一种阵列基板及其制作方法、显示面板、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术实施例提供一种阵列基板及其制作方法、显示面板、显示装置，涉及显示技术领域，能够解决现有技术中对不同亚像素中的发光功能膜层厚度要求不同的需求；该阵列基板包括设置于衬底基板上的像素定义层，在像素定义层中形成有阵列排布的多个亚像素开口，像素定义层在相邻亚像素开口之间的部分形成为挡墙，像素定义层包括：沿背离衬底基板方向上依次设置的主体定义层和疏液修饰层；在挡墙位置处，疏液修饰层未完全覆盖主体定义层背离衬底基板一侧的表面、且疏液修饰层的边缘到主体定义层的边缘的距离根据亚像素开口内形成的发光功能膜层的厚度不同而不同。

An array substrate and its fabrication method, display panel and display device

The embodiment of the present invention provides an array substrate and its fabrication method, display panel and display device, which relates to the field of display technology, and can meet the different requirements of different sub-pixel light-emitting functional film thickness in the prior art. The array substrate includes a pixel definition layer arranged on the substrate, forming a plurality of sub-pixels arranged in the pixel definition layer. The part of the pixel definition layer between adjacent sub-pixel openings is formed as a barrier. The pixel definition layer includes: the main definition layer and the hydrophobic modification layer arranged in turn along the direction away from the substrate; at the location of the barrier, the hydrophobic modification layer does not completely cover the distance between the main definition layer and the surface on one side of the substrate, and the edge of the hydrophobic modification layer to the edge of the main definition layer. The thickness of the luminescent functional film formed in the sub-pixel opening varies.

【技术实现步骤摘要】
一种阵列基板及其制作方法、显示面板、显示装置
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种阵列基板及其制作方法、显示面板、显示装置。
技术介绍
有机发光二极管(OrganicLightEmittingDiode，简称OLED)显示器因其具有自发光、轻薄、功耗低、高对比度、高色域、可实现柔性显示等优点，已被广泛地应用于包括电脑、手机等电子产品在内的各种电子设备中。现有技术中，在OLED显示面板在制作中，一般要求不同颜色亚像素中的OLED器件的部分功能膜层的厚度不同；例如，在红色亚像素、绿色亚像素、蓝色亚像素中，要求OLED器件的空穴注入层、空穴传输层等膜层的厚度不同，然而现有技术中，采用整面涂布的方式，是无法满足不同亚像素的OLED器件中的部分发光功能膜层的厚度不同的需求。
技术实现思路
本专利技术的实施例提供一种阵列基板及其制作方法、显示面板、显示装置，能够解决现有技术中对不同亚像素中的发光功能膜层厚度要求不同的需求。为达到上述目的，本专利技术的实施例采用如下技术方案：本专利技术实施例提供一种阵列基板，包括设置于衬底基板上的像素定义层，在所述像素定义层中形成有阵列排布的多个亚像素开口，所述像素定义层在相邻亚像素开口之间的部分形成为挡墙，所述像素定义层包括：沿背离所述衬底基板方向上依次设置的主体定义层和疏液修饰层；在所述挡墙位置处，所述疏液修饰层未完全覆盖所述主体定义层背离所述衬底基板一侧的表面、且所述疏液修饰层的边缘到所述主体定义层的边缘的距离根据所述亚像素开口内形成的发光功能膜层的厚度不同而不同。可选的，所述阵列基板包括：红色亚像素开口、绿色亚像素开口、蓝色亚像素开口；所述疏液修饰层在所述红色亚像素开口、所述绿色亚像素开口、所述蓝色亚像素开口的位置处形成的镂空区域的面积分别为：第一镂空面积、第二镂空面积、第三镂空面积；其中，所述第一镂空面积大于所述第二镂空面积；所述第二镂空面积大于所述第三镂空面积。可选的，所述亚像素开口呈矩形，沿所述亚像素开口的宽度方向上，所述疏液修饰层在所述红色亚像素开口、所述绿色亚像素开口、所述蓝色亚像素开口两侧的边缘之间的距离分别为：第一距离、第二距离、第三距离；其中，所述第一距离大于所述第二距离，所述第二距离大于所述第三距离。可选的，所述主体定义层为亲液层。可选的，所述疏液修饰层主要采用氟化甲基丙烯酸、氟化丙烷、氟化芳香烃、氟化聚酰亚胺中的一种或多种材料形成。本专利技术实施例另一方面还提供一种阵列基板的制作方法，包括：在衬底基板上形成第一膜层；在所述第一膜层上形成具有疏液性的第二膜层；其中，所述第二膜层在每一预形成挡墙的位置处，与所述第一膜层均具有交叠区域，且至少在部分预形成挡墙的位置处，所述第二膜层与所述第一膜层未完全交叠，且在所述预形成挡墙的位置处，所述第二膜层与所述第一膜层未交叠的区域大小，根据待形成的亚像素开口内的功能膜层的厚度而定；在依次设置的所述第一膜层和所述第二膜层上，形成多个亚像素开口，以形成主要由挡墙构成的像素定义层。可选的，所述在所述第一膜层上形成第二膜层包括：采用喷墨打印工艺在所述第一膜层上形成第二膜层。可选的，所述阵列基板的制作方法还包括：在所述像素定义层上，采用旋涂或者狭缝涂布工艺形成有机发光二极管中的一个或者多个发光功能膜层。本专利技术实施例另一方面还提供一种显示面板，包括前述的阵列基板。本专利技术实施例另一方面还提供一种显示装置，包括前述的显示面板。本专利技术实施例提供一种阵列基板及其制作方法、显示面板、显示装置，该阵列基板包括设置于衬底基板上的像素定义层，在像素定义层中形成有阵列排布的多个亚像素开口，像素定义层在相邻亚像素开口之间的部分形成为挡墙，像素定义层包括：沿背离衬底基板方向上依次设置的主体定义层和疏液修饰层；在挡墙位置处，疏液修饰层未完全覆盖主体定义层背离衬底基板一侧的表面、且疏液修饰层的边缘到主体定义层的边缘的距离根据亚像素开口内形成的发光功能膜层的厚度不同而不同。综上所述，本专利技术中设置疏液修饰层未完全覆盖主体定义层的上表面，在保证每一挡墙的上表面均具有部分位于疏液修饰层的疏液区，以便后续制作的发光功能膜层能够在疏液区断开(以形成位于不同开口的发光功能膜层)的同时，部分挡墙的上表面除了包括疏液区以外，还包括部分位于主体定义层中的区域(也即调节区)，从而通过设置调节区位置以及相对于疏液区的占比大小，进而可以达到控制亚像素开口内形成的发光功能膜层的厚度不同的目的。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术实施例提供的一种阵列基板的结构示意图；图2为本专利技术实施例提供的另一种阵列基板的结构示意图；图3为本专利技术实施例提供的另一种阵列基板的制作方法流程示意图；图4为本专利技术实施例提供的另一种阵列基板的制作过程中的示意图之一；图5为本专利技术实施例提供的另一种阵列基板的制作过程中的示意图之一；图6为本专利技术实施例提供的另一种阵列基板的制作过程中的示意图之一。附图标记：01-阵列基板；10-衬底基板；20-像素定义层；21-主体定义层；22-疏液修饰层；23-亚像素开口；200-挡墙；201-第一膜层；202-第二膜层；30-发光功能膜层；A1-疏液区；A2-调节区。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。除非另外定义，本专利技术实施例中使用的技术术语或者科学术语应当为本专利技术所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本专利技术实施例中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。首先，对于自发光显示装置中自发光单元(例如，有机发光二极光)中的发光功能膜层的制作，一般均需要通过先制作像素定义层(PixelDefineLayer，PDL)对发光功能膜层的位置进行界定(像素定义层中相邻的挡墙之间的区域构成亚像素的开口区)，然后在制作发光功能膜层。其中，像素定义层中形成有阵列排布的多个亚像素开口，且在相邻亚像素开口之间的部分形成为挡墙(Bank)，并且在挡墙的上表面(也即挡墙背离衬底基板一侧的表面)一般由疏液材料构成，这样一来，在挡墙的上表面采用旋涂(SpinCoating)或者狭缝涂布(SlitCoating)等方式整层涂布发光功能层(此时为液态)时，在挡墙的上表面疏水作用下，功能层在各挡墙的上表面位置处分开，以形成位于本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种阵列基板，包括设置于衬底基板上的像素定义层，在所述像素定义层中形成有阵列排布的多个亚像素开口，所述像素定义层在相邻亚像素开口之间的部分形成为挡墙，其特征在于，所述像素定义层包括：沿背离所述衬底基板方向上依次设置的主体定义层和疏液修饰层；在所述挡墙位置处，所述疏液修饰层未完全覆盖所述主体定义层背离所述衬底基板一侧的表面、且所述疏液修饰层的边缘到所述主体定义层的边缘的距离根据所述亚像素开口内形成的发光功能膜层的厚度不同而不同。

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板，包括设置于衬底基板上的像素定义层，在所述像素定义层中形成有阵列排布的多个亚像素开口，所述像素定义层在相邻亚像素开口之间的部分形成为挡墙，其特征在于，所述像素定义层包括：沿背离所述衬底基板方向上依次设置的主体定义层和疏液修饰层；在所述挡墙位置处，所述疏液修饰层未完全覆盖所述主体定义层背离所述衬底基板一侧的表面、且所述疏液修饰层的边缘到所述主体定义层的边缘的距离根据所述亚像素开口内形成的发光功能膜层的厚度不同而不同。2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板包括：红色亚像素开口、绿色亚像素开口、蓝色亚像素开口；所述疏液修饰层在所述红色亚像素开口、所述绿色亚像素开口、所述蓝色亚像素开口的位置处形成的镂空区域的面积分别为：第一镂空面积、第二镂空面积、第三镂空面积；其中，所述第一镂空面积大于所述第二镂空面积；所述第二镂空面积大于所述第三镂空面积。3.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述亚像素开口呈矩形，沿所述亚像素开口的宽度方向上，所述疏液修饰层在所述红色亚像素开口、所述绿色亚像素开口、所述蓝色亚像素开口两侧的边缘之间的距离分别为：第一距离、第二距离、第三距离；其中，所述第一距离大于所述第二距离，所述第二距离大于所述第三距离。4.根据权利要求1所述的阵列基板，...

【专利技术属性】
技术研发人员：侯文军，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11