光学阻挡结构制造技术

技术编号:20107220 阅读:32 留言:0更新日期:2019-01-16 09:30
本申请公开了光学阻挡结构。本文公开的系统和方法包括光学阻挡结构,其可包括:界定孔径的框架;第一和第二细长结构构件,每个细长结构构件包括第一和第二端,使得第一和第二细长结构构件可在它们的第一端处连接到孔径的相对侧,且进一步使得第一和第二细长结构构件可从框架平行于彼此并在与彼此相同的方向上延伸;以及光学不透明阻挡构件,其定位成在第一和第二阻挡构件的各自的第二端之间延伸。

【技术实现步骤摘要】
光学阻挡结构相关申请的交叉引用本申请要求2017年3月7日提交的美国临时申请号62/468,355的权益,该专利申请特此通过引用被全部并入本文。本申请还要求2017年5月5日提交的荷兰专利申请号N2018854的优先权,该专利申请特此通过引用被全部并入本文。
本技术涉及但不限于成像系统和光学阻挡结构。
技术介绍
在生物领域中的许多进步已经从改进的成像系统和技术(诸如,例如在光学显微镜和扫描仪中使用的成像系统和技术)中受益。使用这些成像系统在成像过程中获得准确的焦点对于成功的成像操作可能很重要。另外,减少与将系统聚焦在样品上相关联的时延提高了系统可以操作的速度。许多早已存在的扫描系统使用多光束聚焦跟踪系统来确定对于给定样品的焦点距离。多光束系统使用物镜将两个光束聚焦到样品上。聚焦光束从样品的表面反射,且反射光束指向图像传感器。反射光束在图像传感器上形成光斑,且在光斑之间的距离可用于确定焦点距离。早已存在的系统的设计者不断地努力提高聚焦准确度和系统可确定聚焦设置的速度。提高准确度可能很重要,因为它可以允许系统实现更好的结果。减少时延可能是一个重要的考虑因素,因为它可以允许系统更快地实现焦点确定,从而允许系统更快地完成扫描操作。
技术实现思路
本文公开的技术的各种示例提供了用于提高光学系统中的聚焦跟踪的准确度的系统和方法。另外的示例提供了用于减少与光学扫描仪中的聚焦跟踪相关联的时延的系统和方法。在一些示例中,提供用于改进或减少与光学扫描仪中的聚焦跟踪相关联的时延的系统和方法。在一些示例中,光学阻挡结构包括:界定孔径的框架;第一和第二细长结构构件,每个细长结构构件包括第一和第二端,使得第一和第二细长结构构件在它们的第一端处连接到孔径的相对侧,且进一步使得第一和第二细长结构构件从框架平行于彼此并在与彼此相同的方向上延伸;以及光学不透明阻挡构件,其定位成在第一和第二阻挡构件的各自的第二端之间延伸。仅作为另一示例,阻挡构件的前表面可形成阻挡面,该阻挡面被设计尺寸以阻挡来自在成像系统中的样品容器的第一表面的反射光束且不阻挡来自样品容器的第二表面的反射光束。此外,仅作为另一示例,光学阻挡结构可被设计尺寸以布置成相邻于光束分离器,以及阻挡构件的后表面布置在相对于框架的平面成角度的平面中,进一步使得角度被选择,其中阻挡构件的后表面实质上平行于光束分离器的面。在一些实例中,阻挡构件的后表面的宽度可以在大约2mm和7mm之间。此外,仅作为示例,阻挡构件的后表面可以具有被选择来阻挡来自样品容器的第二表面的反射光束而不与从S2和S3表面反射的光束干涉的宽度。在另外的示例中,阻挡构件的后表面的宽度是被选择来阻挡来自样品容器的第二表面的反射光束而不与从表面S2、S3反射的光束干涉的宽度。此外,在另外的示例中,光学阻挡结构可被设计尺寸用于与扫描系统协作来使用,所述扫描系统使被包含在可包括四个反射表面的多层样品容器中的样品成像,并进一步使得阻挡构件的后表面形成阻挡面,阻挡面被设计尺寸以阻挡来自在成像系统中的样品容器的第一表面的反射光束且不阻挡来自样品容器的第二和第三表面的反射光束。仅作为另一示例,光学阻挡结构可被设计尺寸以具有三角形横截面。在其他示例中,光学阻挡结构可包括界定孔径的框架,使得孔径被设计尺寸以在宽度上从大约20mm到40mm和在高度上从大约15mm到30mm;第一结构构件可包括界定细长主体的第一端和第二端,该细长主体被设计尺寸以在长度上在大约20mm和30mm之间;第二结构构件可包括界定第二细长主体的第一端和第二端,该细长主体被设计尺寸以在长度上在大约20mm和30mm之间,使得第一和第二结构构件在它们的第一端处连接到孔径的相对侧,其中第一和第二结构构件从框架平行于彼此并在与彼此相同的方向上延伸;以及光学不透明阻挡构件,其定位成在第一和第二阻挡构件的各自的第二端之间延伸,光学不透明阻挡构件被设计尺寸以在宽度上在大约1mm和20mm之间。仅作为示例,阻挡构件的前表面可形成阻挡面,该阻挡面被设计尺寸以阻挡来自在成像系统中的样品容器的第一表面的反射光束且不阻挡来自样品容器的第二表面的反射光束。此外,仅作为另一示例,光学阻挡结构可被设计尺寸以布置成相邻于光束分离器,以及阻挡构件的后表面布置在相对于框架的平面成角度的平面中,进一步地,其中角度被选择,使得阻挡构件的后表面实质上平行于光束分离器的面。在一些示例中,阻挡构件的后表面的宽度可以是被选择来阻挡来自样品容器的第二表面的反射光束而不与从S2和S3表面反射的光束干涉的宽度。在一些实例中,仅作为示例,光学阻挡结构可被设计尺寸用于与扫描系统协作来使用,所述扫描系统使被包含在可包括四个反射表面的多层样品容器中的样品成像,并进一步使得阻挡构件的后表面可形成阻挡面,该阻挡面被设计尺寸以阻挡来自在成像系统中的样品容器的第一表面的反射光束且不阻挡来自样品容器的第二和第三表面的反射光束。此外,光学阻挡结构可被设计尺寸以具有三角形横截面。在一些示例中,也可公开一种成像系统,其中成像系统包括激光光源;差分分离窗口,其将从光源发射的光分成多个平行光束;样品容器,其可包括布置在基底上处于接触关系中的第一、第二和第三层,这些层包括在样品容器的第一层处的第一反射表面、在第一和第二层之间的第二反射表面、在第二和第三层之间的第三反射表面以及在第三层和基底之间的第四反射表面;物镜,其定位成将来自光源的光聚焦到第二和第三反射表面的至少一个上并接收从样品容器反射的光;图像传感器,其包括定位成接收从样品容器反射的光的多个像素位置;第一阻挡结构,其定位成阻止来自第一表面的反射到达图像传感器;以及第二阻挡结构,其定位成阻止来自第四表面的反射到达图像传感器。作为示例,成像系统还可包括布置在成像系统的在物镜和图像传感器之间的光学返回路径中的分离器,进一步使得第二阻挡结构定位在返回光学路径中以在分离器的输出处阻挡来自第四表面的反射。在额外的示例中,第二阻挡结构还可包括:界定孔径的框架;第一和第二细长结构构件,每个细长结构构件包括第一和第二端,使得第一和第二细长结构构件在它们的第一端处连接到孔径的相对侧,且进一步使得第一和第二细长结构构件从框架平行于彼此并在与彼此相同的方向上延伸;以及光学不透明阻挡构件,其定位成在第一和第二阻挡构件的各自的第二端之间延伸。此外,在一些实例中,阻挡构件的前表面可形成阻挡面,该阻挡面被设计尺寸以阻挡来自在成像系统中的样品容器的第一表面的反射光束且不阻挡来自样品容器的第二表面的反射光束。在额外的实例中,仅作为另一示例,第二阻挡结构可被设计尺寸以布置成相邻于光束分离器,以及阻挡构件的后表面可布置在相对于框架的平面成角度的平面中,进一步使得角度被选择,其中阻挡构件的后表面实质上平行于光束分离器的面。仅作为示例,第二阻挡结构的后表面的宽度可以在大约2mm和7mm之间。此外,仅作为另一示例,第二阻挡结构可被设计尺寸用于与扫描系统协作来使用,所述扫描系统使被包含在可包括四个反射表面的多层样品容器中的样品成像,并进一步使得阻挡构件的后表面形成阻挡面,该阻挡面被设计尺寸以阻挡来自在成像系统中的样品容器的第一表面的反射光束且不阻挡来自样品容器的第二和第三表面的反射光束。此外,第一阻挡结构可包括孔径,其被设本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光学阻挡结构,包括:框架,其界定孔径;第一细长结构构件和第二细长结构构件,每个细长结构构件包括第一端和第二端,其中所述第一细长结构构件和第二细长结构构件在它们的第一端处连接到所述孔径的相对侧,且进一步地,其中所述第一细长结构构件和第二细长结构构件从所述框架平行于彼此并在与彼此相同的方向上延伸;以及光学不透明阻挡构件,其定位成在所述第一细长结构构件和第二细长结构构件的各自的第二端之间延伸。

【技术特征摘要】
2017.05.05 NL N2018854;2017.03.07 US 62/468,3551.一种光学阻挡结构,包括:框架,其界定孔径;第一细长结构构件和第二细长结构构件,每个细长结构构件包括第一端和第二端,其中所述第一细长结构构件和第二细长结构构件在它们的第一端处连接到所述孔径的相对侧,且进一步地,其中所述第一细长结构构件和第二细长结构构件从所述框架平行于彼此并在与彼此相同的方向上延伸;以及光学不透明阻挡构件,其定位成在所述第一细长结构构件和第二细长结构构件的各自的第二端之间延伸。2.如权利要求1所述的光学阻挡结构,其中,所述阻挡构件的前表面形成阻挡面,所述阻挡面被设计尺寸以阻挡来自在成像系统中的样品容器的第一表面的反射光束且不阻挡来自所述样品容器的第二表面的反射光束。3.如权利要求2所述的光学阻挡结构,其中,所述光学阻挡结构被设计尺寸以布置成相邻于光束分离器,以及所述阻挡构件的后表面布置在相对于所述框架的平面成角度的平面中,进一步地,其中所述角度被选择,使得所述阻挡构件的所述后表面实质上平行于所述光束分离器的面。4.如权利要求3所述的光学阻挡结构,其中,所述阻挡构件的所述后表面的宽度在约2mm和7mm之间。5.如权利要求3所述的光学阻挡结构,其中,所述阻挡构件的所述后表面的宽度是被选择来阻挡来自所述样品容器的第二表面的反射光束而不与从表面(S2,S3)反射的光束干涉的宽度。6.如权利要求1所述的光学阻挡结构,其中,所述光学阻挡结构被设计尺寸用于与扫描系统协作来使用,所述扫描系统使被包含在包括四个反射表面的多层样品容器中的样品成像,且进一步地,其中所述阻挡构件的后表面形成阻挡面,所述阻挡面被设计尺寸以阻挡来自在成像系统中的样品容器的第一表面的反射光束且不阻挡来自所述样品容器的第二表面和第三表面的反射光束。7.如权利要求6所述的光学阻挡结构,其中,所述光学阻挡结构被设计尺寸以具有三角形横截面。8...

【专利技术属性】
技术研发人员:达尼洛·孔代洛西蒙·普林斯大卫·哈吉斯约翰·奥肖内西威廉·布特弗尔德杰弗里·本迪克彼得·克拉克·纽曼
申请(专利权)人:伊鲁米那股份有限公司
类型:新型
国别省市:美国,US

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