显示基板及其制备方法、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种显示基板及其制备方法、显示装置，属于显示技术领域。本发明专利技术的显示基板，包括位于基底上的隔离柱，隔离柱包括：第一隔离层和第二隔离层；其中，第一隔离层位于第二隔离层背离基底的一侧；第二隔离层和第一隔离层分别具有靠近基底的底面和远离基底的顶面；其中，第一隔离层的顶面在基底的正投影覆盖第一隔离层的底面在基底的正投影，第二隔离层的顶面在基底的正投影覆盖第二隔离层的底面在基底的正投影，第二隔离层的底面在基底的正投影覆盖第一隔离层的顶面在基底的正投影，且第二隔离层的底面的面积大于第一隔离层的顶面的面积。

【技术实现步骤摘要】
显示基板及其制备方法、显示装置
本专利技术属于显示
，具体涉及一种显示基板及其制备方法、显示装置。
技术介绍
如图1所示，无源矩阵OLED显示基板中，为了实现无源矩阵OLED的高分辨率和彩色化，更好地解决阴极模板分辨率低和器件成品率低等问题，提出了倒梯形阴极隔离柱的设计，从而在OLED器件制备过程中，利用隔离柱实现阴极层的自然断裂，形成多个阴极图案，从而提高产品良率。其中，为了更好地发挥倒梯形隔离柱的隔断作用，需要隔离柱的顶面与底面的有较大差距，由于现有材料形成的倒梯形隔离柱的倒角角度有限，只能通过隔离柱高度的设计增强其隔断作用，而这样会限制显示基板的轻薄化。
技术实现思路
本专利技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提供一种能够降低显示基板厚度，提升隔离效果的显示基板。解决本专利技术技术问题所采用的技术方案是一种显示基板，包括位于基底上的隔离柱，所述隔离柱包括：第一隔离层和第二隔离层；其中，所述第一隔离层位于所述第二隔离层背离所述基底的一侧；所述第二隔离层和所述第一隔离层分别具有靠近所述基底的底面和远离所述基底的顶面；其中，所述第一隔离层的顶面在所述基底的正投影覆盖所述第一隔离层的底面在所述基底的正投影，所述第二隔离层的顶面在所述基底的正投影覆盖所述第二隔离层的底面在所述基底的正投影，所述第二隔离层的底面在所述基底的正投影覆盖所述第一隔离层的顶面在所述基底的正投影，且所述第二隔离层的底面的面积大于所述第一隔离层的顶面的面积。优选的，所述第一隔离层与所述第二隔离层的材料相同。进一步优选的，所述第一隔离层与所述第二隔离层的材料均包括有机光刻胶。优选的，所述第一隔离层与所述第二隔离层的材料不同。进一步优选的，所述第一隔离层的材料为第一负性光刻胶；所述第二隔离层的材料为第二负性光刻胶；所述第一负性光刻胶的光敏感度大于所述第二负性光刻胶的光敏感度；或者，所述第一隔离层的材料为第一正性光刻胶；所述第二隔离层的材料为第二正性光刻胶；所述第一正性光刻胶的光敏感度小于所述第二正性光刻胶的光敏感度。优选的，所述显示基板为OLED显示基板。解决本专利技术技术问题所采用的技术方案是一种显示基板的制备方法，包括：通过构图工艺在基底上依次形成第一隔离层和第二隔离层的图形；其中，所述第二隔离层和所述第一隔离层分别具有靠近所述基底的底面和远离所述基底的顶面；其中，所述第一隔离层的顶面覆盖所述第一隔离层的底面，所述第二隔离层的顶面覆盖所述第二隔离层的底面，所述第二隔离层的底面覆盖所述第一隔离层的顶面，且所述第二隔离层的底面的面积大于所述第一隔离层的顶面的面积。优选的，所述通过构图工艺在基底上依次形成第一隔离层和第二隔离层的图形的步骤具体包括：在基底上形成第一隔离层膜层，通过构图工艺在基底上形成第一隔离层的图形；在形成有所述第一隔离层的基底上形成第二隔离层膜层，通过构图工艺形成第二隔离层。优选的，所述通过构图工艺在基底上依次形成第一隔离层和第二隔离层的图形的步骤具体包括：在基底上依次形成第一隔离层膜层和第二隔离层膜层，通过一次构图工艺形成包括第一隔离层和第二隔离层的图形；其中，所述第一隔离层的材料为第一负性光刻胶；所述第二隔离层的材料为第二负性光刻胶；所述第一负性光刻胶的光敏感度大于所述第二负性光刻胶的光敏感度；或者，所述第一隔离层的材料为第一正性光刻胶；所述第二隔离层的材料为第二正性光刻胶；所述第一正性光刻胶的光敏感度小于所述第二正性光刻胶的光敏感度。优选的，所述显示基板为OLED显示基板；所述通过构图工艺在基底上依次形成第一隔离层和第二隔离层的图形的步骤之后，还包括：通过蒸镀工艺在基底上阴极层的图形，所述阴极层在所述第二隔离层的边缘位置自然断裂，分割成多个阴极图案。解决本专利技术技术问题所采用的技术方案是一种显示装置，包括：上述任意一种显示基板。附图说明图1为现有的显示基板的结构示意图；图2为本专利技术的实施例的显示基板的结构示意图图3为本专利技术的实施例的显示基板的制备方法中形成隔离柱的一种实施方式的示意图；图4为本专利技术的实施例的显示基板的制备方法中形成隔离柱的另一种实施方式的示意图；图5为本专利技术的实施例的显示基板的制备方法中形成发光层和阴极的示意图；其中附图标记为：1、基底；2、阳极图案；3、隔离柱；31、第一隔离层；32、第二隔离层；33、第一隔离层膜层；34、第二隔离层膜层；4、发光层；5、阴极图案。具体实施方式为使本领域技术人员更好地理解本专利技术的技术方案，下面结合附图和具体实施方式对本专利技术作进一步详细描述。实施例1：如图2所示，本实施例提供一种显示基板，其特别适用OLED(OrganicLight-EmittingDiode；有机电致发光二极管)显示基板，具体可以为有源OLED显示基板，也可以为无源OLED显示基板。下面以OLED显示基板为例对本实施例进行具体说明。本实施例中的显示基板包括基底1，基底1上设置有多行阳极图案2，阳极图案2所在层的上方设置有多列隔离柱3，隔离柱3所在层上方依次设置有发光层和阴极层，且发光层和阴极层在隔离柱3边缘处断裂，形成与隔离柱3间隔设置的多列阴极图案5，多行阳极图案2与多列阴极图案5的各交叠位置处限定出多个OLED单元，发光层4位于阴极5与阳极图案2之间。特别的是，本实施例中的隔离柱3包括：第一隔离层31和第二隔离层32。其中，第一隔离层31位于第二隔离层32背离基底1的一侧；第二隔离层32和第一隔离层31分别具有靠近基底1的底面和远离基底1的顶面；其中，第一隔离层31的顶面在基底1的正投影覆盖第一隔离层31的底面在基底1的正投影，第二隔离层32的顶面在基底1的正投影覆盖第二隔离层32的底面在基底1的正投影，第二隔离层32的底面在基底1的正投影覆盖第一隔离层31的顶面在基底1的正投影，且第二隔离层32的底面的面积大于第一隔离层31的顶面的面积。如图2所述，本实施例中的隔离柱3包括第一隔离层31和第二隔离层32，第一隔离层31比第二隔离层32更靠近基底1，第二隔离层32覆盖第一隔离层31，且第二隔离层32的面积大于第一隔离层31的面积，也即第二隔离层32底面与第一隔离层31顶面连接处形成断层结构，且在同等的隔离宽度(隔离柱3顶面宽度)下，隔离柱3底面的宽度可更小。其中，第一隔离层31以及第二隔离层32的具体尺寸(例如面积差距)可根据实际隔断效果需求进行具体设置，在此不做限定。当在形成有该隔离柱3的基底1上制备阴极图案5时，可以更好地将阴极层分隔形成多个阴极图案5，且利用上述断层结构能够减缓阴极图案5边缘攀爬延伸至隔离柱3的现象，从而阴极图案5的制备良率，提高显示基板的显示效果。同时，现有技术中的单层倒梯形结构的隔离柱3不仅对隔离柱3材料有特殊要求，而且需要满足一定高度才能实现倒梯形的结构，这样无疑会加大隔离柱3的制备难度。而本实施例中，通过两层隔离层形成隔离柱3，该隔离柱3的形状不再局限于倒梯形，只要是上大下小即可，例如，本实施例中隔离柱3可以为“T”形，此时各隔离层以及整体隔离柱3的高度没有限制条件，也就是说本实施例中的隔离柱3的高度相对于现有技术中的隔离柱3可以更低，从而有助于显示基板的轻薄化，且能够明显降隔离柱3的制备难度。当然，隔离柱3的高度是可控的，其可以根据实际需求进行具体设置。进本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示基板，包括位于基底上的隔离柱，其特征在于，所述隔离柱包括：第一隔离层和第二隔离层；其中，所述第一隔离层位于所述第二隔离层背离所述基底的一侧；所述第二隔离层和所述第一隔离层分别具有靠近所述基底的底面和远离所述基底的顶面；其中，所述第一隔离层的顶面在所述基底的正投影覆盖所述第一隔离层的底面在所述基底的正投影，所述第二隔离层的顶面在所述基底的正投影覆盖所述第二隔离层的底面在所述基底的正投影，所述第二隔离层的底面在所述基底的正投影覆盖所述第一隔离层的顶面在所述基底的正投影，且所述第二隔离层的底面的面积大于所述第一隔离层的顶面的面积。

【技术特征摘要】
1.一种显示基板，包括位于基底上的隔离柱，其特征在于，所述隔离柱包括：第一隔离层和第二隔离层；其中，所述第一隔离层位于所述第二隔离层背离所述基底的一侧；所述第二隔离层和所述第一隔离层分别具有靠近所述基底的底面和远离所述基底的顶面；其中，所述第一隔离层的顶面在所述基底的正投影覆盖所述第一隔离层的底面在所述基底的正投影，所述第二隔离层的顶面在所述基底的正投影覆盖所述第二隔离层的底面在所述基底的正投影，所述第二隔离层的底面在所述基底的正投影覆盖所述第一隔离层的顶面在所述基底的正投影，且所述第二隔离层的底面的面积大于所述第一隔离层的顶面的面积。2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述第一隔离层与所述第二隔离层的材料相同。3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述第一隔离层与所述第二隔离层的材料均包括有机光刻胶。4.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述第一隔离层与所述第二隔离层的材料不同。5.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，所述第一隔离层的材料为第一负性光刻胶；所述第二隔离层的材料为第二负性光刻胶；所述第一负性光刻胶的光敏感度大于所述第二负性光刻胶的光敏感度；或者，所述第一隔离层的材料为第一正性光刻胶；所述第二隔离层的材料为第二正性光刻胶；所述第一正性光刻胶的光敏感度小于所述第二正性光刻胶的光敏感度。6.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板为OLED显示基板。7.一种显示基板的制备方法，其特征在于，包括：通过构图工艺在基底上依次形成第一隔离层和第二隔离层的图形；其中，所述第二隔离层和所述第一隔离层分别具有靠近所述基...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘华清，魏雄周，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，重庆京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11