The purifying system of a filter includes a filter placement rack, a chemical solution feeding system, a first pressure sensor, a chemical solution drainage system, a second pressure sensor and a bubble sensor. The filter placement rack is used to load the filter. The chemical solution supply system comprises a supply source and a first pipeline connecting the supply source and the filter placement rack. The first pressure sensor is arranged on the first pipeline and is configured to sense the first pressure of the chemical solution in the first pipeline. The chemical solution drainage system comprises a drainage source and a second pipeline connecting the filter placement rack and the drainage source. The second pressure sensor is located in the second pipeline and is configured to sense the second pressure of the chemical solution in the second pipeline. The bubble sensor is located in the second pipeline and is between the second pressure sensor and the discharge source. Pressure sensor and bubble sensor are used to monitor the purification results of the filter, which can save the chemical solution consumption of the filter and reduce the purification time.
【技术实现步骤摘要】
过滤器的纯化系统
本技术是有关于一种纯化技术,且特别是有关于一种过滤器的纯化系统。
技术介绍
半导体制程中所使用的化学溶液,例如去离子水(DIW)、碱性溶液、酸性溶液、以及光阻液等,其洁净度要求非常高。因此,必须移除化学溶液中的杂质或污染物,以避免这些杂质或污染物影响微元件制造的良率。一般是利用过滤器来移除化学溶液中的杂质或污染物,透过过滤器的滤芯等过滤介质来移除化学溶液中的任何污染物,以获得具有所需洁净度的化学溶液。使用过滤器来过滤化学溶液之前,由于过滤器本身可能存有杂质或污染物,因此必须先清洁过滤器,以避免过滤器中的杂质或污染物流至化学溶液内。此外,过滤器的滤芯内部的空隙有气体残留,因此当化学溶液经过过滤器时,滤芯内部的气体会溶入化学溶液中而在化学溶液中形成气泡,这些气泡也会影响制程良率。
技术实现思路
因此,本技术的一目的就是在提供一种过滤器的纯化系统,其可预先移除过滤器本身的杂质或污染物,并可透过监控过滤器的纯化结果,而达到节省纯化过滤器的化学溶液消耗量以及缩减纯化时间的功效。根据本技术的上述目的,提出一种过滤器的纯化系统。此过滤器的纯化系统包含过滤器放置架、化学溶液供液系统、第一压力感测器、化学溶液排液系统、第二压力感测器、以及气泡感测器。过滤器放置架配置以装载过滤器。化学溶液供液系统包含供液源、以及第一管线连接供液源与过滤器放置架,其中供液源配置以供应过滤器化学溶液。第一压力感测器设于第一管线上,且配置以感测化学溶液在第一管线中的第一压力。化学溶液排液系统包含排液源、以及第二管线连接过滤器放置架与排液源,其中排液源配置以容置经由过滤器所排出的化学溶液。 ...
【技术保护点】
1.一种过滤器的纯化系统,其特征在于,该过滤器的纯化系统包含:一过滤器放置架,配置以装载一过滤器;一化学溶液供液系统,包含一供液源、以及一第一管线连接该供液源与该过滤器放置架,其中该供液源配置以供应该过滤器一化学溶液;一第一压力感测器,设于该第一管线上,且配置以感测该化学溶液在该第一管线中的一第一压力;一化学溶液排液系统,包含一排液源、以及一第二管线连接该过滤器放置架与该排液源,其中该排液源配置以容置经由该过滤器所排出的该化学溶液;一第二压力感测器,设于该第二管线上,且配置以感测该化学溶液在该第二管线中的一第二压力;以及一气泡感测器,设于该第二管线上,且介于该第二压力感测器与该排液源之间,其中该气泡感测器配置以感测通过的该化学溶液中是否有气泡。
【技术特征摘要】
2018.03.09 TW 1072031221.一种过滤器的纯化系统,其特征在于,该过滤器的纯化系统包含:一过滤器放置架,配置以装载一过滤器;一化学溶液供液系统,包含一供液源、以及一第一管线连接该供液源与该过滤器放置架,其中该供液源配置以供应该过滤器一化学溶液;一第一压力感测器,设于该第一管线上,且配置以感测该化学溶液在该第一管线中的一第一压力;一化学溶液排液系统,包含一排液源、以及一第二管线连接该过滤器放置架与该排液源,其中该排液源配置以容置经由该过滤器所排出的该化学溶液;一第二压力感测器,设于该第二管线上,且配置以感测该化学溶液在该第二管线中的一第二压力;以及一气泡感测器,设于该第二管线上,且介于该第二压力感测器与该排液源之间,其中该气泡感测器配置以感测通过的该化学溶液中是否有气泡。2.根据权利要求1所述的过滤器的纯化系统,其特征在于,该过滤器的纯化系统还包含一控制器,与该第一压力感测器及该第二压力感测器信号连接,其中该控制器配置以接收该第一压力感测器与该第二压力感测器所感测到的该第一压力与该第二压力,并计算该第一压力与该第二压力之间的一压力差,且判断该压力差是否保持在一预设范围内。3.根据权利要求2所述的过滤器的纯化系统,其特征在于,该控制器与该气泡感测器信号连接,且该控制器更配置以接收该气泡感测器的一感测结果,并根据该压力差是否保持在该预设范围内的判断结果与该气泡感测器的该感测结果来判断该过滤器是否已完成纯化。4.根据权利要求2所述的过滤器的纯化系统,其特征在于,该过滤器的纯化系统还包含一微粒子计数器,其中该微粒...
【专利技术属性】
技术研发人员:陈彦政,游闵盛,王世昌,陈柏轩,
申请(专利权)人:馗鼎奈米科技股份有限公司,
类型:新型
国别省市:中国台湾,71
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