一种经颅磁脑病治疗仪制造技术

本发明专利技术公开了一种经颅磁脑病治疗仪，包括可戴在头部的场效应帽和与场效应帽电连接的脑电模拟发生器，所述的经颅磁脑病治疗仪还包括基座、设置在基座上带有空腔的背板和安装在背板上部的顶板，所述顶板的底部设有十字型凹槽，所述场效应帽的顶部设有滑块，所述的脑电模拟发生器位于基座内，且连接脑电模拟发生器与场效应帽的导线穿设在背板的空腔内。本发明专利技术提供的经颅磁脑病治疗仪通过设置基座、在基座上带有空腔的背板和安装在背板上部的顶板，所述的脑电模拟发生器位于基座内，且连接脑电模拟发生器与场效应帽的导线穿设在背板的空腔内，使得场效应帽在使用过程中可上下移动，解决了仪器在使用过程中不易固定，固定后不可上下移动的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种经颅磁脑病治疗仪
本专利技术涉及经颅磁治疗仪
，具体涉及一种经颅磁脑病治疗仪。
技术介绍
经颅磁刺激技术(TranscranialMagneticStimulationTMS)是一种无痛、无创的绿色治疗方法，磁信号可以无衰减地透过颅骨而刺激到大脑神经，实际应用中并不局限于头脑的刺激，外周神经肌肉同样可以刺激，因此现在都叫它为"磁刺激"。随着技术的发展，具有连续可调重复刺激的经颅磁刺激出现，并在临床精神病、神经疾病及康复领域获得越来越多的认可。但是现有的仪器在使用过程中不易固定，固定后不可上下移动，给患者带来许多不便。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种经颅磁脑病治疗仪，能够有效解决现有的仪器在使用过程中不易固定，固定后不可上下移动，给患者带来许多不便的问题。为实现上述目的，本专利技术的技术方案为：一种经颅磁脑病治疗仪，包括可戴在头部的场效应帽和与场效应帽电连接的脑电模拟发生器，所述的经颅磁脑病治疗仪还包括基座、设置在基座上带有空腔的背板和安装在背板上部的顶板，所述顶板的底部设有十字型凹槽，所述场效应帽的顶部设有可在十字形凹槽内滑动的滑块，所述的脑电模拟发生器位于基座内，且连接脑电模拟发生器与场效应帽的导线穿设在背板的空腔内。在一些实施方案之中，所述顶板的上方设有用于驱动场效应帽顶部滑块的电机。在一些实施方案之中，所述的背板上对称设有两个扶手。在一些实施方案之中，所述背板沿高度方向设有两条平行的滑槽，所述顶板的边缘处设有可沿滑槽上下移动的卡块。在一些较为具体的实施方案之中，所述滑槽的槽壁上沿长度方向均匀分布有多个固定孔，所述顶板边缘处的卡块上设有与固定孔相对应的通孔，一固定销可依次穿过滑槽槽壁上的固定孔和卡块上的通孔，将顶板固定在背板上。在一些实施方案之中，所述基座的底部对称设有多个万向轮。在一些实施方案之中，所述场效应帽内分布有电极和多个电磁铁，电磁铁和电极通过导线分别与脑电模拟发生器连接。在一些较为具体的实施方案之中，所述的多个电磁铁并联后与脑电模拟发生器连接。在一些实施方案之中，所述电磁铁的数目为4—10个。在一些实施方案之中，所述的脑电模拟发生器包括壳体、安装在壳体上的电源开关、疏密波输出插座、方波输出插座、脉冲波形转换开关、场效应帽输出插座、磁场强度选择开关、脉冲电流功能指示灯、脉冲电流强度指示灯和治疗信号发生电路构成。与现有技术相比，本专利技术具有如下优点：本专利技术提供的经颅磁脑病治疗仪通过设置基座、在基座上带有空腔的背板和安装在背板上部的顶板，所述顶板的底部设有十字型凹槽，所述场效应帽的顶部设有可在十字形凹槽内滑动的滑块，所述的脑电模拟发生器位于基座内，且连接脑电模拟发生器与场效应帽的导线穿设在背板的空腔内，使得场效应帽在使用过程中可上下移动，解决了仪器在使用过程中不易固定，固定后不可上下移动，给患者带来许多不便的问题。附图说明图1是本专利技术一典型实施例中经颅磁脑病治疗仪的立体图之一；图2是本专利技术一典型实施例中经颅磁脑病治疗仪的立体图之二；图3是本专利技术一典型实施例中经颅磁脑病治疗仪的主视图；图4是本专利技术一典型实施例中顶板的立体图；附图标记说明：1—场效应帽；2—基座；3—背板；4—顶板；5—十字形凹槽；6—电机；7—扶手；8—滑槽；9—卡块；10—万向轮。具体实施方式以下实施例用于说明本专利技术，但不用来限制本专利技术的范围。下面结合附图和具体实施例对本专利技术进行详细的说明，如图所示：一种经颅磁脑病治疗仪，包括可戴在头部的场效应帽1和与场效应帽1电连接的脑电模拟发生器，所述的经颅磁脑病治疗仪还包括基座2、设置在基座2上带有空腔的背板3和安装在背板3上部的顶板4，所述顶板4的底部设有十字型凹槽5，所述场效应帽1的顶部设有可在十字形凹槽5内滑动的滑块，所述的脑电模拟发生器位于基座2内，且连接脑电模拟发生器与场效应帽1的导线穿设在背板3的空腔内。进一步的，所述顶板4的上方设有用于驱动场效应帽1顶部滑块的电机6。所述的背板3上对称设有两个扶手7。所述背板3沿高度方向设有两条平行的滑槽8，所述顶板4的边缘处设有可沿滑槽8上下移动的卡块9。所述滑槽8的槽壁上沿长度方向均匀分布有多个固定孔，所述顶板4边缘处的卡块9上设有与固定孔相对应的通孔，一固定销可依次穿过滑槽8槽壁上的固定孔和卡块9上的通孔，将顶板4固定在背板3上。进一步的，所述基座2的底部对称设有多个万向轮10。进一步的，所述场效应帽1内分布有电极和多个电磁铁，电磁铁和电极通过导线分别与脑电模拟发生器连接。所述的多个电磁铁并联后与脑电模拟发生器连接。所述电磁铁的数目为4—10个。进一步的，所述的脑电模拟发生器包括壳体、安装在壳体上的电源开关、疏密波输出插座、方波输出插座、脉冲波形转换开关、场效应帽输出插座、磁场强度选择开关、脉冲电流功能指示灯、脉冲电流强度指示灯和治疗信号发生电路构成。本专利技术的原理是：本申请提供的经颅磁脑病治疗仪通过设置基座2、在基座2上带有空腔的背板3和安装在背板3上部的顶板4，所述的脑电模拟发生器位于基座2内，且连接脑电模拟发生器与场效应帽1的导线穿设在背板3的空腔内，使得场效应帽1在使用过程中可上下移动。所述顶板4的底部设有十字型凹槽5，所述场效应帽1的顶部设有可在十字形凹槽5内滑动的滑块，使得场效应帽1可根据需要在顶板4底部的十字型凹槽5内移动。本申请在背板3沿高度方向设有两条平行的滑槽8，所述顶板4的边缘处设有可沿滑槽8上下移动的卡块9。所述滑槽8的槽壁上沿长度方向均匀分布有多个固定孔，所述顶板4边缘处的卡块9上设有与固定孔相对应的通孔，一固定销可依次穿过滑槽8槽壁上的固定孔和卡块上的通孔，将顶板4固定在背板3上，进一步实现场效应帽1的固定，解决了仪器在使用过程中不易固定，固定后不可上下移动，给患者带来许多不便的问题。虽然，上文中已经用一般性说明及具体实施例对本专利技术作了详尽的描述，但在本专利技术基础上，可以对之作一些修改或改进，这对本领域技术人员而言是显而易见的。因此，在不偏离本专利技术精神的基础上所做的这些修改或改进，均属于本专利技术要求保护的范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种经颅磁脑病治疗仪，包括可戴在头部的场效应帽和与场效应帽电连接的脑电模拟发生器，其特征在于：所述的经颅磁脑病治疗仪还包括基座、设置在基座上带有空腔的背板和安装在背板上部的顶板，所述顶板的底部设有十字型凹槽，所述场效应帽的顶部设有可在十字形凹槽内滑动的滑块，所述的脑电模拟发生器位于基座内，且连接脑电模拟发生器与场效应帽的导线穿设在背板的空腔内。

【技术特征摘要】
1.一种经颅磁脑病治疗仪，包括可戴在头部的场效应帽和与场效应帽电连接的脑电模拟发生器，其特征在于：所述的经颅磁脑病治疗仪还包括基座、设置在基座上带有空腔的背板和安装在背板上部的顶板，所述顶板的底部设有十字型凹槽，所述场效应帽的顶部设有可在十字形凹槽内滑动的滑块，所述的脑电模拟发生器位于基座内，且连接脑电模拟发生器与场效应帽的导线穿设在背板的空腔内。2.根据权利要求1所述的经颅磁脑病治疗仪，其特征在于：所述顶板的上方设有用于驱动场效应帽顶部滑块的电机。3.根据权利要求1所述的经颅磁脑病治疗仪，其特征在于：所述的背板上对称设有两个扶手。4.根据权利要求1所述的经颅磁脑病治疗仪，其特征在于：所述背板沿高度方向设有两条平行的滑槽，所述顶板的边缘处设有可沿滑槽上下移动的卡块。5.根据权利要求4所述的经颅磁脑病治疗仪，其特征在于：所述滑槽的槽壁上沿长度方向均匀分布有多个固定孔，所述顶...

【专利技术属性】
技术研发人员：王改凤，刘晓晨，
申请(专利权)人：河南省中医院河南中医药大学第二附属医院，
类型：发明
国别省市：河南,41