光学补偿结构制造技术

本发明专利技术涉及一种光学补偿结构，包括基板、阻挡层以及第一涂层。阻挡层位于基板上。阻挡层具有第一折射区及与第一折射区相连接的第二折射区。第二折射区的折射率大于第一折射区的折射率。第一涂层覆盖于部分的第二折射区上。基于上述，本发明专利技术可以对图案化后的基板、涂层及/或黏着层提供光学补偿，以改善光学视差问题。

Optical Compensation Structure

The invention relates to an optical compensation structure, comprising a substrate, a barrier layer and a first coating. The barrier layer is located on the substrate. The barrier layer has a first refractive region and a second refractive region connected with the first refractive region. The refractive index of the second refractive region is larger than that of the first refractive region. The first coating covers part of the second refractive region. Based on the above, the present invention can provide optical compensation for patterned substrates, coatings and/or adhesive layers to improve optical parallax.

【技术实现步骤摘要】
光学补偿结构
本专利技术涉及一种光学结构领域，特别涉及一种光学补偿结构。
技术介绍
随着电子技术的高度发展，电子产品不断推陈出新。电子产品为了可应用于不同领域，可弯曲、轻薄以及外型不受限的特性逐渐受到重视。也就是说，电子产品逐渐被要求需要依据不同的应用方式以及应用环境而有不同的外型。一般来说，会将电子产品中的基板(也称衬底，substrate)、涂层及/或黏着层加以图案化，以使电子产品具有柔韧性、可弯曲性或可折叠性。然而，图案化后的基板、涂层及/或黏着层在使用上可能会产生的光学视差，进而导致电子产品的视觉效果不佳。因此，如何降低图案化的基板、涂层及/或黏着层所产生的光学视差，以提升视觉效果是相当重要的课题。
技术实现思路
本专利技术实施例提供一种光学补偿结构，其可以改善光学视差问题。具体地说，本专利技术公开了一种光学补偿结构，其中包括：基板；阻挡层，位于所述基板上，其中所述阻挡层具有第一折射区及与所述第一折射区相连接的第二折射区，所述第二折射区的折射率大于所述第一折射区的折射率；以及第一涂层，覆盖于部分的所述第二折射区上。所述光学补偿结构，其中所述第一涂层与部分所述阻挡层接触。所述光学补偿结构，其中还包括第二涂层，其中所述第一涂层位于所述第二涂层与所述阻挡层之间。所述光学补偿结构，其中所述第二涂层与所述第一涂层接触。所述光学补偿结构，其中还包括第三涂层，覆盖于所述阻挡层的部分所述第二折射区上，其中所述第一涂层与所述第三涂层位于所述第二涂层的相对侧，且所述第三涂层与所述第一涂层不重叠。所述光学补偿结构，其中还包括第二涂层，所述第二涂层与未被所述第一涂层覆盖的其余部分的所述阻挡层接触。所述光学补偿结构，其中还包括弹性层，所述弹性层与所述第一涂层接触，且所述第一涂层的杨氏模量大于所述弹性层的杨氏模量。所述光学补偿结构，其中所述弹性层还与未被所述第一涂层覆盖的其余部分的所述阻挡层接触。所述光学补偿结构，其中还包括第二涂层，所述第二涂层与所述弹性层接触。所述光学补偿结构，其中还包括第二涂层，所述第二涂层位于所述第一涂层与所述阻挡层之间，且所述第二涂层与所述阻挡层接触。所述光学补偿结构，其中还包括弹性层，所述第一涂层的杨氏模量大于所述弹性层的杨氏模量，且所述第一涂层与部分的所述第二涂层接触，所述弹性层与未被所述第一涂层覆盖的其余部分的所述第二涂层接触。所述光学补偿结构，其中还包括弹性层，所述第一涂层的杨氏模量大于所述弹性层的杨氏模量，且所述弹性层位于所述第一涂层与所述阻挡层之间，所述第一涂层与所述弹性层接触。所述光学补偿结构，其中所述阻挡层具有相对的第一面及第二面，所述第二折射区自所述第一面向内延伸，且所述第二面及部分的所述第一面位于所述第一折射区。所述光学补偿结构，其中所述阻挡层还具有嵌于所述第一折射区内的第三折射区，所述第三折射区的折射率大于所述第一折射区的折射率，且所述第三折射区与所述第二折射区重叠。所述光学补偿结构，其中所述基板具有彼此相连的第一区与第二区，所述第一区的可弯曲度大于所述第二区的可弯曲度，且对应于所述第一区设置的部分所述第一涂层具有多个彼此分离的条状结构或岛状结构。所述光学补偿结构，其中还包括电子元件层，位于所述阻挡层与所述基板之间。本专利技术还提出了一种光学补偿结构，其中包括：基板；阻挡层，位于所述基板上，其中所述阻挡层具有第一折射区及与所述第一折射区相连接的第二折射区，所述第二折射区的折射率大于所述第一折射区的折射率；第一涂层，具有第一涂层部分及与所述第一涂层部分相连接的第二涂层部分，其中所述第一涂层部分覆盖于所述第二折射区以外的区域上，所述第二涂层部分覆盖于所述第二折射区上，且所述第一涂层部分的厚度大于所述第二涂层部分的厚度；以及第二涂层，位于所述第一涂层与所述阻挡层之间，且所述第二涂层与所述阻挡层接触。所述光学补偿结构，其中所述第二涂层具有第三涂层部分及与所述第三涂层部分相连接的第四涂层部分，其中所述第三涂层部分覆盖于所述第二折射区以外的区域上，所述第四涂层部分覆盖于所述第二折射区上，且所述第三涂层部分的厚度小于所述第四涂层部分的厚度。所述光学补偿结构，其中还包括弹性层，其中所述弹性层覆盖于所述第二折射区上。本专利技术还提出了一种光学补偿结构，其中包括：基板；阻挡层，具有第一折射区及与所述第一折射区相连接的第二折射区，所述第二折射区的折射率大于所述第一折射区的折射率；第一黏着层，位于所述阻挡层与所述基板之间，其中所述第二折射区对应于所述第一黏着层分布；以及第二黏着层，位于所述阻挡层与所述基板之间，且所述第一黏着层与所述第二黏着层不重叠。基于上述，本专利技术实施例可以对图案化后的基板、涂层及/或黏着层提供光学补偿，以改善光学视差问题。附图说明图1为依照本专利技术第一实施例的光学补偿结构的剖面示意图；图2为依照本专利技术第二实施例的光学补偿结构的剖面示意图；图3为依照本专利技术第三实施例的光学补偿结构的剖面示意图；图4为依照本专利技术第四实施例的光学补偿结构的剖面示意图；图5为依照本专利技术第五实施例的光学补偿结构的剖面示意图；图6为依照本专利技术第六实施例的光学补偿结构的剖面示意图；图7为依照本专利技术第七实施例的光学补偿结构的剖面示意图；图8为依照本专利技术第八实施例的光学补偿结构的剖面示意图；图9为依照本专利技术第九实施例的光学补偿结构的剖面示意图；图10为依照本专利技术第十实施例的光学补偿结构的剖面示意图；图11为依照本专利技术第十一实施例的光学补偿结构的剖面示意图；图12为依照本专利技术第十二实施例的光学补偿结构的剖面示意图；图13为依照本专利技术第十三实施例的光学补偿结构的剖面示意图；图14为依照本专利技术第十四实施例的光学补偿结构的剖面示意图；图15为依照本专利技术第十五实施例的光学补偿结构的剖面示意图；图16为依照本专利技术第十六实施例的光学补偿结构的剖面示意图；图17为依照本专利技术第十七实施例的光学补偿结构的剖面示意图；图18为依照本专利技术第十八实施例的光学补偿结构的剖面示意图；图19为依照本专利技术第十九实施例的光学补偿结构的剖面示意图；图20为依照本专利技术第二十实施例的光学补偿结构的剖面示意图；图21为依照本专利技术第二十一实施例的光学补偿结构的剖面示意图；图22为依照本专利技术第二十二实施例的光学补偿结构的剖面示意图；图23为依照本专利技术第二十三实施例的光学补偿结构的剖面示意图；图24为依照本专利技术第二十四实施例的光学补偿结构的剖面示意图；图25为依照本专利技术第二十五实施例的光学补偿结构的剖面示意图；图26为依照本专利技术第二十六实施例的光学补偿结构的剖面示意图。符号说明：110、2010：基板；2220：第一基板；2221：第一基板部分；2222：第二基板部分；2230、2330：第二基板；2331：第三基板部分；2332：第四基板部分；2230a：基板开口；T1：第一基板厚度；T2：第二基板厚度；T3：第三基板厚度；T4：第四基板厚度；112：电子元件层；N1：第一折射区；N2：第二折射区；N2a：第一折射部分；N2b：第二折射部分；N3：第三折射区；150、250、1150、1850：第一涂层；251、1851：第一涂层部分；252、1852：第二涂层部分；150a：涂层开口；361、661、961、1861：第三涂层部分；H1：第一涂层厚度；362、662、9本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光学补偿结构，其特征在于，包括：基板；阻挡层，位于所述基板上，其中所述阻挡层具有第一折射区及与所述第一折射区相连接的第二折射区，所述第二折射区的折射率大于所述第一折射区的折射率；以及第一涂层，覆盖于部分的所述第二折射区上。

【技术特征摘要】
2017.07.26 TW 1061251391.一种光学补偿结构，其特征在于，包括：基板；阻挡层，位于所述基板上，其中所述阻挡层具有第一折射区及与所述第一折射区相连接的第二折射区，所述第二折射区的折射率大于所述第一折射区的折射率；以及第一涂层，覆盖于部分的所述第二折射区上。2.如权利要求1所述的光学补偿结构，其特征在于，所述第一涂层与部分所述阻挡层接触。3.如权利要求2所述的光学补偿结构，其特征在于，还包括第二涂层，其中所述第一涂层位于所述第二涂层与所述阻挡层之间。4.如权利要求3所述的光学补偿结构，其特征在于，所述第二涂层与所述第一涂层接触。5.如权利要求4所述的光学补偿结构，其特征在于，还包括第三涂层，覆盖于所述阻挡层的部分所述第二折射区上，其中所述第一涂层与所述第三涂层位于所述第二涂层的相对侧，且所述第三涂层与所述第一涂层不重叠。6.如权利要求2所述的光学补偿结构，其特征在于，还包括第二涂层，所述第二涂层与未被所述第一涂层覆盖的其余部分的所述阻挡层接触。7.如权利要求2所述的光学补偿结构，其特征在于，还包括弹性层，所述弹性层与所述第一涂层接触，且所述第一涂层的杨氏模量大于所述弹性层的杨氏模量。8.如权利要求7所述的光学补偿结构，其特征在于，所述弹性层还与未被所述第一涂层覆盖的其余部分的所述阻挡层接触。9.如权利要求7所述的光学补偿结构，其特征在于，还包括第二涂层，所述第二涂层与所述弹性层接触。10.如权利要求1所述的光学补偿结构，其特征在于，还包括第二涂层，所述第二涂层位于所述第一涂层与所述阻挡层之间，且所述第二涂层与所述阻挡层接触。11.如权利要求10所述的光学补偿结构，其特征在于，还包括弹性层，所述第一涂层的杨氏模量大于所述弹性层的杨氏模量，且所述第一涂层与部分的所述第二涂层接触，所述弹性层与未被所述第一涂层覆盖的其余部分的所述第二涂层接触。12.如权利要求1所述的光学补偿结构，其特征在于，还包括弹性层，所述第一涂层的杨氏模量大于所述弹性层的杨氏模量，且所述弹性层位于所述第一涂层与所述阻挡层之间，所述第一涂层与所述弹性层接触。13.如权利要求1所...

【专利技术属性】
技术研发人员：张志嘉，张凱铭，陈君阁，
申请(专利权)人：财团法人工业技术研究院，创智智权管理顾问股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾,71