The invention discloses a preparation method of photoreduction hexavalent chromium ion-imprinted polymer material, which belongs to the field of new materials. The method is based on potassium dichromate as template, 2 vinyl vinyl pyridine as functional monomer, three hydroxymethyl propane three methacrylate and two methacrylic acid glycol ester as crosslinking agent, toluene as porogen, graphene oxide as solid surfactant, and six valent chromium ion imprinted polymer material prepared by Pickering emulsion technology. Under illumination, graphene oxide provides reduction electrons, which are converted to hexavalent chromium by valence transformation between trivalent and bivalent electronic mediators (ferric ions). The trivalent chromium is adsorbed by functional groups on the surface of graphene oxide through charge interaction. This method combines ion imprinting technology with photocatalysis technology, realizes the idea of adsorption and reduction of hexavalent chromium ion in one, and can selectively purify hexavalent chromium ion in water, without requiring secondary treatment of the generated trivalent chromium ion.
【技术实现步骤摘要】
一种光还原六价铬的离子印迹聚合物材料及其制备和应用
本专利技术涉及新材料领域,涉离子印迹聚合物材料及其制备方法和应用,具体涉及铬离子印迹聚合物材料及其制备方法和应用。
技术介绍
随着我国工业快速发展,重金属污染事件层出不穷,引起了一系列环境问题。究其原因主要来自于重金属的随意排放和渗漏。铬污染物主要来源于采矿,金属喷漆,木材防腐,染料,皮革和不锈钢制作等(DhalB,ThatoiHN,DasNNetal.Chemicalandmicrobialremediationofhexavalentchromiumfromcontaminatedsoilandmining/metallurgicalsolidwaste:areview[J].JHazardMater,2013,250-251:272-291.)。环境中的铬主要以三价铬与六价铬的形式存在,其中三价铬参与人和动物体内的糖与脂肪的代谢,但长期暴露三价铬可能导致铬的累积毒性。而六价铬为人类确定致癌物,毒性是三价铬的10~100倍,能够通过皮肤、消化道和呼吸道进入人体,引起贫血、皮肤炎、鼻炎、肾炎、神经炎等疾病,长期接触还会引起呼吸道炎症并诱发肺癌,严重的六价铬中毒还会致人死亡(KanmaniP,AravindJ,PrestonD.Remediationofchromiumcontaminantsusingbacteria[J].InternationalJournalofEnvironmentalScienceandTechnology,2011,9(1):183-193;张汉池,张继军,刘峰.铬的危害与防 ...
【技术保护点】
1.一种光还原六价铬的离子印迹聚合物材料,为球形或类球形结构,该球形或类球形结构的内层为六价铬离子印迹孔穴,该球形或类球形结构的整个外表面为氧化石墨烯包覆,称为石墨烯层,石墨烯层与由六价铬离子印迹孔穴构成的内层之间为交联复合体。
【技术特征摘要】
1.一种光还原六价铬的离子印迹聚合物材料,为球形或类球形结构,该球形或类球形结构的内层为六价铬离子印迹孔穴,该球形或类球形结构的整个外表面为氧化石墨烯包覆,称为石墨烯层,石墨烯层与由六价铬离子印迹孔穴构成的内层之间为交联复合体。2.根据权利要求1所述的光还原六价铬的离子印迹聚合物材料,其特征在于,它是以重铬酸钾为模板分子,2-乙烯基吡啶为功能单体,三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯与二甲基丙烯酸乙二醇酯为交联剂,甲苯为致孔剂,氧化石墨烯为固体表面活性剂,利用皮克林(Pickering)乳液法形成水包油型乳液微球,加入引发剂偶氮二异丁腈引发聚合反应制备得到离子印迹聚合物材料前体物,该前体物先用四氢呋喃清洗,再用氢氧化钠-乙腈混合溶液洗去模板分子重铬酸钾,然后用去离子水洗至中性,经40~60℃真空干燥得到的光还原六价铬的离子印迹聚合物材料。3.权利要求1或2所述的光还原六价铬的离子印迹聚合物材料用于处理环境中的铬污染降低环境中的铬毒性。4.权利要求1或2所述的光还原六价铬的离子印迹聚合物材料在光照条件下还原六价铬并吸附还原产物三价铬之应用。5.权利要求1或2所述的离子印迹聚合物材料的制备方法,包括以下步骤:步骤一:将过量的模板分子重铬酸钾置于离心管中,再加入功能单体2-乙烯基吡啶、交联剂三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯与二甲基丙烯酸乙二醇酯和致孔剂甲苯,震荡混匀,然后加入氧化石墨烯水溶液,再加入去离子水,溶液震荡混匀得到含有水包油型乳液微球的皮克林(Pickering)乳液体系;其中模板分子在水相中达到饱和并进入有机相,进入有机相的模板分子与功能单体发生配位;2-乙烯基吡啶、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、二甲基丙烯酸乙二醇酯、甲...
【专利技术属性】
技术研发人员:沈先涛,陈志亮,刘小杰,
申请(专利权)人:华中科技大学,
类型:发明
国别省市:湖北,42
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