【技术实现步骤摘要】
用于单元放置的方法以及执行该方法的计算机系统
本专利技术的实施例总体涉及电子电路设计领域,更具体地,涉及单元置放的方法以及执行该方法的计算机系统。
技术介绍
电子设计自动化(EDA)工具可以用于集成电路(IC)设计流程。例如,EDA工具可以用于在IC布局设计中放置标准单元(例如,实现逻辑或其他电子功能的单元)。随着技术的不断增长和对按比例IC的需求的不断增长,EDA工具对于帮助设计复杂的IC布局设计变得越来越重要。
技术实现思路
根据本专利技术的一个方面,提供了一种用于单元放置的方法,包括:将布局区域划分为一个或多个连续单元,其中,每个单元均包括多个放置位置;将第一多个引脚位置和第二多个引脚位置映射到所述一个或多个连续单元中的每一个,其中,所述一个或多个连续单元中的每一个中的所述多个放置位置中的每一个均包括来自所述第一多个引脚位置的引脚轨迹、来自所述第二多个引脚位置的引脚轨迹或来自所述第一多个引脚位置的引脚轨迹和来自所述第二多个引脚位置的组合;以及基于将与单元相关联的一个或多个引脚分配到来自所述第一多个引脚位置的引脚轨迹、来自所述第二多个引脚位置的引脚轨迹或来自所述第一多个引脚位置的引脚轨迹和来自所述第二多个引脚位置的组合中的至少一个引脚轨迹,将所述单元放置到所述一个或多个连续单元中,其中,从包括所述单元的多个引脚位置的单元库中检索得到所述单元。根据本专利技术的又一个方面,提供了一种计算机系统,包括:存储器,配置为存储指令;以及处理器,当执行所述指令时,所述处理器被配置为实施以下的操作,包括;将布局区域划分为一个或多个连续单元,其中,每个单元均包括多个放置位置 ...
【技术保护点】
1.一种用于单元放置的方法,包括:将布局区域划分为一个或多个连续单元,其中,每个单元均包括多个放置位置;将第一多个引脚位置和第二多个引脚位置映射到所述一个或多个连续单元中的每一个,其中,所述一个或多个连续单元中的每一个中的所述多个放置位置中的每一个均包括来自所述第一多个引脚位置的引脚轨迹、来自所述第二多个引脚位置的引脚轨迹或来自所述第一多个引脚位置的引脚轨迹和来自所述第二多个引脚位置的组合;以及基于将与单元相关联的一个或多个引脚分配到来自所述第一多个引脚位置的引脚轨迹、来自所述第二多个引脚位置的引脚轨迹或来自所述第一多个引脚位置的引脚轨迹和来自所述第二多个引脚位置的组合中的至少一个引脚轨迹,将所述单元放置到所述一个或多个连续单元中,其中,从包括所述单元的多个引脚位置的单元库中检索得到所述单元。
【技术特征摘要】
2017.06.07 US 62/516,532;2018.01.29 US 15/882,2881.一种用于单元放置的方法,包括:将布局区域划分为一个或多个连续单元,其中,每个单元均包括多个放置位置;将第一多个引脚位置和第二多个引脚位置映射到所述一个或多个连续单元中的每一个,其中,所述一个或多个连续单元中的每一个中的所述多个放置位置中的每一个均包括来自所述第一多个引脚位置的引脚轨迹、来自所述第二多个引脚位置的引脚轨迹或来自所述第一多个引脚位置的引脚轨迹和来自所述第二多个引脚位置的组合;以及基于将与单元相关联的一个或多个引脚分配到来自所述第一多个引脚位置的引脚轨迹、来自所述第二多个引脚位置的引脚轨迹或来自所述第一多个引脚位置的引脚轨迹和来自所述第二多个引脚位置的组合中的至少一个引脚轨迹,将所述单元放置到所述一个或多个连续单元中,其中,从包括所述单元的多个引脚位置的单元库中检索得到所述单元。2.根据权利要求1所述的方法,其中,所述一个或多个连续单元中的每一个均包括四个放置位置S1至S4,并且,所述划分包括以连续的方式布置所述放置位置S1、所述放置位置S2、所述放置位置S3和所述放置位置S4。3.根据权利要求2所述的方法,其中,所述映射包括:将来自所述第一多个引脚位置的第一引脚轨迹映射到所述放置位置S1;将来自所述第二多个引脚位置的第二引脚轨迹和来自所述第一多个引脚位置的第三引脚轨迹映射到所述放置部位S2;将来自所述第二多个引脚位置的第四引脚轨迹映射到所述放置位置S3;以及将来自所述第一多个引脚位置的第五引脚轨迹和来自所述第二多个引脚位置的第六引脚轨迹映射到所述放置位置S4。4.根据权利要求1所述的方法,其中,所述映射包括:将所述第一多个引脚位置映射到具有第一电特性的第一局部互连件,其中,所述第一局部互连件被布线为电连接到与所述单元相关联的所述一个或多个引脚中的至少一个;以及将所述第二多个引脚位置映射到具有与所述第一电特性不同的第二电特性的第二局部互连件,其中,所述第二局部互连件被布线以电连接到与所述单元相关联的所述一个或多个引脚中的至少另一个。5.根据权利要求4所述的方法,其中,所述第一局部互连件和所述第二局部互连件中的每一个均包括金属M0互连件或金属M1互连件。6.根据权利要求1所述的方法,其中,所述单元库包括基本单元库、具有第一引脚偏移的基本单元库和具有第二引脚偏移的基本单元库,并且,所述基本单元库、所述具有第一引脚偏移的基本单元库、以及所述具有第二引脚偏移的基本单元库中的每一个均包括所述单元...
【专利技术属性】
技术研发人员:林彦宏,王中兴,侯元德,
申请(专利权)人:台湾积体电路制造股份有限公司,
类型:发明
国别省市:中国台湾,71
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