The invention relates to the field of manufacturing crystalline silicon solar cells, in particular to a method for making test labels and a test label. Among them, the fabrication methods of test labels include: making wool on both sides of silicon wafer; diffusing on the front of silicon wafer; etching on both sides of silicon wafer; printing fine grids on the front of silicon wafer; sintering on silicon wafer once; plating anti-reflection film on the front of silicon wafer; printing on the back of silicon wafer; printing on the back of silicon wafer; printing main grids on the front of silicon wafer; printing on the back of silicon wafer wafer. The sheet was sintered twice. By printing and sintering the fine grids before anti-reflective coating, printing and sintering the main grids after anti-reflective coating, the contact between the fine grids and the external oxygen can be reduced and the wear of the fine grids can be avoided in the process of using the test markers, thus reducing the attenuation of the test markers in the process of using and prolonging the service life of the test markers.
【技术实现步骤摘要】
一种测试标片制作方法及测试标片
本专利技术涉及晶体硅太阳能电池制造领域,尤其涉及一种测试标片制作方法及测试标片。
技术介绍
光电转换效率是太阳能电池的重要产品指标,太阳能电池制造商会在太阳能电池片出厂前对此指标进行测试,获得的效率称为出厂效率,根据不同的出厂效率以不同的价格卖给购买商。购买商在收到产品后,也会对太阳能电池进行效率测试,所测得效率称为检验效率,如果检验效率与出厂效率不符合,便会引起制造商和购买商之间的纠纷。所以太阳能电池效率测试的准确性在光伏行业中起着十分重要的作用。获得光电转换效率的方式如下:准备一张太阳能电池测试标片,通过调整测试机的光强、温度补偿系数等参数,使标片的测试值等于其标称效率,从而完成测试机的校准。然而,随着太阳能电池测试标片的使用次数增多,其上设置的细栅不断的磨损及氧化,标片的测试效率发生衰减,使测试效率偏离标称效率,造成测试标片的使用寿命较短。
技术实现思路
本专利技术的一个目的是提出一种测试标片制作方法,用来解决测试标片使用寿命短的问题。本专利技术的另一个目的是提出一种测试标片,用来解决现有的测试标片使用寿命短的问题。为达此目的,本专利技术采用以下技术方案:一种测试标片制作方法,包括以下步骤:步骤A:对硅片的双面进行制绒;步骤B:对步骤A处理后的硅片的正面进行扩散;步骤C:对步骤B处理后的硅片的双面进行边缘刻蚀;步骤D:在步骤C处理后的硅片的正面印刷细栅;步骤E:对步骤D处理后的硅片进行一次烧结;步骤F:对步骤E处理后的硅片的正面镀减反膜;步骤G:在步骤F处理后的硅片的背面印刷背极;步骤H:在步骤G处理后的硅片的背面印刷背场 ...
【技术保护点】
1.一种测试标片制作方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤A:对硅片(1)的双面进行制绒;步骤B:对步骤A处理后的硅片(1)的正面进行扩散;步骤C:对步骤B处理后的硅片(1)的双面进行边缘刻蚀;步骤D:在步骤C处理后的硅片(1)的正面印刷细栅(1);步骤E:对步骤D处理后的硅片(1)进行一次烧结;步骤F:对步骤E处理后的硅片(1)的正面镀减反膜(2);步骤G:在步骤F处理后的硅片(1)的背面印刷背极;步骤H:在步骤G处理后的硅片(1)的背面印刷背场;步骤I:在步骤H处理后的硅片(1)的正面印刷主栅(3);步骤J:对步骤I处理后的硅片(1)进行二次烧结。
【技术特征摘要】
1.一种测试标片制作方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤A:对硅片(1)的双面进行制绒;步骤B:对步骤A处理后的硅片(1)的正面进行扩散;步骤C:对步骤B处理后的硅片(1)的双面进行边缘刻蚀;步骤D:在步骤C处理后的硅片(1)的正面印刷细栅(1);步骤E:对步骤D处理后的硅片(1)进行一次烧结;步骤F:对步骤E处理后的硅片(1)的正面镀减反膜(2);步骤G:在步骤F处理后的硅片(1)的背面印刷背极;步骤H:在步骤G处理后的硅片(1)的背面印刷背场;步骤I:在步骤H处理后的硅片(1)的正面印刷主栅(3);步骤J:对步骤I处理后的硅片(1)进行二次烧结。2.根据权利要求1所述的测试标片制作方法,其特征在于,步骤D中印刷所述细栅(1)的浆料为非烧穿型浆料。3.根据权利要求1所述的测试标片制作方法,其特征在于,步骤D在印刷所述细栅(1)的同时还印刷定位点(5),所述定位点(5)用于印刷所述主栅(3)时的定位。4.根据权利要求1所述的测试标片制作方法,其特征...
【专利技术属性】
技术研发人员:王雪亮,胡冰峰,罗茂盛,
申请(专利权)人:奥特斯维能源太仓有限公司,太仓海润太阳能有限公司,
类型:发明
国别省市:江苏,32
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