一种取代的含氮杂芳环甲酰胺衍生物及其除草组合物和用途制造技术

本发明专利技术属于农药技术领域，具体涉及一种取代的含氮杂芳环甲酰胺衍生物及其除草组合物和用途。所述取代的含氮杂芳环甲酰胺衍生物，其结构式如下：

A substituted aza-containing heteroaromatic cycloformamide derivative and its herbicide composition and use

The invention belongs to the technical field of pesticides, in particular to a substituted nitrogen-containing heteroaromatic cyclic formamide derivative and its herbicide composition and use. The substituted aza-containing heteroaromatic cycloformamide derivatives have the following structural formulas:

【技术实现步骤摘要】
一种取代的含氮杂芳环甲酰胺衍生物及其除草组合物和用途
本专利技术属于农药
，具体涉及一种取代的含氮杂芳环甲酰胺衍生物及其除草组合物和用途。
技术介绍
杂草的防治是实现高效农业过程中一个至关重要的环节，目前市场上的吡啶/嘧啶甲酸类除草剂种类多样，专利WO2003/011853公开了采用如下通式Ⅰ所示的6-芳基-4-氨基吡啶甲酸酯及其衍生物作为除草剂：WO2005/063721A1、WO2007/082076A1、US7,863,220B2、US7,300,907B2、US7,642,220B2和US7,786,044B2公开了某些6-氨基-2-取代的-嘧啶-4-甲酸和其衍生物及其作为除草剂的用途。由于市场的不断扩大、杂草的抗性、药物的使用寿命以及药物的经济性等问题以及人们对环境的日益重视，需要科学家们不断研究进而开发出新的高效、安全、经济以及具有不同作用方式的除草剂品种。
技术实现思路
基于此，本专利技术提供了一种取代的含氮杂芳环甲酰胺衍生物及其除草组合物和用途。所述取代的含氮杂芳环甲酰胺衍生物及其除草组合物具有优异的除草活性和作物选择性。本专利技术采用的技术方案如下：一种取代的含氮杂芳环甲酰胺衍生物，其结构式如下：式中，M代表Het选自五元不饱和环，该环上除含有1-位上的N原子外，还含有1-3个以下原子或基团作为环的组成部分：NRb；Ra选自以下基团中的一个或多个基团：氢，卤素，硝基，氰基，羟基，羧基，氨基，巯基，甲酰基，含有或不含有卤素的烷基、烯基、炔基、环烷基、烯基烷基、炔基烷基、环烷基烷基、烷氧基、烷硫基、烷氧基烷基、烷硫基烷基、烷基羰基、烷氧基羰基、烷基亚硫酰基、烷基磺酰基、烷基氨基、二烷基氨基、烷基酰氧基以及未取代或取代的芳基、杂芳基、芳基烷基、杂芳基烷基、芳基氧基、杂芳基氧基；或者相邻两个Ra一起形成未取代或取代的-CH＝CH-CH＝CH-、-CH2CH2CH2CH2-、-N＝CH-CH＝CH-、-CH＝N-CH＝CH-基团；Rb代表氢，烷基；Q代表N或C-R”；其中，R”代表氢，卤素，氰基，含有或不含有卤素的烷基、烷氧基、烯基、炔基、环烷基，以及未取代或取代的芳基、杂芳基；X代表卤素，含有或不含有卤素的烷基、烯基、炔基、环烷基、烷氧基、烷基氨基、二烷基氨基，未取代或取代的芳基、杂芳基；Y代表硝基或NR1R2，其中R1代表H，任选地被1-2个R11取代的烷基、烯基或炔基，未取代或取代的芳基、杂芳基，-COR12，硝基，OR13，SO2R14，NR15R16，N＝CR17R18，烷基氨基甲酰基，二烷基氨基甲酰基，三烷基甲硅烷基或二烷基膦酰基；R2代表H，任选地被1-2个R21取代的烷基或-COR22；或者NR1R2代表N＝CR31NR32R33，N＝CR34OR35，未取代或被1-2个独立选自卤素、烷基、烷氧基、卤代烷氧基、烷硫基、卤代烷硫基、氨基、烷基氨基、二烷基氨基、烷氧基羰基中的基团所取代的不含有或含有氧原子、硫原子或其它氮原子的5-或6-元饱和或不饱和环；其中R11、R21独立地代表卤素，羟基，烷氧基，卤代烷氧基，烷硫基，卤代烷硫基，氨基、烷基氨基，二烷基氨基，烷氧基羰基，未取代或取代的芳基、杂芳基；R12、R22独立地代表H、烷基、卤代烷基、烷氧基、苯基、苯氧基或苄氧基；R13代表H、烷基、卤代烷基、苯基、苄基或CHR41C(O)OR42；R41代表H、烷基或烷氧基；R42代表H、烷基或苄基；R14代表烷基、卤代烷基；R15代表H、烷基、甲酰基、烷基羰基、卤代烷基羰基、烷氧基羰基、苯基羰基、苯氧基羰基或苄氧基羰基；R16代表H、烷基；R17代表H、烷基、未取代或被卤素、烷基、烷氧基中的1-3个基团所取代的苯基；R18代表H、烷基；或N＝CR17R18代表R31、R34分别独立地代表H或烷基；R32、R33分别独立地代表H或烷基；或者NR32R33代表不含有或含有氧原子、硫原子或其它氮原子的5-或6-元饱和或不饱和环；R35代表烷基；Z代表氢，卤素，氰基，硝基，氨基，羟基，羧基，巯基，甲酰基，含有或不含有卤素的烷基、环烷基、环烷基烷基、炔基、烷氧基、烷硫基、烷基氨基、二烷基氨基、烷氧基烷基、烷硫基烷基、烷基羰基、烷氧基羰基、烷基酰氧基、烷基亚硫酰基、烷基磺酰基、-S-CN、R51R52R53Si-(O)m-(CH2)n-、R51R52R53Si-CR54＝CR55-，以及未取代或被选自卤素、氰基、环烷基、烷基羰基、烷氧基羰基、烷氧基、烷硫基、烷基亚硫酰基、烷基磺酰基中的至少一个基团所取代的烯基及其环氧化物，未取代或取代的芳基、杂芳基、芳基烷基、杂芳基烷基、芳基氧基、杂芳基氧基；其中，R51、R52、R53分别独立地代表烷基、环烷基、卤代烷基、卤代环烷基、未取代或取代的苯基、烷氧基、卤代烷氧基、羟基；R54代表氢、卤素、烷基、卤代烷基；R55代表氢、卤素；m代表0或1，n代表0～8之间的整数。优选地，M代表Het选自五元不饱和环，该环上除含有1-位上的N原子外，还含有1、2或3个以下原子或基团作为环的组成部分：NRb；Ra选自以下基团中的一个或多个基团：氢，卤素，硝基，氰基，羟基，羧基，氨基，巯基，甲酰基，含有或不含有卤素的C1-C8烷基、C2-C8烯基、C2-C8炔基、C3-C8环烷基、C2-C8烯基C1-C8烷基、C2-C8炔基C1-C8烷基、C3-C8环烷基C1-C8烷基、C1-C8烷氧基、C1-C8烷硫基、C1-C8烷氧基C1-C8烷基、C1-C8烷硫基C1-C8烷基、C1-C8烷基羰基、C1-C8烷氧基羰基、C1-C8烷基亚硫酰基、C1-C8烷基磺酰基、C1-C8烷基氨基、二C1-C8烷基氨基、C1-C8烷基酰氧基以及未取代或取代的芳基、杂芳基、芳基C1-C8烷基、杂芳基C1-C8烷基、芳基氧基、杂芳基氧基；或者相邻两个Ra一起形成未取代或被选自卤素，硝基，氰基，羟基，羧基，氨基，巯基，甲酰基，含有或不含有卤素的烷基、烯基、炔基、环烷基、环烷基烷基、烷氧基、烷硫基、烷氧基烷基、烷硫基烷基、烷基羰基、烷氧基羰基、烷基亚硫酰基、烷基磺酰基、烷基氨基、二烷基氨基、烷基酰氧基，以及未取代或取代的芳基、杂芳基、芳基烷基、杂芳基烷基、芳基氧基、杂芳基氧基中的至少一个基团所取代的-CH＝CH-CH＝CH-、-CH2CH2CH2CH2-、-N＝CH-CH＝CH-、-CH＝N-CH＝CH-基团；Rb代表氢，C1-C8烷基；Q代表N或C-R”；其中，R”代表氢，卤素，氰基，含有或不含有卤素的C1-C8烷基、C1-C8烷氧基、C2-C8烯基、C2-C8炔基、C3-C8环烷基，以及未取代或取代的芳基、杂芳基；X代表卤素，含有或不含有卤素的C1-C8烷基、C2-C8烯基、C2-C8炔基、C3-C8环烷基、C1-C8烷氧基、C1-C8烷基氨基、二C1-C8烷基氨基，未取代或取代的芳基、杂芳基；Y代表硝基或NR1R2，其中R1代表H，任选地被1-2个R11取代的C1-C8烷基、C2-C8烯基或C2-C8炔基，未取代或未取代或取代的芳基、杂芳基，-COR12，硝基，OR13，SO2R14，NR15R16，N＝CR17R18，C1-C8烷基氨基甲酰基，二C1-C8烷基氨基甲酰基，三C1-C8烷基甲硅烷基或本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种取代的含氮杂芳环甲酰胺衍生物，其结构式如下：

【技术特征摘要】
1.一种取代的含氮杂芳环甲酰胺衍生物，其结构式如下：式中，M代表Het选自五元不饱和环，该环上除含有1-位上的N原子外，还含有1-3个以下原子或基团作为环的组成部分：NRb；Ra选自以下基团中的一个或多个基团：氢，卤素，硝基，氰基，羟基，羧基，氨基，巯基，甲酰基，含有或不含有卤素的烷基、烯基、炔基、环烷基、烯基烷基、炔基烷基、环烷基烷基、烷氧基、烷硫基、烷氧基烷基、烷硫基烷基、烷基羰基、烷氧基羰基、烷基亚硫酰基、烷基磺酰基、烷基氨基、二烷基氨基、烷基酰氧基以及未取代或取代的芳基、杂芳基、芳基烷基、杂芳基烷基、芳基氧基、杂芳基氧基；或者相邻两个Ra一起形成未取代或取代的-CH＝CH-CH＝CH-、-CH2CH2CH2CH2-、-N＝CH-CH＝CH-、-CH＝N-CH＝CH-基团；Rb代表氢，烷基；Q代表N或C-R”；其中，R”代表氢，卤素，氰基，含有或不含有卤素的烷基、烷氧基、烯基、炔基、环烷基，以及未取代或取代的芳基、杂芳基；X代表卤素，含有或不含有卤素的烷基、烯基、炔基、环烷基、烷氧基、烷基氨基、二烷基氨基，未取代或取代的芳基、杂芳基；Y代表硝基或NR1R2，其中R1代表H，任选地被1-2个R11取代的烷基、烯基或炔基，未取代或取代的芳基、杂芳基，-COR12，硝基，OR13，SO2R14，NR15R16，N＝CR17R18，烷基氨基甲酰基，二烷基氨基甲酰基，三烷基甲硅烷基或二烷基膦酰基；R2代表H，任选地被1-2个R21取代的烷基或-COR22；或者NR1R2代表N＝CR31NR32R33，N＝CR34OR35，未取代或被1-2个独立选自卤素、烷基、烷氧基、卤代烷氧基、烷硫基、卤代烷硫基、氨基、烷基氨基、二烷基氨基、烷氧基羰基中的基团所取代的不含有或含有氧原子、硫原子或其它氮原子的5-或6-元饱和或不饱和环；其中R11、R21独立地代表卤素，羟基，烷氧基，卤代烷氧基，烷硫基，卤代烷硫基，氨基、烷基氨基，二烷基氨基，烷氧基羰基，未取代或取代的芳基、杂芳基；R12、R22独立地代表H、烷基、卤代烷基、烷氧基、苯基、苯氧基或苄氧基；R13代表H、烷基、卤代烷基、苯基、苄基或CHR41C(O)OR42；R41代表H、烷基或烷氧基；R42代表H、烷基或苄基；R14代表烷基、卤代烷基；R15代表H、烷基、甲酰基、烷基羰基、卤代烷基羰基、烷氧基羰基、苯基羰基、苯氧基羰基或苄氧基羰基；R16代表H、烷基；R17代表H、烷基、未取代或被卤素、烷基、烷氧基中的1-3个基团所取代的苯基；R18代表H、烷基；或N＝CR17R18代表R31、R34分别独立地代表H或烷基；R32、R33分别独立地代表H或烷基；或者NR32R33代表不含有或含有氧原子、硫原子或其它氮原子的5-或6-元饱和或不饱和环；R35代表烷基；Z代表氢，卤素，氰基，硝基，氨基，羟基，羧基，巯基，甲酰基，含有或不含有卤素的烷基、环烷基、环烷基烷基、炔基、烷氧基、烷硫基、烷基氨基、二烷基氨基、烷氧基烷基、烷硫基烷基、烷基羰基、烷氧基羰基、烷基酰氧基、烷基亚硫酰基、烷基磺酰基、-S-CN、R51R52R53Si-(O)m-(CH2)n-、R51R52R53Si-CR54＝CR55-，以及未取代或被选自卤素、氰基、环烷基、烷基羰基、烷氧基羰基、烷氧基、烷硫基、烷基亚硫酰基、烷基磺酰基中的至少一个基团所取代的烯基及其环氧化物，未取代或取代的芳基、杂芳基、芳基烷基、杂芳基烷基、芳基氧基、杂芳基氧基；其中，R51、R52、R53分别独立地代表烷基、环烷基、卤代烷基、卤代环烷基、未取代或取代的苯基、烷氧基、卤代烷氧基、羟基；R54代表氢、卤素、烷基、卤代烷基；R55代表氢、卤素；m代表0或1，n代表0～8之间的整数。2.根据权利要求1所述的一种取代的含氮杂芳环甲酰胺衍生物，其特征在于，M代表Het选自五元不饱和环，该环上除含有1-位上的N原子外，还含有1、2或3个以下原子或基团作为环的组成部分：NRb；Ra选自以下基团中的一个或多个基团：氢，卤素，硝基，氰基，羟基，羧基，氨基，巯基，甲酰基，含有或不含有卤素的C1-C8烷基、C2-C8烯基、C2-C8炔基、C3-C8环烷基、C2-C8烯基C1-C8烷基、C2-C8炔基C1-C8烷基、C3-C8环烷基C1-C8烷基、C1-C8烷氧基、C1-C8烷硫基、C1-C8烷氧基C1-C8烷基、C1-C8烷硫基C1-C8烷基、C1-C8烷基羰基、C1-C8烷氧基羰基、C1-C8烷基亚硫酰基、C1-C8烷基磺酰基、C1-C8烷基氨基、二C1-C8烷基氨基、C1-C8烷基酰氧基以及未取代或取代的芳基、杂芳基、芳基C1-C8烷基、杂芳基C1-C8烷基、芳基氧基、杂芳基氧基；或者相邻两个Ra一起形成未取代或被选自卤素，硝基，氰基，羟基，羧基，氨基，巯基，甲酰基，含有或不含有卤素的烷基、烯基、炔基、环烷基、环烷基烷基、烷氧基、烷硫基、烷氧基烷基、烷硫基烷基、烷基羰基、烷氧基羰基、烷基亚硫酰基、烷基磺酰基、烷基氨基、二烷基氨基、烷基酰氧基，以及未取代或取代的芳基、杂芳基、芳基烷基、杂芳基烷基、芳基氧基、杂芳基氧基中的至少一个基团所取代的-CH＝CH-CH＝CH-、-CH2CH2CH2CH2-、-N＝CH-CH＝CH-、-CH＝N-CH＝CH-基团；Rb代表氢，C1-C8烷基；Q代表N或C-R”；其中，R”代表氢，卤素，氰基，含有或不含有卤素的C1-C8烷基、C1-C8烷氧基、C2-C8烯基、C2-C8炔基、C3-C8环烷基，以及未取代或取代的芳基、杂芳基；X代表卤素，含有或不含有卤素的C1-C8烷基、C2-C8烯基、C2-C8炔基、C3-C8环烷基、C1-C8烷氧基、C1-C8烷基氨基、二C1-C8烷基氨基，未取代或取代的芳基、杂芳基；Y代表硝基或NR1R2，其中R1代表H，任选地被1-2个R11取代的C1-C8烷基、C2-C8烯基或C2-C8炔基，未取代或未取代或取代的芳基、杂芳基，-COR12，硝基，OR13，SO2R14，NR15R16，N＝CR17R18，C1-C8烷基氨基甲酰基，二C1-C8烷基氨基甲酰基，三C1-C8烷基甲硅烷基或二C1-C8烷基膦酰基；R2代表H，任选地被1-2个R21取代的C1-C8烷基或-COR22；或者NR1R2代表N＝CR31NR32R33，N＝CR34OR35，未取代或被1-2个独立选自卤素、C1-C8烷基、C1-C8烷氧基、卤代C1-C8烷氧基、C1-C8烷硫基、卤代C1-C8烷硫基、氨基、C1-C8烷基氨基、二C1-C8烷基氨基、C1-C8烷氧基羰基中的基团所取代的其中R11、R21独立地代表卤素，羟基，C1-C8烷氧基，卤代C1-C8烷氧基，C1-C8烷硫基，卤代C1-C8烷硫基，氨基，C1-C8烷基氨基，二C1-C8烷基氨基，C1-C8烷氧基羰基，未取代或取代的芳基、杂芳基；R12、R22独立地代表H、C1-C8烷基、卤代C1-C8烷基、C1-C8烷氧基、苯基、苯氧基或苄氧基；R13代表H、C1-C8烷基、卤代C1-C8烷基、苯基、苄基或CHR41C(O)OR42；R41代表H、C1-C8烷基或C1-C8烷氧基；R42代表H、C1-C8烷基或苄基；R14代表C1-C8烷基、卤代C1-C8烷基；R15代表H、C1-C8烷基、甲酰基、C1-C8烷基羰基、卤代C1-C8烷基羰基、C1-C8烷氧基羰基、苯基羰基、苯氧基羰基或苄氧基羰基；R16代表H、C1-C8烷基；R17代表H、C1-C8烷基、未取代或被卤素、C1-C8烷基、C1-C8烷氧基中的1-3个基团所取代的苯基；R18代表H、C1-C8烷基；或N＝CR17R18代表R31、R34分别独立地代表H或C1-C8烷基；R32、R33分别独立地代表H或C1-C8烷基；或者NR32R33代表R35代表C1-C8烷基；Z代表氢，卤素，氰基，硝基，氨基，羟基，羧基，巯基，甲酰基，含有或不含有卤素的C1-C8烷基、C3-C8环烷基、C3-C8环烷基C1-C8烷基、C2-C8炔基、C1-C8烷氧基、C1-C8烷硫基、C1-C8烷基氨基、二C1-C8烷基氨基、C1-C8烷氧基C1-C8烷基、C1-C8烷硫基C1-C8烷基、C1-C8烷基羰基、C1-C8烷氧基羰基、C1-C8烷基酰氧基、C1-C8烷基亚硫酰基、C1-C8烷基磺酰基、-S-CN、R51R52R53Si-(O)m-(CH2)n-、R51R52R53Si-CR54＝CR55-，以及未取代或被选自卤素、氰基、C3-C8环烷基、C1-C8烷基羰基、C1-C8烷氧基羰基、C1-C8烷氧基、C1-C8烷硫基、C1-C8烷基亚硫酰基、C1-C8烷基磺酰基中的至少一个基团所取代的C2-C8烯基及其环氧化物，未取代或取代的芳基、杂芳基、芳基C1-C8烷基、杂芳基C1-C8烷基、芳基氧基、杂芳基氧基；其中，R51、R52、R53分别独立地代表C1-C8烷基，C3-C8环烷基，卤代C1-C8烷基，卤代C3-C8环烷基，未取代或被选自卤素，硝基，氰基，羟基，羧基，氨基，巯基，含有或不含有卤素的C1-C8烷基、C2-C8烯基、C2-C8炔基、C3-C8环烷基、C3-C8环烷基C1-C8烷基、苯基、苄基、苯氧基、C1-C8烷氧基、C1-C8烷硫基、C1-C8烷基羰基、C1-C8烷氧基羰基、C1-C8烷基磺酰基、C1-C8烷基氨基、二C1-C8烷基氨基、C1-C8烷基酰氧基中的至少一个基团所取代的苯基，烷氧基，卤代C1-C8烷氧基，羟基；R54代表氢、卤素、C1-C8烷基、卤代C1-C8烷基；R55代表氢、卤素；m代表0或1，n代表0～6之间的整数；其中，所述“芳基”是指苯基、萘基，“杂芳基”是指其中，R’代表氢、烷基；其可被选自卤素，硝基，氰基，羟基，羧基，氨基，巯基，甲酰基，未取代或被选自卤素、烷基、烷氧基中的至少一个基团所取代的苯基、苄基、苯氧基，以及含有或不含有卤素的烷基、烯基、炔基、环烷基、环烷基烷基、烷氧基、烷硫基、烷氧基烷基、烷硫基烷基、烷基羰基、烷氧基羰基、烷基亚硫酰基、烷基磺酰基、烷基氨基、二烷基氨基、烷基酰氧基、-OCH2CH2-、-OCH2O-、-OCH2CH2O-中的至少一个基团所取代。3.根据权利要求1或2所述的一种取代的含氮杂芳环甲酰胺衍生物，其特征在于，M代表Het选自五元不饱和环，该环上除含有1-位上的N原子外，还含有1、2或3个以下原子或基团作为环的组成部分：NRb；Ra选自以下基团中的一个或多个基团：氢，卤素，硝基，氰基，羟基，羧基，氨基，巯基，甲酰基，含有或不含有卤素的C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C3-C6环烷基、C2-C6烯基C1-C6烷基、C2-C6炔基C1-C6烷基、C3-C6环烷基C1-C6烷基、C1-C6烷氧基、C1-C6烷硫基、C1-C6烷氧基C1-C6烷基、C1-C6烷硫基C1-C6烷基、C1-C6烷基羰基、C1-C6烷氧基羰基、C1-C6烷基亚硫酰基、C1-C6烷基磺酰基、C1-C6烷基氨基、二C1-C6烷基氨基、C1-C6烷基酰氧基以及未取代或取代的芳基、杂芳基、芳基C1-C6烷基、杂芳基C1-C6烷基、芳基氧基、杂芳基氧基；或者相邻两个Ra一起形成未取代或被选自卤素，硝基，氰基，羟基，羧基，氨基，巯基，甲酰基，含有或不含有卤素的C1-C8烷基、C2-C8烯基、C2-C8炔基、C3-C8环烷基、C3-C8环烷基C1-C8烷基、C1-C8烷氧基、C1-C8烷硫基、C1-C8烷氧基C1-C8烷基、C1-C8烷硫基C1-C8烷基、C1-C8烷基羰基、C1-C8烷氧基羰基、C1-C8烷基亚硫酰基、C1-C8烷基磺酰基、C1-C8烷基氨基、二烷C1-C8基氨基、C1-C8烷基酰氧基，以及未取代或取代的芳基、杂芳基、芳基C1-C8烷基、杂芳基C1-C8烷基、芳基氧基、杂芳基氧基中的至少一个基团所取代的-CH＝CH-CH＝CH-、-CH2CH2CH2CH2-、-N＝CH-CH＝CH-、-CH＝N-CH＝CH-基团；Rb代表氢，C1-C6烷基；Q代表N或C-R”；其中，R”代表氢，卤素，氰基，含有或不含有卤素的C1-C6烷基、C1-C6烷氧基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C3-C6环烷基，以及未取代或取代的芳基、杂芳基；X代表卤素，含有或不含有卤素的C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C3-C6环烷基、C1-C6烷氧基、C1-C6烷基氨基、二C1-C6烷基氨基，未取代或取代的芳基、杂芳基；Y代表硝基或NR1R2，其中R1代表H，任选地被1-2个R11取代的C1-C6烷基、C2-C6烯基或C2-C6炔基，未取代或未取代或取代的芳基、杂芳基，-COR12，硝基，OR13，SO2R14，NR15R16，N＝CR17R18，C1-C6烷基氨基甲酰基，二C1-C6烷基氨基甲酰基，三C1-C6烷基甲硅烷基或二C1...

【专利技术属性】
技术研发人员：连磊，华荣保，崔琦，张辽宁，刘娜，
申请(专利权)人：青岛清原化合物有限公司，
类型：发明
国别省市：山东,37