一种吸音材料及应用该吸音材料的扬声器制造技术

技术编号:20004448 阅读:31 留言:0更新日期:2019-01-05 17:25
本发明专利技术提供了一种吸音材料,其包括MEL结构分子筛,MEL结构分子筛包括骨架和骨架外阳离子,骨架包括二氧化硅和含非硅元素的元素M的氧化物MxOy,其特征在于,骨架中Si/M的质量比至少为80,骨架外阳离子包括氢离子、碱金属离子、碱土金属离子及过渡金属离子中的至少一种,骨架外阳离子含量在0.05wt.%至1.5wt.%之间。本发明专利技术还提供了一种应用该吸音材料的扬声器。与相关技术相比,本发明专利技术的具有MEL结构分子筛的吸音材料加入到扬声器中,能显著改善扬声器低频性能,并且在实际应用中该吸音材料具有很强的抗性能衰减性。

A Sound Absorbing Material and a Speaker Using the Sound Absorbing Material

The invention provides a sound-absorbing material, which comprises a MEL structural molecular sieve, which comprises a skeleton and an external cation, a skeleton including silica and an oxide MxOy containing a non-silicon element M. Its characteristics are that the mass ratio of Si/M in the skeleton is at least 80, and the external cations of the skeleton include hydrogen ions, alkali metal ions, alkali earth metal ions and transition metal ions. At least one of them has cationic content ranging from 0.05 wt.% to 1.5 wt.%. The invention also provides a loudspeaker applying the sound absorbing material. Compared with the related technology, the sound absorbing material with MEL molecular sieve added to the loudspeaker can significantly improve the low frequency performance of the loudspeaker, and in practical application, the sound absorbing material has strong anti-performance attenuation.

【技术实现步骤摘要】
一种吸音材料及应用该吸音材料的扬声器
本专利技术涉及吸音材料
,特别涉及一种吸音材料及应用该吸音材料的扬声器。
技术介绍
随着科技的发展,人们对扬声器的要求越来越高,特别是手机扬声器,要求不单单是体积小有声音,而是体积小的同时还需提供很好的音质。音质的好坏与扬声器设计、制造过程各个环节都有关,特别是扬声器后腔设计的大小。通常情况下,扬声器后腔减少,会显著降低低频段的响应,致使音质变差,所以很难在很小后腔条件下,提供很好音质。为解决上述技术问题,通常的做法主要有以下几种:1、将后腔中的空气用声顺性更好的气体取代;2、在后腔中填充类似三聚氰胺等泡沫增加声顺性;3、在后腔中填充活性炭、沸石、二氧化硅等多孔材料,增加虚拟后腔体积,提高声顺性。其中,第三种效果最明显。相关技术中,沸石结构主要是FER、MFI、BEA和MEL。其中,MEL结构分子筛骨架主要由二氧化硅和三氧化二铝组成,如果Si/Al的质量比低于80,会显著吸附空气中的水分,占据大部分分子筛的微孔孔道,致使无低频改进效果。另外,用含元素M的金属离子合成时,如果Si/M的质量比太低,会造成难以合成或合成出的MEL结构结晶度等变差或很差。但是Si/Al的质量比较高时,虽然吸水率低,初始声学效果有保证,但随着时间的推移,MEL结构分子筛吸附扬声器体散发出来的极少量挥发性有机物(VOCs),进而使得其声学性能衰减。因此,实有必要提供一种新的吸音材料及应用该吸音材料的扬声器箱解决上述技术问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于克服上述技术问题,提供一种吸音材料和应用该吸音材料的扬声器,该吸音材料的加入显著改善扬声器低频性能,并且在实际应用中该吸音材料具有很强的抗性能衰减性。为实现上述目的,本专利技术提供一种吸音材料,其包括MEL结构分子筛,所述MEL结构分子筛包括骨架和骨架外阳离子,所述骨架包括二氧化硅和含非硅元素的元素M的氧化物MxOy;所述骨架中Si/M的质量比至少为80,所述骨架外阳离子包括氢离子、碱金属离子、碱土金属离子及过渡金属离子中的至少一种,所述骨架外阳离子含量在0.05wt.%至1.5wt.%之间。优选的,所述元素M包括三价和/或四价离子。优选的,所述元素M包括铝、铁、硼、钛、锆、镓、铬、钼中的至少一种元素。优选的,所述MEL结构分子筛的Si/M的质量比在150至2000之间。优选的,所述MEL结构分子筛的Si/M的质量比在150至1500之间。优选的,所述MEL结构分子筛的Si/M的质量比在200至1000之间。优选的,所述MEL结构分子筛的Si/Al的质量比大于或等于200且小于400。优选的,所述MEL结构分子筛的Si/Al的质量比在400至1000之间。优选的,所述MEL结构分子筛粒径尺寸在10纳米至10微米之间。优选的,所述MEL结构分子筛粒径尺寸在30纳米至6微米之间。优选的,所述MEL结构分子筛粒径尺寸在40纳米至5微米之间。优选的,所述MEL结构分子筛粒径尺寸为500纳米至5微米的常规合成微米级尺寸或40纳米至500纳米的非常规纳米级尺寸。优选的,所述骨架外阳离子包括锂离子、钠离子、钾离子、钡离子、钙离子、镁离子、铜离子、锌离子或银离子中的至少一种。优选的,所述骨架外阳离子含量在0.1wt.%至1.0wt.%之间。优选的,所述骨架外阳离子含量在0.15wt.%至0.8wt.%之间。优选的,所述MEL结构分子筛包括纯相MEL结构分子筛或混相MEL结构分子筛。优选的,所述MEL结构分子筛通过加入粘结剂成型为成型颗粒,且该成型颗粒的粒径尺寸在10微米至1000微米之间。优选的,所述成型颗粒的粒径尺寸在20微米至600微米之间。优选的,所述成型颗粒的粒径尺寸在25微米至500微米之间。本专利技术还提供了一种扬声器,其包括具有收容空间的壳体、置于所述壳体内的发声单体及由所述发声单体与壳体围成的后腔;所述后腔中填充有上述的吸音材料。与相关技术相比,本专利技术提供的吸音材料和应用该吸音材料的扬声器具有以下有益效果:一、所述吸音材料包括MEL结构分子筛,所述MEL结构分子筛的骨架包括二氧化硅,其具有均匀的微孔,微孔在声压作用下吸脱附空气分子,能够起到增加虚拟声腔体积的作用,将其填充于扬声器的后腔内,能显著提高扬声器的低频响应,改善其低频声学性能;二、采用MEL结构分子筛作为吸音材料,其体积小可以放入较小的腔体内,能够解决扬声器声腔小难以封装吸音材料的问题,满足扬声器向体积越来越小的方向发展的需求;三、本专利技术通过平衡吸水性和静电场作用之间的矛盾,选取合适的合成及后处理方式,得到了既不易吸水又常温吸脱附空气量明显增大的MEL结构分子筛,该分子筛低频改善性能更优。其中,所述骨架的Si/M的质量比在150至2000之间和所述骨架外阳离子含量在0.05wt.%至1.5wt.%之间,能显著增加所述吸音材料的耐VOCs性和抗性能衰减性,增加该吸音材料在扬声器箱应用中的长期稳定性。【附图说明】为了更清楚地说明本专利技术实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其它的附图,其中:图1为本专利技术实施例1提供的MEL和MFI混相结构分子筛XRD图谱;图2为本专利技术实施例3提供的纯相MEL结构分子筛XRD图谱;图3为本专利技术对比实施例1提供的纯相MFI结构分子筛XRD图谱;图4为本专利技术实施例1、实施例2和实施例4低温氮吸附对比图;图5为本专利技术对比实施例1和对比实施例2低温氮吸附对比图;图6为本专利技术实施例1和对比实施例1常温氮吸附对比图;图7为本专利技术扬声器后腔加入和不加MEL分子筛的频响曲线和阻抗曲线对比图;图8为本专利技术提供的扬声器结构示意图。【具体实施方式】下面将结合本专利技术实施例中的附图,对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅是本专利技术的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例,都属于本专利技术保护的范围。本专利技术涉及一种吸音材料,所述吸音材料包括MEL结构分子筛。所述MEL结构分子筛包括骨架和骨架外阳离子,所述骨架包括二氧化硅(SiO2)和含非硅元素的元素M的氧化物MxOy,所述骨架中Si/M的质量比至少为80。值得一提的是,通过实验得知,所述MEL结构分子筛骨架主要由二氧化硅和三氧化二铝组成,Si/Al的质量比如果低于80,会显著吸附空气中的水分,占据大部分分子筛的微孔孔道,致使无低频改进效果。另外,用元素M的氧化物合成时,如果Si/M的质量比太低,会造成难以合成或合成出的MEL结构结晶度等变差或很差。Si/Al的质量比较高时,虽然吸水率低,初始声学效果有保证,但随着时间的推移,所述MEL结构分子筛吸附了扬声器散发出来的挥发性有机物(VOCs),导致性能不断衰减。因此,在本实施方式中,Si/M的质量比优选在150~2000之间;更优选在150~1500之间,再优选在200~1000之间,使得所述MEL结构分子筛的耐水性显著提升、使得低频改善效果较好,合成难度较低且结晶度较好,且显著增加低频吸音材料的耐V本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种吸音材料,其包括MEL结构分子筛,所述MEL结构分子筛包括骨架和骨架外阳离子,所述骨架包括二氧化硅和含非硅元素的元素M的氧化物MxOy,其特征在于,所述骨架中Si/M的质量比至少为80,所述骨架外阳离子包括氢离子、碱金属离子、碱土金属离子及过渡金属离子中的至少一种,所述骨架外阳离子含量在0.05wt.%至1.5wt.%之间。

【技术特征摘要】
1.一种吸音材料,其包括MEL结构分子筛,所述MEL结构分子筛包括骨架和骨架外阳离子,所述骨架包括二氧化硅和含非硅元素的元素M的氧化物MxOy,其特征在于,所述骨架中Si/M的质量比至少为80,所述骨架外阳离子包括氢离子、碱金属离子、碱土金属离子及过渡金属离子中的至少一种,所述骨架外阳离子含量在0.05wt.%至1.5wt.%之间。2.根据权利要求1所述的吸音材料,其特征在于,所述元素M包括三价和/或四价离子。3.根据权利要求2所述的吸音材料,其特征在于,所述元素M包括铝、铁、硼、钛、锆、镓、铬、钼中的至少一种元素。4.根据权利要求1所述的吸音材料,其特征在于,所述MEL结构分子筛的Si/M的质量比在150至2000之间。5.根据权利要求4所述的吸音材料,其特征在于,所述MEL结构分子筛的Si/M的质量比在150至1500之间。6.根据权利要求5所述的吸音材料,其特征在于,所述MEL结构分子筛的Si/M的质量比在200至1000之间。7.根据权利要求6所述的吸音材料,其特征在于,所述MEL结构分子筛的Si/Al的质量比大于或等于200且小于400。8.根据权利要求6所述的吸音材料,其特征在于,所述MEL结构分子筛的Si/Al的质量比在400至1000之间。9.根据权利要求1所述的吸音材料,其特征在于,所述MEL结构分子筛粒径尺寸在10纳米至10微米之间。10.根据权利要求9所述的吸音材料,其特征在于,所述MEL结构分子筛粒径尺寸在30纳米至6微米之间。11...

【专利技术属性】
技术研发人员:冯宏枢王和志唐琨戴际强
申请(专利权)人:瑞声科技南京有限公司
类型:发明
国别省市:江苏,32

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