一种盖板及其制作方法、显示面板及显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种盖板及其制作方法、显示面板及显示装置，涉及显示技术领域。本发明专利技术通过在第一衬底上通过构图工艺依次形成薄膜晶体管、光学传感器以及位于光学传感器上的第一电极，形成钝化层，在钝化层上通过构图工艺依次形成黑矩阵及贯穿钝化层的第一电极连接孔，在黑矩阵上通过构图工艺形成电极连接层，电极连接层包括同层设置的辅助阴极和第一电极连接线，且第一电极连接线通过第一电极连接孔与第一电极连接，通过构图工艺依次形成彩色滤光层、平坦层、支撑柱和第二电极。通过一次构图工艺形成辅助阴极和第一电极连接线，减小了制作工艺步骤，降低了制作成本，且辅助阴极和第一电极连接线同层设置，可节省盖板的占用空间。

【技术实现步骤摘要】
一种盖板及其制作方法、显示面板及显示装置
本专利技术涉及显示
，特别是涉及一种盖板及其制作方法、显示面板及显示装置。
技术介绍
OLED(OrganicLight-emittingDiode，有机发光二极管)显示面板可以包括顶发射型OLED显示面板和底发射型OLED显示面板，顶发射型OLED显示面板的光线从阴极一侧出射，因此，为了保证光线的透过率，需要将阴极的厚度降低，但随着阴极厚度的降低，阴极电阻增大，因此，可在顶发射型OLED显示面板中的盖板上制作辅助阴极来降低阴极电阻，从而提高顶发射型OLED显示面板的显示质量；同时，为了进一步提高OLED显示面板的显示质量，在OLED显示面板中的盖板上制作光学传感器，通过光学传感器检测显示面板中每个像素的发光亮度，当像素的发光亮度较低时，对该像素进行光学补偿。在顶发射型OLED显示面板中的盖板上同时制作辅助阴极和光学传感器时，一般采用如下步骤：如图1所示，首先在第一衬底11上依次形成缓冲层12、有源层13、栅绝缘层14和栅极15，接着沉积层间介质层16，在层间介质层16上制作过孔，并形成源极171和漏极172，从而制作得到薄膜晶体管，在薄膜晶体管的漏极172上制作形成光学传感器18，在光学传感器18上制作第一电极19，然后完成钝化层20的沉积，并在钝化层20上通过构图工艺形成第一电极连接孔，接着，在钝化层20上制作第一电极连接线21，将第一电极连接线21与光学传感器18上的第一电极19连接，然后，依次制作树脂层22、黑矩阵23、彩色滤光层24和平坦层25，在平坦层25上形成辅助阴极26，在辅助阴极26上形成支撑柱27，最后，在支撑柱27上制作第二电极28，并与辅助阴极26连接，在后续的工艺中，第二电极28与阴极接触，则可实现辅助阴极与阴极连接，从而降低阴极电阻。但是，在顶发射型OLED显示面板中的盖板上同时制作辅助阴极和光学传感器，整个制作工艺步骤复杂，制作成本较高，且使得盖板在显示面板中的占用空间增大。
技术实现思路
本专利技术提供一种盖板及其制作方法、显示面板及显示装置，以解决现有的在盖板上同时制作辅助阴极和光学传感器，制作工艺步骤复杂，制作成本较高，且盖板的占用空间大的问题。为了解决上述问题，本专利技术公开了一种盖板的制作方法，包括：在第一衬底上通过构图工艺依次形成薄膜晶体管、光学传感器以及位于所述光学传感器上的第一电极；形成钝化层，所述钝化层覆盖所述薄膜晶体管和所述第一电极；在所述钝化层上通过构图工艺依次形成黑矩阵及贯穿所述钝化层的第一电极连接孔；在所述黑矩阵上通过构图工艺形成电极连接层；所述电极连接层包括同层设置的辅助阴极和第一电极连接线，且所述第一电极连接线通过所述第一电极连接孔与所述第一电极连接；通过构图工艺依次形成彩色滤光层、平坦层、支撑柱和第二电极，所述第二电极通过贯穿所述平坦层的第二电极连接孔与所述辅助阴极连接。优选地，所述通过构图工艺依次形成彩色滤光层、平坦层、支撑柱和第二电极的步骤，包括：在所述钝化层上通过构图工艺形成彩色滤光层，所述彩色滤光层在所述钝化层上的正投影部分覆盖所述黑矩阵及所述第一电极连接线；形成平坦层，所述平坦层覆盖所述电极连接层、所述黑矩阵和所述彩色滤光层；在所述平坦层上通过构图工艺依次形成支撑柱及贯穿所述平坦层的第二电极连接孔；通过构图工艺形成第二电极，所述第二电极覆盖所述支撑柱，并通过所述第二电极连接孔与所述辅助阴极连接。优选地，所述在第一衬底上通过构图工艺依次形成薄膜晶体管、光学传感器以及位于所述光学传感器上的第一电极的步骤，包括：在所述第一衬底上形成缓冲层；在所述缓冲层上通过构图工艺形成有源层；在所述有源层上通过构图工艺依次形成栅绝缘层和栅极；通过构图工艺形成层间介质层，所述层间介质层覆盖所述缓冲层、所述有源层、所述栅绝缘层和所述栅极；在所述层间介质层上通过构图工艺形成源极和漏极，所述源极和所述漏极分别通过所述层间介质层上的过孔与所述有源层连接；在所述漏极上形成光学传感器；在所述光学传感器上背离所述漏极的一侧形成所述第一电极。为了解决上述问题，本专利技术还公开了一种盖板，包括：第一衬底；依次形成在第一衬底上的薄膜晶体管、光学传感器以及位于所述光学传感器上的第一电极；钝化层，所述钝化层覆盖所述薄膜晶体管和所述第一电极；形成在所述钝化层上的黑矩阵；形成在所述黑矩阵上的电极连接层；所述电极连接层包括同层设置的辅助阴极和第一电极连接线，且所述第一电极连接线通过贯穿所述钝化层的第一电极连接孔与所述第一电极连接；依次形成的彩色滤光层、平坦层、支撑柱和第二电极，所述第二电极通过贯穿所述平坦层的第二电极连接孔与所述辅助阴极连接。优选地，所述彩色滤光层形成在所述钝化层上，所述彩色滤光层在所述钝化层上的正投影部分覆盖所述黑矩阵及所述第一电极连接线；所述平坦层覆盖所述电极连接层、所述黑矩阵和所述彩色滤光层；所述支撑柱形成在所述平坦层上；所述第二电极覆盖所述支撑柱，并通过所述第二电极连接孔与所述辅助阴极连接。优选地，所述电极连接层的厚度为至优选地，所述薄膜晶体管包括：形成在所述第一衬底上的缓冲层；形成在所述缓冲层上的有源层；依次形成在所述有源层上的栅绝缘层和栅极；层间介质层，所述层间介质层覆盖所述缓冲层、所述有源层、所述栅绝缘层和所述栅极；形成在所述层间介质层上的源极和漏极，所述源极和所述漏极分别通过所述层间介质层上的过孔与所述有源层连接。优选地，所述光学传感器形成在所述漏极上，所述第一电极形成在所述光学传感器背离所述漏极的一侧。为了解决上述问题，本专利技术还公开了一种显示面板，所述显示面板包括上述的盖板。优选地，所述显示面板还包括显示基板，所述盖板扣置在所述显示基板上；所述显示基板包括：层叠设置在第二衬底上的阳极、有机发光层和阴极，所述阴极与所述第二电极接触。优选地，所述阴极与所述第二电极的接触部位位于支撑柱所在的位置。为了解决上述问题，本专利技术另外公开了一种显示装置，包括上述的显示面板。与现有技术相比，本专利技术包括以下优点：通过在第一衬底上通过构图工艺依次形成薄膜晶体管、光学传感器以及位于光学传感器上的第一电极，形成覆盖薄膜晶体管和第一电极的钝化层，在钝化层上通过构图工艺依次形成黑矩阵及贯穿钝化层的第一电极连接孔，在黑矩阵上通过构图工艺形成电极连接层，电极连接层包括同层设置的辅助阴极和第一电极连接线，且第一电极连接线通过第一电极连接孔与第一电极连接，通过构图工艺依次形成彩色滤光层、平坦层、支撑柱和第二电极，第二电极通过贯穿平坦层的第二电极连接孔与辅助阴极连接。通过一次构图工艺形成辅助阴极和第一电极连接线，减小了制作工艺步骤，降低了制作成本，且辅助阴极和第一电极连接线同层设置，可节省盖板的占用空间。附图说明图1示出了现有的一种盖板的结构示意图；图2示出了本专利技术实施例的一种盖板的制作方法的流程图；图3示出了本专利技术实施例中形成薄膜晶体管、光学传感器和钝化层后的结构示意图；图4示出了本专利技术实施例中形成黑矩阵和第一电极连接孔后的结构示意图；图5示出了本专利技术实施例中形成电极连接层后的结构示意图；图6示出了本专利技术实施例中形成彩色滤光层后的结构示意图；图7示出了本专利技术实施例中形成平坦层和第二电极连接孔后的结构示意图；图8示出了本专利技术实施例中形成支撑柱后的结本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种盖板的制作方法，其特征在于，包括：在第一衬底上通过构图工艺依次形成薄膜晶体管、光学传感器以及位于所述光学传感器上的第一电极；形成钝化层，所述钝化层覆盖所述薄膜晶体管和所述第一电极；在所述钝化层上通过构图工艺依次形成黑矩阵及贯穿所述钝化层的第一电极连接孔；在所述黑矩阵上通过构图工艺形成电极连接层；所述电极连接层包括同层设置的辅助阴极和第一电极连接线，且所述第一电极连接线通过所述第一电极连接孔与所述第一电极连接；通过构图工艺依次形成彩色滤光层、平坦层、支撑柱和第二电极，所述第二电极通过贯穿所述平坦层的第二电极连接孔与所述辅助阴极连接。

【技术特征摘要】
1.一种盖板的制作方法，其特征在于，包括：在第一衬底上通过构图工艺依次形成薄膜晶体管、光学传感器以及位于所述光学传感器上的第一电极；形成钝化层，所述钝化层覆盖所述薄膜晶体管和所述第一电极；在所述钝化层上通过构图工艺依次形成黑矩阵及贯穿所述钝化层的第一电极连接孔；在所述黑矩阵上通过构图工艺形成电极连接层；所述电极连接层包括同层设置的辅助阴极和第一电极连接线，且所述第一电极连接线通过所述第一电极连接孔与所述第一电极连接；通过构图工艺依次形成彩色滤光层、平坦层、支撑柱和第二电极，所述第二电极通过贯穿所述平坦层的第二电极连接孔与所述辅助阴极连接。2.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述通过构图工艺依次形成彩色滤光层、平坦层、支撑柱和第二电极的步骤，包括：在所述钝化层上通过构图工艺形成彩色滤光层，所述彩色滤光层在所述钝化层上的正投影部分覆盖所述黑矩阵及所述第一电极连接线；形成平坦层，所述平坦层覆盖所述电极连接层、所述黑矩阵和所述彩色滤光层；在所述平坦层上通过构图工艺依次形成支撑柱及贯穿所述平坦层的第二电极连接孔；通过构图工艺形成第二电极，所述第二电极覆盖所述支撑柱，并通过所述第二电极连接孔与所述辅助阴极连接。3.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述在第一衬底上通过构图工艺依次形成薄膜晶体管、光学传感器以及位于所述光学传感器上的第一电极的步骤，包括：在所述第一衬底上形成缓冲层；在所述缓冲层上通过构图工艺形成有源层；在所述有源层上通过构图工艺依次形成栅绝缘层和栅极；通过构图工艺形成层间介质层，所述层间介质层覆盖所述缓冲层、所述有源层、所述栅绝缘层和所述栅极；在所述层间介质层上通过构图工艺形成源极和漏极，所述源极和所述漏极分别通过所述层间介质层上的过孔与所述有源层连接；在所述漏极上形成光学传感器；在所述光学传感器上背离所述漏极的一侧形成所述第一电极。4.一种盖板，其特征在于，包括：第一衬底；依次形成在第一衬底上的薄膜晶体管、光学传感器以及位于所述光...

【专利技术属性】
技术研发人员：李伟，刘威，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11