一种OLED显示面板及其制作方法,以及显示装置制造方法及图纸

技术编号:20180086 阅读:32 留言:0更新日期:2019-01-23 01:27
本发明专利技术实施例公开了一种OLED显示面板及其制作方法,以及显示装置。该OLED显示面板包括:透明基板,以及依次设置于该透明基板一侧的阳极层、发光层和阴极层,阴极层包括多条平行设置的金属线栅;该阴极层,用于对入射的光线,透射振动方向垂直于金属线栅的光线并形成偏振光,反射振动方向平行于金属线栅的光线。本发明专利技术实施例能够实现一种透光率和导电性较高的金属电极,并且该金属电极的制作工艺也不会影响OLED显示面板的光电性能。

An OLED display panel, its fabrication method and display device

The embodiment of the present invention discloses an OLED display panel, a manufacturing method thereof and a display device. The OLED display panel consists of a transparent substrate and an anode layer, a luminous layer and a cathode layer arranged on one side of the transparent substrate in turn. The cathode layer comprises a plurality of parallel metal wire gratings. The cathode layer is used for transmitting light perpendicular to the metal wire grating and forming polarized light, reflecting light parallel to the metal wire grating. The embodiment of the invention can realize a metal electrode with high transmittance and conductivity, and the fabrication process of the metal electrode will not affect the photoelectric performance of the OLED display panel.

【技术实现步骤摘要】
一种OLED显示面板及其制作方法,以及显示装置
本申请涉及但不限于显示
,尤指一种OLED显示面板及其制作方法,以及显示装置。
技术介绍
随着显示技术的发展,双面发光型有机电致发光显示(OrganicElectroluminanceDisplay,简称为:OLED)面板(也称为:透明OLED显示面板)作为一种新的显示技术,在建筑、广告和公共信息等领域具有广泛的应用前景。制备透明OLED显示面板需要解决透明电极的问题,目前通常使用的透明电极分为两类,一类是薄层金属或合金,该类金属电极的制备工艺相对简单,但是难以精确控制金属电极的透过率和导电性;另一类是采用氧化铟锡(IndiumTinOxide,简称为:ITO)等透过率较高的金属氧化物,但该类型的电极需要在溅射后进行高温退火工艺,会严重破坏OLED显示面板的有机膜层,影响面板的光电性能。
技术实现思路
为了解决上述技术问题,本专利技术实施例提供了一种OLED显示面板及其制作方法,以及显示装置,能够实现一种透光率和导电性较高的金属电极,并且该金属电极的制作工艺也不会影响OLED显示面板的光电性能。本专利技术实施例提供一种OLED显示面板,包括:透明基板,以及依次设置于所述透明基板一侧的阳极层、发光层和阴极层,所述阴极层包括多条平行设置的金属线栅;所述阴极层,用于对入射的光线,透射振动方向垂直于所述金属线栅的光线并形成偏振光,反射振动方向平行于所述金属线栅的光线。可选地,如上所述的OLED显示面板中,所述阳极层为透明电极层;所述OLED显示面板,用于通过穿过所述阴极层的光线在所述阴极层远离所述发光层的一侧进行显示,以及通过所述阴极层反射的光线穿过所述阳极层和所述透明基板后,在所述透明基板远离所述发光层的一侧进行显示。可选地,如上所述的OLED显示面板中,所述多条金属线栅为等间距设置的。可选地,如上所述的OLED显示面板中,所述金属线栅的周期为90纳米到150纳米,且所述金属线栅的线宽为50纳米到60纳米。可选地,如上所述的OLED显示面板中,所述金属线栅的占空比为0.33到0.67。可选地,如上所述的OLED显示面板中,所述金属线栅的高度为100纳米到170纳米。可选地,如上所述的OLED显示面板中,还包括:所述阳极层接近所述发光层一侧依次设置的空穴注入层和空穴传输层,所述阴极层接近所述发光层一侧依次设置的电子注入层和电子传输层。本专利技术实施例还提供一种OLED显示面板的制作方法,包括:形成OLED显示面板的阴极金属层;对所述阴极金属层采用纳米印压工艺形成阴极层,所形成的阴极层包括多条平行设置的金属线栅;其中,所述阴极层,用于对入射的光线,透射振动方向垂直于所述金属线栅的光线并形成偏振光,反射振动方向平行于所述金属线栅的光线。可选地,如上所述的OLED显示面板的制作方法中,所述对所述阴极金属层采用纳米印压工艺形成阴极层;包括:在所述阴极金属层上涂覆胶材形成胶层;采用所述纳米印压工艺在所述胶层上引压出多条平行设置的胶质线栅;采用刻蚀工艺对所述胶层和所述阴极金属层进行处理,形成包括多条平行设置的金属线栅的阴极层。可选地,如上所述的OLED显示面板的制作方法中,所述形成OLED显示面板的阴极金属层之前,所述方法还包括:在所述OLED显示面板的透明基板上依次形成阳极层、空穴注入层、空穴传输层、所述阳极层、电子传输层和电子注入层。本专利技术实施例还提供一种显示装置,包括:如上述任一项所述的OLED显示面板。本专利技术实施例提供的OLED显示面板及其制作方法,以及显示装置,其中OLED显示面板包括透明基板,以及该透明基板一侧依次设置的阳极层、发光层和包括多条金属线栅的阴极层,通过具有多条平行设置的金属线栅结构的阴极层,可以在发光层发出的光线到达该阴极层时,使得振动方向垂直于金属线栅的光线穿过该阴极层并形成偏振光,使得振动方向平行于金属线栅的光线在该阴极层反射,以实现OLED显示面板的双面出光的透明显示效果。本专利技术提供的OLED显示面板,通过将阴极层配置为金属线栅偏振片的结构,即可以得到较高的透光率,又不会影响阴极层的导电性,基于该金属线栅结构通常采用的NIL制作工艺,也不会破坏OLED显示面板中的有机膜层,从而实现具有较高光电性能的OLED显示面板。附图说明附图用来提供对本专利技术技术方案的进一步理解,并且构成说明书的一部分,与本申请的实施例一起用于解释本专利技术的技术方案,并不构成对本专利技术技术方案的限制。图1为本专利技术实施例提供的一种OLED显示面板的结构示意图;图2为一种金属线栅偏振片的原理示意;图3为本专利技术实施例提供的OLED显示面板中一种阴极层的结构示意图;图4为本专利技术实施例提供的另一种OLED显示面板的结构示意图;图5为本专利技术实施例提供的一种OLED显示面板的制作方法的流程图;图6为本专利技术实施例提供的OLED显示面板的制作方法中一个制作过程的示意图;图7为本专利技术实施例提供的另一种OLED显示面板的制作方法的流程图;图8为本专利技术实施例提供的OLED显示面板的制作方法中另一个制作过程的示意图;图9为本专利技术实施例提供的OLED显示面板的制作方法中又一个制作过程的示意图。具体实施方式为使本专利技术的目的、技术方案和优点更加清楚明白,下文中将结合附图对本专利技术的实施例进行详细说明。需要说明的是,在不冲突的情况下,本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互任意组合。本专利技术提供以下几个具体的实施例可以相互结合,对于相同或相似的概念或过程可能在某些实施例不再赘述。图1为本专利技术实施例提供的一种OLED显示面板的结构示意图。本实施例提供的OLED显示面板100可以包括:透明基板110,以及依次设置于透明基板110一侧的阳极层(Anode)120、发光层(Electro-Luminescence,简称为:EL)130和阴极层(Cathode)140,该阴极层140包括多条平行设置的金属线栅141。其中,阴极层140,用于对入射的光线,透射振动方向垂直于金属线栅141的光线并形成偏振光,反射振动方向平行于金属线栅141的光线。图1示意出OLED显示面板100的截面图,本专利技术实施例提供的OLED显示面板100为双面发光型显示面板,即显示面板的两个均可以显示图像。OLED显示面板100为自发光器件,其发光层130可以在阳极层120和阴极层140加电形成电场的作用下发光,为OLED显示面板100提供发光源,该发光层130发出的光线穿过阴极层140进行显示,即可以实现顶发射型OLED显示面板的显示效果,该发光层130发出的光线被阴极层140反射、且穿过阳极层120和透明基板110进行显示,即可实现底发光型OLED显示面板的显示效果。由于本专利技术实施例提供的OLED显示面板100为双面发光型显示面板,因此发光层130发出的光线中,一部分穿过阴极层140,另一部分被阴极层140反射。本专利技术实施例的阴极层140包括多条平行设置的金属线栅141,该金属线栅141的结构实际为金属线栅偏振片(WireGridPolarizer,简称为:WGP),该金属线栅141可以选用铝、银、铂、金或者金属合金等金属材料。以下简要说明金属线栅偏振片对光线的作用原理。如图2所示,为一种金属线栅偏振片的原理示意。图2中的金属线栅偏振片200包括本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种OLED显示面板,其特征在于,包括:透明基板,以及依次设置于所述透明基板一侧的阳极层、发光层和阴极层,所述阴极层包括多条平行设置的金属线栅;所述阴极层,用于对入射的光线,透射振动方向垂直于所述金属线栅的光线并形成偏振光,反射振动方向平行于所述金属线栅的光线。

【技术特征摘要】
1.一种OLED显示面板,其特征在于,包括:透明基板,以及依次设置于所述透明基板一侧的阳极层、发光层和阴极层,所述阴极层包括多条平行设置的金属线栅;所述阴极层,用于对入射的光线,透射振动方向垂直于所述金属线栅的光线并形成偏振光,反射振动方向平行于所述金属线栅的光线。2.根据权利要求1所述的OLED显示面板,其特征在于,所述阳极层为透明电极层;所述OLED显示面板,用于通过穿过所述阴极层的光线在所述阴极层远离所述发光层的一侧进行显示,以及通过所述阴极层反射的光线穿过所述阳极层和所述透明基板后,在所述透明基板远离所述发光层的一侧进行显示。3.根据权利要求1所述的OLED显示面板,其特征在于,所述多条金属线栅为等间距设置的。4.根据权利要求1~3中任一项所述的OLED显示面板,其特征在于,所述金属线栅的周期为90纳米到150纳米,且所述金属线栅的线宽为50纳米到60纳米。5.根据权利要求1~3中任一项所述的OLED显示面板,其特征在于,所述金属线栅的占空比为0.33到0.67。6.根据权利要求1~3中任一项所述的OLED显示面板,其特征在于,所述金属线栅的高度为100纳米到170纳米。7.根据权利要求1~3中任一项所述的OLED显示面板,其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员:胡伟频姜明宵孙晓邱云王丹
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司北京京东方显示技术有限公司
类型:发明
国别省市:北京,11

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