及厨房电器
，更具体地，涉及一种用于电磁烹饪器具的线圈盘、该线圈盘的制造方法和具有该线圈盘的电磁烹饪器具。
技术介绍
在相关技术中，使用IH方式加热的小家电的线圈一般采用绕制漆包线的方式制作。这种绕线工艺复杂容易出现跳线、刮伤、短线等制程不良，而且线圈的形式十分单一。为了配合线圈的绕制，需在搭载线圈的塑料基材上设置很多线槽，设计复杂、开模及改模周期长，成本高。多段IH加热控制的线圈盘是几个部件组合起来的，整个线圈盘组件厚、重，结构十分复杂，这对小家电的小型化及轻量化都是不利的。除此之外，还有采用LDS(激光直接成型)技术来制造线圈盘，但是需要使用专门的材料，而且制备工艺繁琐，产品质量不易控制，线圈盘的结构仍有待改进。
技术实现思路
本专利技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本专利技术提出一种用于电磁烹饪器具的线圈盘，所述线圈盘更易于制造且成本降低。本专利技术还提出了一种具有上述线圈盘的电磁烹饪器具。本专利技术还提出了一种上述线圈盘的制造方法。根据本专利技术第一方面实施例的用于电磁烹饪器具的线圈盘，包括：支架；线圈，所述线圈包括本体层，所述本体层包括：设在所述支架的一侧表面的化学镀金属层，所述化学镀金属层镭射处理形成预定形状；电镀金属层，所述电镀金属层设在所述化学镀金属层上。根据本专利技术实施例的线圈盘可以降低制作成本，工艺更简单，制造更容易，并且可以实现减薄，有利于实现线圈盘的小型化，同时，线圈可以更易于实现各种不同的形状。另外，根据本专利技术上述实施例的线圈盘还可以具有如下附加的技术特征：在本专利技术的一些实施例中，所述化学镀金属层为化学镀铜层。可选地，所述电镀金属层为电镀铜层、电镀银层或电镀金层。根据本专利技术的一些实施例，所述线圈还包括：保护层，所述保护层包覆在所述本体层的外表面上。可选地，所述保护层为金属层、硅树脂层或绝缘漆层。进一步地，所述金属层为电镀镍层、电镀金层或电镀银层。可选地，所述保护层的厚度为5微米-10微米。根据本专利技术的一些实施例，所述化学镀金属层的厚度为5微米-10微米，所述电镀金属层的厚度为200微米-500微米。可选地，所述本体层形成为螺旋形，且线宽为1毫米-3毫米，间距为0.2毫米-1毫米，圈数为25圈-35圈。在本专利技术的一些实施例中，所述支架为塑料支架。进一步地，所述支架由聚碳酸酯和丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚丙烯、聚碳酸酯、聚苯硫醚中的至少一种注塑成型。根据本专利技术第二方面实施例的电磁烹饪器具，包括根据本专利技术实施例的用于电磁烹饪器具的线圈盘。根据本专利技术第三方面实施例的用于电磁烹饪器具的线圈盘的制造方法，包括以下步骤：得到所述支架；对所述支架的表面进行化学镀处理以形成所述化学镀金属层；对所述化学镀金属层进行镭射处理以形成预定形状；对具有预定形状的化学镀金属层进行电镀处理以形成所述电镀金属层，得到所述本体层。可选地，所述化学镀处理包括以下步骤：使用除油液去除所述支架的表面的油污；将所述支架放入粗化液中粗化，以使所述支架的表面粗化；对所述支架的表面进行中和处理；将所述支架放入钯体活化液中进行活化处理；对所述支架进行解胶处理；对所述支架进行化学镀，以形成所述化学镀金属层。可选地，所述除油液为碱性除油液。可选地，去除油污时的处理温度为50℃-70℃。根据本专利技术的一些实施例，所述粗化液为350g/L-450g/L的铬酐和350g/L-400g/L的硫酸。进一步地，粗化时的处理温度为60℃-70℃，处理时间为8min-15min。可选地，采用100ml/L的工业盐进行中和处理。根据本专利技术的一些实施例，所述钯体活化液包括2ml/L-6ml/L的钯活化剂、200g/L-240g/L预浸盐、40ml/L-60ml/L37％的盐酸，波美度≥18。可选地，活化时的处理温度为35℃-45℃，处理时间为8min-15min。根据本专利技术的一些实施例，使用100ml/L37％的盐酸进行解胶处理。进一步地，解胶时的处理温度为35℃-45℃，处理时间为1min-3min。根据本专利技术的一些实施例，在化学镀时，先将支架放入8％-12％的甲醛溶液中浸渍，再将支架放入碱性化学镀槽中进行化学镀。可选地，化学镀时的处理温度为40℃-50℃。可选地，电镀处理的处理温度为20℃-30℃。本专利技术的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本专利技术的实践了解到。附图说明本专利技术的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：图1是根据本专利技术实施例的线圈盘的结构示意图；图2是根据本专利技术实施例的线圈盘的线圈的剖面图。图3是根据本专利技术实施例的线圈盘的制造方法的流程图。附图标记：线圈盘100；支架10；线圈20；本体层210；化学镀金属层211；电镀金属层212；保护层220。具体实施方式下面详细描述本专利技术的实施例，所述实施例的示例在附图中示出。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本专利技术，而不能理解为对本专利技术的限制，本领域的普通技术人员在不脱离本专利技术的原理和宗旨的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本专利技术的范围由权利要求及其等同物限定。在本专利技术的描述中，需要理解的是，术语“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。下面参考附图描述根据本专利技术实施例的用于电磁烹饪器具的线圈盘100。参照图1至图2所示，根据本专利技术一个实施例的线圈盘100可以包括支架10和线圈20，线圈20包括本体层210，本体层210包括化学镀金属层211和电镀金属层212，化学镀金属层211设在支架10的一侧表面上，并且通过镭射处理形成预定形状，使得本体层210可以形成与所需的线圈图案相对应的预定形状。电镀金属层212可设在化学镀金属层211上。这里，线圈图案即线圈所呈现的形状。设有化学电镀层211的支架10的一侧表面可以为支架10的朝向电磁烹饪器具的锅体的一侧表面，也可以为支架10的背向锅体的一侧表面。在支架10的一侧表面设置化学镀金属层211，不仅方便进行化学镀操作处理，而且便于支架10的安装。具体在制造时，可以在支架10上首先化学镀形成化学镀金属层211，然后根据整个产品的尺寸、形状以及功率等实际需求灵活设计线圈图案，通过控制镭射(又称镭雕或激光雕刻)处理工序，制得本体层210所需要的预定形状，不仅可以制造简单的形状，而且也易于制得较复杂的形状，线圈图案可以一次性形成，不会形成拼接图案所具有的错位问题，不仅可以提高美观效果，而且可以保证导电性能。在化学镀金属层211形成预定形状后可以进行电镀形成电镀金属层212，这种采用先化学镀然后再电镀的方式可以降低对支架10的材质要求以及降低制造时间。由此，可以通过化学镀、镭射加电镀的方式制造形成线圈盘100，能够取代传统的绕制漆包线的方式，无需在支架10上设置用于安装漆包线的凹槽或者固定结构，支架10结构更简单，易于制造，有效解决现有结构及制程复杂的问题，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于电磁烹饪器具的线圈盘，其特征在于，包括：支架；线圈，所述线圈包括本体层，所述本体层包括：设在所述支架的一侧表面的化学镀金属层，所述化学镀金属层镭射处理形成预定形状；电镀金属层，所述电镀金属层设在所述化学镀金属层上。

【技术特征摘要】
1.一种用于电磁烹饪器具的线圈盘，其特征在于，包括：支架；线圈，所述线圈包括本体层，所述本体层包括：设在所述支架的一侧表面的化学镀金属层，所述化学镀金属层镭射处理形成预定形状；电镀金属层，所述电镀金属层设在所述化学镀金属层上。2.根据权利要求1所述的用于电磁烹饪器具的线圈盘，其特征在于，所述化学镀金属层为化学镀铜层。3.根据权利要求1所述的用于电磁烹饪器具的线圈盘，其特征在于，所述电镀金属层为电镀铜层、电镀银层或电镀金层。4.根据权利要求1所述的用于电磁烹饪器具的线圈盘，其特征在于，所述线圈还包括：保护层，所述保护层包覆在所述本体层的外表面上。5.根据权利要求4所述的用于电磁烹饪器具的线圈盘，其特征在于，所述保护层为金属层、硅树脂层或绝缘漆层。6.根据权利要求5所述的用于电磁烹饪器具的线圈盘，其特征在于，所述金属层为电镀镍层、电镀金层或电镀银层。7.根据权利要求4所述的用于电磁烹饪器具的线圈盘，其特征在于，所述保护层的厚度为5微米-10微米。8.根据权利要求1所述的用于电磁烹饪器具的线圈盘，其特征在于，所述化学镀金属层的厚度为5微米-10微米，所述电镀金属层的厚度为200微米-500微米。9.根据权利要求1所述的用于电磁烹饪器具的线圈盘，其特征在于，所述本体层形成为螺旋形，且线宽为1毫米-3毫米，间距为0.2毫米-1毫米，圈数为25圈-35圈。10.根据权利要求1所述的用于电磁烹饪器具的线圈盘，其特征在于，所述支架为塑料支架。11.根据权利要求10所述的用于电磁烹饪器具的线圈盘，其特征在于，所述支架由聚碳酸酯和丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚丙烯、聚碳酸酯、聚苯硫醚中的至少一种注塑成型。12.一种电磁烹饪器具，其特征在于，包括根据权利要求1-11中任一项所述的用于电磁烹饪器具的线圈盘。13.一种根据权利要求1-11中任一项所述的用于电磁烹饪器具的线圈盘的制造方法，其特征在于，包括以下步骤：获取所述支架；对所述支架的表面进行化学镀处理以形成所述化学镀金属层；对所述化学镀金属层进行镭...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨玲，曹达华，屈雪平，李康，李洪伟，李兴航，黄维，龚弦，
申请(专利权)人：佛山市顺德区美的电热电器制造有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44