The disclosed embodiments include a panel with a sensor assembly, a processing chamber with the sensor assembly, and a method for monitoring a substrate in the processing chamber. In one embodiment, the panel is configured to import the treated gas into the plasma treatment chamber. The panel has one or more holes. The sensor assembly is arranged in one or more holes. Sensor components have sensors and controllers.
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】基板距离监控
本专利技术的实施方式一般地涉及用于制造微电子装置的等离子体处理腔室,且更具体而言,涉及使用于判定针对其中的基板的处理参数的传感器。
技术介绍
在高精确度制造中(例如半导体制造),在制造操作期间基板可能需要由夹具精确地固持以增加均匀的品质及减少缺陷。在一些制造操作中,可使用加热的基板支撑件为夹具以在一个或多个制造操作期间支撑基板。在半导体基板处理腔室中,许多工艺对基板与腔室中所使用喷淋头的面板之间所限定的空隙(间隔)非常敏感,该空隙用以提供处理基板的气体。跨基板的空隙的均匀性为获得满意的基板处理结果的重要因素。此外,当冷基板放置于处理腔室内的基板支撑件上时,腔室处理温度高造成冷基板的热膨胀,而可导致处理及传输问题。在一些工艺中,例如使用旋转基板支撑件的原子层沉积(ALD),早期侦测到基板不在(outofpocket,OOP)将避免相关联于腔室恢复的高成本,导因于基板撞击喷淋头并破坏腔室内部。因此,存有对用于监控基板支撑件上基板的位置的改良方法及设备的需求。
技术实现思路
于此公开的实施方式包括一种具有传感器组件的面板,一种具有所述传感器组件的处理腔室,及一种用于监控基板距离的方法。在一个实施方式中,面板经配置以将处理气体导入等离子体处理腔室中。传感器组件设置于在面板中形成的孔中。可操作传感器组件以提供指示基板放置于面板下方的距离的测度(metric)。在另一实施方式中,处理腔室具有腔室主体。该腔室主体具有腔室盖、腔室壁及腔室底部,其中该腔室主体包围腔室内部容积。具有工件支撑表面的基板支撑件设置于腔室内部容积中。面板在内部容积中由腔室盖支撑。面板经配 ...
【技术保护点】
1.一种经配置以将处理气体导入等离子体处理腔室的面板,所述面板包括:盘状主体;多个孔,穿过所述主体而形成所述多个孔;及第一传感器组件,所述第一传感器组件设置于所述多个孔中的一个中,所述第一传感器组件包括:传感器,所述传感器经配置以提供指示在基板支撑件与所述第一传感器组件之间限定的距离的测度。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.06.03 US 62/345,5431.一种经配置以将处理气体导入等离子体处理腔室的面板,所述面板包括:盘状主体;多个孔,穿过所述主体而形成所述多个孔;及第一传感器组件,所述第一传感器组件设置于所述多个孔中的一个中,所述第一传感器组件包括:传感器,所述传感器经配置以提供指示在基板支撑件与所述第一传感器组件之间限定的距离的测度。2.如权利要求1所述的面板,进一步包括:设置于所述主体中的至少第二传感器组件及第三传感器组件,可操作所述第二传感器组件及所述第三传感器组件以提供指示基板放置于所述面板下方的距离的测度。3.如权利要求2所述的面板,其中所述传感器组件设置于距所述主体的中央不同距离处。4.如权利要求2所述的面板,其中所述第一传感器组件、所述第二传感器组件及所述第三传感器组件设置于所述主体的第一区域中,且其中所述主体的第二区域包含额外的传感器组件,可操作所述额外的传感器组件以提供指示基板放置于所述面板下方的距离的测度。5.如权利要求1所述的面板,其中所述传感器在与所述主体的表面垂直的+/-3度内对准,所述表面经配置以面对基板支撑件。6.一种处理腔室,包括:腔室主体,所述腔室主体具有腔室盖、腔室壁及腔室底部,其中所述腔室主体包围腔室内部容积;基板支撑件,所述基板支撑件具有设置于所述腔室内部容积中的基板支撑表面;及面板,所述面板在所述内部容积中由所述腔室盖支撑,所述面板经配置以将处理气体导入所述等离子体处理腔室,所述面板包括:主体,所述主体具有面向所述基板支撑件的表面;多个孔,穿过所述主体而形成所述多个孔;及多个传感器组件,可操作所述多个传感器组件以提供指示基板放置于所述面板下方的距离的测度,所述基板设置于所...
【专利技术属性】
技术研发人员:小温德尔·G·博伊德,戈文达·瑞泽,
申请(专利权)人:应用材料公司,
类型:发明
国别省市:美国,US
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