张网位置精度测量调节装置以及张网检测调节系统制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种张网位置精度测量调节装置以及张网检测调节系统，张网位置精度测量调节装置包括：机台、发光模组、感光件以及夹持件，所述机台用于固定掩膜板的安装框架，所述发光模组可移动地设于所述机台上，所述发光模组包括多个发光件，所述发光件用于模拟蒸镀线源，所述感光件与所述机台连接且所述感光件与所述发光模组之间限定出用于容纳掩膜板的张网空间，所述夹持件用于夹持定位所述掩膜板。由此，使张网位置精度测量调节装置对掩膜板的定位精度高，定位更加准确、精度测量的结果更准确。

【技术实现步骤摘要】
张网位置精度测量调节装置以及张网检测调节系统
本专利技术涉及真空蒸镀
，具体而言，涉及一种张网位置精度测量调节装置以及张网检测调节系统。
技术介绍
张网是通过精确的测量，将薄如蝉翼的FMMsheet(英文名称：FineMetalMask，中文名称：高精度金属掩模板)经过拉伸移动调整，最终焊接在安装框架(Frame)上。整个过程中，对FMMsheet位置的准确测量判断是决定张网质量的关键。相关技术中，对张网进行测量定位是通过“龙门架”式测量系统实现的，该系统由Y轴运动部件、X轴运动部件、Z轴运动部件以及CCD(英文名称：Charge-coupledDevice,中文全称:电荷耦合元件)组成。该系统在测量定位过程中，Y轴运动部件采用直线电机带动X轴运动部件、Z轴运动部件以及CCD同步沿Y轴运动；X轴运动部件采用直线电机带动Y轴运动部件、Z轴运动部件以及CCD同步沿X轴运动；Z轴运动部件采用滚珠丝杠带动CCD沿Z轴运动，且Y轴、X轴、Z轴之间为串联运动链(即依次进行)。进而，该系统具有以下的特点，传动链较复杂，上述传动链需要上百个零部件相互配合，需要多个软件系统进行信息交互，整个测量系统体积较大，对于G6H或者更高世代线而言，由于安装框架的尺寸变大，导致运动连各部件尺寸也需要相应增大，进而整个运动链的重量可能达到5T以上。这样，运动链的结构复杂，定位过程中，涉及的零部件相互的运动配合较多，运动稳定性以及可靠性下降；机构尺寸大，温度变化对机构的整体变形影响较大，无法满足0.1μm的定位精度；运动链的传动精度低、机构部件(部件结构自身的变形)稳定性低、温度变化对机构稳定性的显著改变以及Y轴运动、X轴运动、Z轴运动后的误差累积导致定位精度难以满足要求。更为重要的是，CCD图像抓取是根据图像二值化后的阈值判断进行的，图像二值化处理过程中会突出强度比区域，削减、削弱弱对比区域，虽然可以实现对FMMsheet的中心位置抓取，但是，FMMsheet为刻蚀件，刻蚀过程中会出现球状刻蚀区，球状刻蚀区会导致蒸镀过程中部分材料蒸镀到球状刻蚀区的开口范围外，造成阴影(英文名称：shadow)，进而在实际蒸镀过程中，透过FMMsheet的蒸镀材料会出现类似的“扩散现象”。也就是说，扩散区域+中心区域才是真实的蒸镀范围，但现有技术所采用的图像抓取方法会弱化扩散区域，无法准确获取，精度较低。综上，传统的“龙门架”式测量系统，自身结构的局限性、测量方法的局限性导致对FMMsheet的位置的测量精度较低。
技术实现思路
本专利技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本专利技术提出一种张网位置精度测量调节装置，所述张网位置精度测量调节装置对掩膜板的定位精度高，定位更加准确。本专利技术还公开了一种具有上述张网位置精度测量调节装置的张网检测调节系统。根据本专利技术第一方面实施例的张网位置精度测量调节装置包括：机台、发光模组、感光件以及夹持件，所述机台用于固定掩膜板的安装框架，所述发光模组可移动地设于所述机台上，所述发光模组包括多个发光件，所述发光件用于模拟蒸镀线源，所述感光件与所述机台连接且所述感光件与所述发光模组之间限定出用于容纳掩膜板的张网空间，所述夹持件用于夹持定位所述掩膜板。根据本专利技术实施例的张网位置精度测量调节装置，在检测掩膜板张网位置的过程中，通过发光模组模拟蒸镀线源，通过感光件感应发光模组所发出的光线，以使感应件的感光区域模拟出蒸镀线源在蒸镀过程中的蒸镀区域。这样，通过发光模组与感光件查找出感光区域，以通过感光件的未感光区域计算、分析出掩膜板所在位置与张网位置的偏差，上述过程中通过感光件替代传统的CCD图像抓取，以在精度测量过程中，使掩膜板在蒸镀过程中的阴影区域也可以被感应、采集到，从而使精度测量的结果更加准确、感应精度更高，进而使张网位置精度测量调节装置对张网位置的检测精度更高，定位更加准确。根据本专利技术的一些实施例，所述发光模组包括安装基座，所述安装基座可滑动地设于所述机台上，多个所述发光件在所述安装基座上呈直线形排列。在一些实施例中，所述发光件可拆卸地连接于所述安装基座。进一步地，所述安装基座具有多个螺纹安装孔，多个所述安装孔中的一部分形成为使用孔且另一部分形成为预留孔，所述发光件伸入所述螺纹安装孔内与所述安装基座螺接固定。在一些实施例中，所述发光件的排列方向与所述机台的滑动方向互相垂直。进一步地，所述张网位置精度测量调节装置还包括第一驱动电机，所述第一驱动电机与所述安装基座连接以驱动所述安装基座移动，所述安装基座的下端具有滑槽，所述机台具有与所述滑槽相适配的滑轨，所述滑轨的延伸方向与所述安装基座的长度方向垂直，所述发光件在所述安装基座的长度方向依次分布。根据本专利技术的一些实施例，每个所述发光件包括亮度可调节的光源和与所述光源连接的调节头，所述调节头的一端与所述光源的发光端螺纹连接且另一端与所述调节头螺纹连接，所述调节头具有供光源的光线射出的出光口，所述调节头具有调节所述出光口的出光角度的调节旋钮。在一些实施例中，所述感光件通过安装支架与所述机台固定，所述安装支架包括多个立柱以及连接在多个所述立柱的上端的支撑板，所述感光件固定在所述支撑板的下表面，所述发光件位于所述支撑板的下方。在一些实施例中，所述张网位置精度测量调节装置还包括第二驱动电机，所述夹持件包括两个夹持臂，所述第二驱动电机一一对应地与所述夹持臂连接以驱动两个所述夹持臂相向运动或相背运动，所述夹持臂的移动方向与所述发光模组的移动方向互相垂直。根据本专利技术第二方面实施例的张网检测调节系统包括：控制装置、如上述实施例中所述的张网位置精度测量调节装置，控制装置与驱动所述发光件移动的电机、驱动所述夹持件运动的电机、所述感光件电连接，以控制所述发光件开启移动并根据所述感光件上的光学信息驱动所述夹持件运动，以对所述掩膜板定位。本专利技术的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本专利技术的实践了解到。附图说明本专利技术的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：图1是根据本专利技术实施例的张网位置精度测量调节装置的示意图；图2是根据本专利技术实施例的张网位置精度测量调节装置的感光件、掩膜板、发光模组以及第一驱动电机的示意图；图3是根据本专利技术实施例的张网位置精度测量调节装置的发光模组以及第一驱动电机的示意图；图4是根据本专利技术实施例的张网位置精度测量调节装置的发光模组的发光件的示意图；图5是根据本专利技术实施例的张网位置精度测量调节装置的发光模组的发光件的调节头的示意图。附图标记：张网位置精度测量调节装置100，机台10，安装框架11，滑轨12，发光模组20，发光件21，调节头211，光源212，调节旋钮2111，安装基座22，滑槽221，感光件30，掩膜板40，夹持件50，第一驱动电机60，安装支架70，立柱71，支撑板71，第二驱动电机80，预留孔a，出光口b。具体实施方式下面详细描述本专利技术的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的单元或具有相同或类似功能的单元。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本专利技术，而不能理解为对本专利技术的限制。下面参考图1至图5描述根据本专利技术实施本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种张网位置精度测量调节装置，其特征在于，包括：机台，所述机台用于固定掩膜板的安装框架；发光模组，所述发光模组可移动地设于所述机台上，所述发光模组包括多个发光件，所述发光件用于模拟蒸镀线源；感光件，所述感光件与所述机台连接且所述感光件与所述发光模组之间限定出用于容纳掩膜板的张网空间；以及夹持件，所述夹持件用于夹持定位所述掩膜板。

【技术特征摘要】
1.一种张网位置精度测量调节装置，其特征在于，包括：机台，所述机台用于固定掩膜板的安装框架；发光模组，所述发光模组可移动地设于所述机台上，所述发光模组包括多个发光件，所述发光件用于模拟蒸镀线源；感光件，所述感光件与所述机台连接且所述感光件与所述发光模组之间限定出用于容纳掩膜板的张网空间；以及夹持件，所述夹持件用于夹持定位所述掩膜板。2.根据权利要求1所述的张网位置精度测量调节装置，其特征在于，所述发光模组包括安装基座，所述安装基座可滑动地设于所述机台上，多个所述发光件在所述安装基座上呈直线形排列。3.根据权利要求2所述的张网位置精度测量调节装置，其特征在于，所述发光件可拆卸地连接于所述安装基座。4.根据权利要求3所述的张网位置精度测量调节装置，其特征在于，所述安装基座具有多个螺纹安装孔，多个所述安装孔中的一部分形成为使用孔且另一部分形成为预留孔，所述发光件伸入所述螺纹安装孔内与所述安装基座螺接固定。5.根据权利要求2所述的张网位置精度测量调节装置，其特征在于，所述发光件的排列方向与所述机台的滑动方向互相垂直。6.根据权利要求5所述的张网位置精度测量调节装置，其特征在于，还包括第一驱动电机，所述第一驱动电机与所述安装基座连接以驱动所述安装基座移动，所述安装基座的下端具有滑槽，所述机台具有与所述滑槽相适配的滑轨，所述滑轨的延伸方向与所...

【专利技术属性】
技术研发人员：马超，伍青峰，许进，韩丰明，黄世花，苏宇峰，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，成都京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11