OLED显示面板及其制备方法技术

技术编号:20114937 阅读:28 留言:0更新日期:2019-01-16 11:35
本发明专利技术提供了一种OLED显示面板及其制备方法。所述OLED显示面板上设置了多个凹陷,所述凹陷形成于所述像素定义层中,并至少贯穿部分厚度的像素定义层,使薄膜封装层填充凹陷形成锚定结构,采用该锚定结构有效增强了薄膜封装层和顶电极之间的粘附能力,可提高OLED显示面板的抗剪切力,减少或避免薄膜封装层与阴极之间以及功能层内部各膜层之间出现分离或位置偏移。

OLED display panel and its preparation method

The invention provides an OLED display panel and a preparation method thereof. A plurality of depressions are arranged on the OLED display panel. The depression is formed in the pixel definition layer and penetrates at least part of the thickness of the pixel definition layer, so that the film packaging layer fills the depression to form an anchoring structure. The anchoring structure effectively enhances the adhesion between the film packaging layer and the top electrode, improves the shear resistance of the OLED display panel, and reduces or avoids the film. Separation or displacement occurs between the packaging layer and the cathode and between the film layers within the functional layer.

【技术实现步骤摘要】
OLED显示面板及其制备方法
本专利技术涉及显示
,特别涉及一种OLED显示面板及其制备方法。
技术介绍
近年来,作为一种新的平板显示器,有机电致发光显示器受到越来越多的关注。有机电致发光显示器的核心部件是有机电致发光器件(OLED,亦称为有机发光二极管)。OLED发光原理是在一定电压驱动下,电子和空穴分别从阴极和阳极注入到电子传输层和空穴传输层,电子和空穴分别经过电子传输层和空穴传输层迁移到发光层,并在发光层中相遇,形成激子并使发光分子激发,经过辐射弛豫而发出可见光。OLED显示面板的特点是轻薄、宽视角、功耗低、响应速度快、可实现柔性显示等。由于其是主动发光型器件,在显示高清晰高速度视频方面被认为具有很大的优势,并且最近几年正朝着实用的方向发展。然而,由于OLED显示面板中起到发光功能的发光层,对水汽和氧气等外部环境因素十分敏感,如果将OLED显示面板暴露在有水汽或者氧气的环境中,会使得器件性能急剧下降或者完全损坏。为了提高OLED的使用寿命和器件的稳定性,需要通过良好的封装来隔绝周围的水汽和氧气。传统的玻璃盖板或金属盖板封装已经实现较好的效果,但不能完全适用于一些重要或有潜力的应用场合,比如顶发射OLED显示技术、柔性OLED显示技术或柔性OPV等。为此业界开发了薄膜封装技术,采用一层或多层薄膜阻隔水氧,不遮挡光出射或入射的路径,也不影响衬底的可弯曲性。但专利技术人研究发现,薄膜封装层与阴极之间的粘附力较弱,尤其是在柔性显示面板弯折过程中,薄膜封装层与阴极之间以及功能层内部各膜层之间甚至出现卷曲、开裂的现象,导致阻隔水氧的能力下降,影响了发光层的性能,进而影响了OLED显示面板的寿命与性能。
技术实现思路
本专利技术的目的在于,解决OLED显示面板中薄膜封装层与阴极之间以及功能层内部各膜层之间出现分离或位置偏移的问题。为了解决上述问题,一方面,提供一种OLED显示面板,包括基板以及形成于所述基板上的底电极、像素定义层、功能层、顶电极和薄膜封装层;所述像素定义层形成有若干像素开口,位于所述像素开口内的底电极、功能层以及顶电极构成像素单元;所述OLED显示面板上还形成有若干凹陷,所述薄膜封装层填充所述凹陷;所述凹陷形成于所述像素定义层中,并至少贯穿部分厚度的像素定义层。可选的,所述OLED显示面板还包括形成于所述基板上的平坦化层,所述底电极形成于所述平坦化层上;所述凹陷贯穿部分厚度或全部厚度的像素定义层,或者,所述凹陷贯穿全部厚度的像素定义层以及部分厚度或全部厚度的平坦化层。可选的,所述凹陷为垂直孔。可选的,所述凹陷靠近基板的一端的截面宽度大于其远离基板的一端的截面宽度。可选的,所述凹陷靠近基板的一端的截面宽度小于其远离基板的一端的截面宽度。可选的,至少部分像素单元周围的像素定义层处形成有所述凹陷。可选的,每个像素单元周围的像素定义层处形成有一个或多个所述凹陷。另一方面,提供一种OLED显示面板制备方法,包括:提供一基板;以及在所述基板上形成底电极、像素定义层、功能层、顶电极和薄膜封装层,所述像素定义层形成有若干像素开口,且所述OLED显示面板上还形成有若干凹陷,所述凹陷形成于所述像素定义层中,并至少贯穿部分厚度的像素定义层,所述薄膜封装层填充所述凹陷。可选的,在所述像素定义层中形成凹陷的步骤包括:在所述底电极和像素定义层上形成一硬掩膜层;在所述硬掩模层上形成一光阻层,并通过曝光显影工艺形成图形化的光阻层;以所述图形化的光阻层为掩膜,刻蚀所述硬掩膜层,形成图形化的硬掩膜层;以及以所述图形化的硬掩膜层作掩膜,刻蚀所述像素定义层,以在所述像素定义层中形成凹陷。可选的,所述像素开口靠近基板的一端的截面宽度小于其远离基板的一端的截面宽度,所述凹陷靠近基板的一端的截面宽度大于其远离基板的一端的截面宽度,形成所述像素开口以及凹陷的步骤包括:采用负性光阻作为掩膜,通过两次曝光显影工艺形成所述像素开口以及凹陷,其中,形成所述像素开口时所采用的曝光量小于形成所述凹陷时所采用的曝光量。与现有技术相比,本专利技术在OLED显示面板上设置了多个凹陷,使薄膜封装层填充凹陷形成锚定结构,采用该锚定结构有效增强了薄膜封装层的粘附能力,可提高OLED显示面板的抗剪切力,减少或避免薄膜封装层与阴极之间以及功能层内部各膜层之间出现分离或位置偏移。附图说明图1为本专利技术实施例一中一种OLED显示面板的剖面示意图;图2a~2f为图1所示OLED显示面板制备过程中的剖面示意图;图3为本专利技术实施例二中一种OLED显示面板的剖面示意图;图4a~4b为图3所示OLED显示面板制备过程中的剖面示意图;图5为本专利技术实施例三中一种OLED显示面板的剖面示意图;图6a~6b为图5所示OLED显示面板制备过程中的剖面示意图;图7为本专利技术实施例四中一种OLED显示面板的剖面示意图;图8a~8b为图7所示OLED显示面板制备过程中的剖面示意图;图9为本专利技术实施例五中一种OLED显示面板的剖面示意图;图10a~10b为图9所示OLED显示面板制备过程中的剖面示意图;图11为本专利技术实施例五中一种OLED显示面板的俯视示意图;图12为本专利技术实施例五中另一种OLED显示面板的俯视示意图;图13为本专利技术实施例五中另一种OLED显示面板的剖面示意图;图14为本专利技术实施例五中再一种OLED显示面板的剖面示意图;图15为本专利技术实施例六中凹陷的分布示意图;图16为本专利技术实施例六中进行激光打孔的示意图;图17为本专利技术实施例七中OLED显示面板的剖面示意图;图18a~18b为图17所示OLED显示面板制备过程中的剖面示意图;图19为本专利技术实施例八中OLED显示面板的剖面示意图;图20a~20b为图19所示OLED显示面板制备过程中的剖面示意图;图21为本专利技术实施例九中OLED显示面板的堤坝的示意图;附图中标号说明:100-基板;110-底电极;120-像素定义层;120’-孔;130-像素开口;140-功能层;150-顶电极;160-薄膜封装层;161-第一薄膜封装层;162-第二薄膜封装层;163-第三薄膜封装层;164-第四薄膜封装层;165-第五薄膜封装层;166-第六薄膜封装层;167-第七薄膜封装层;168-第八薄膜封装层;170-凹陷;170a、170b-凹陷的侧壁;170c-凹陷的底壁;180-凸台;191-第一堤坝;192-第二堤坝;200-硬掩膜层;200’-图形化的硬掩膜层;210-图形化的光阻层。具体实施方式在
技术介绍
中已经提及,OLED显示面板中的功能层对水汽和氧气等外部环境因素十分敏感,如果将OLED显示面板中的功能层直接暴露在有水汽和氧气的环境中,会使得OLED显示面板性能急剧下降或者完全损坏。因而,封装对于OLED器件来讲至关重要,多层薄膜封装(TFE)技术作为一种新型的OLED封装方法具有较好的发展前景。然而,专利技术人研究发现,由于薄膜封装层与其下方的顶电极粘附力较差,尤其是在柔性显示面板中,拉应力和压应力的交替作用下,导致薄膜封装层与下方膜层的分离或位置偏移以及OLED功能层内部各膜层之间发生分离或位置偏移,从而造成封装的过早失效,缩短了显示器件的寿命。基于上述研究,本专利技术实施例在OLED显示面板上设置了多个凹陷,并使薄膜封装层填充所述凹陷形成锚定结构,本文档来自技高网
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【技术保护点】
1.一种OLED显示面板,其特征在于,包括基板以及形成于所述基板上的底电极、像素定义层、功能层、顶电极和薄膜封装层;所述像素定义层形成有若干像素开口,位于所述像素开口内的底电极、功能层以及顶电极构成像素单元;所述OLED显示面板上还形成有若干凹陷,所述薄膜封装层填充所述凹陷;所述凹陷形成于所述像素定义层中,并至少贯穿部分厚度的像素定义层。

【技术特征摘要】
1.一种OLED显示面板,其特征在于,包括基板以及形成于所述基板上的底电极、像素定义层、功能层、顶电极和薄膜封装层;所述像素定义层形成有若干像素开口,位于所述像素开口内的底电极、功能层以及顶电极构成像素单元;所述OLED显示面板上还形成有若干凹陷,所述薄膜封装层填充所述凹陷;所述凹陷形成于所述像素定义层中,并至少贯穿部分厚度的像素定义层。2.如权利要求1所述的OLED显示面板,其特征在于,还包括形成于所述基板上的平坦化层,所述底电极形成于所述平坦化层上;所述凹陷贯穿部分厚度或全部厚度的像素定义层,或者,所述凹陷贯穿全部厚度的像素定义层以及部分厚度或全部厚度的平坦化层。3.如权利要求1或2所述的OLED显示面板,其特征在于,所述凹陷为垂直孔。4.如权利要求1或2所述的OLED显示面板,其特征在于,所述凹陷靠近基板的一端的截面宽度大于其远离基板的一端的截面宽度。5.如权利要求1或2所述的OLED显示面板,其特征在于,所述凹陷靠近基板的一端的截面宽度小于其远离基板的一端的截面宽度。6.如权利要求1或2所述的OLED显示面板,其特征在于,至少部分像素单元周围的像素定义层处形成有所述凹陷。7.如权利要求1或2所述的OLED显示面板,其特征在于,每个像素单元周围的...

【专利技术属性】
技术研发人员:林立邢汝博蔡世星刘胜芳
申请(专利权)人:昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司
类型:发明
国别省市:江苏,32

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