【技术实现步骤摘要】
一种制备石墨烯插层介孔氮化碳光催化剂的方法
本专利技术涉及一种制备石墨烯插层介孔氮化碳光催化剂的方法。
技术介绍
利用光催化剂和太阳能的光催化技术是目前解决环境问题的一种重要手段，也是各国的一个研究热点。而光催化技术的关键点是开发高效催化材料，石墨相氮化碳（g-C3N4）是一种有机类半导体光催化剂，其响应可见光性能优异。但其也存在比表面积相对较低，和较高的电子-空穴复合机率等缺点，从而抑制其光催化效率。而硬模板法能制备出更加高效的介孔石墨相氮化碳（mpg-C3N4）。另外，石墨烯具有优异的电子转移能力和超大的比表面积，以及特殊的二维平面结构，使其最适合与g-C3N4合成复合材料。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种制备石墨烯插层介孔氮化碳光催化剂的方法。本专利技术通过下面技术方案实现：一种制备石墨烯插层介孔氮化碳光催化剂的方法，包括如下步骤：将15-25份硅溶胶在搅拌下加到50-60份质量分数为50%的单氰胺水溶液中，再加入8-14份GO，搅拌2.5-3.5h至完全混合，45-55℃干燥47-49h，将所得半透明块状物研磨细后置于石英舟中于管式炉中氮气氛围下加热，以4℃/min的升温速率升温至510-530℃保温5-6h，所得固体用浓度为3.5mol/L的氟化氢铵处理71-73h去除二氧化硅模板，之后将混合液离心分离并用蒸馏水和无水乙醇洗涤4-6次，于45-55℃干燥即得；各原料均为重量份。优选地，所述的方法中，搅拌3h至完全混合。优选地，所述的方法中，50℃干燥48h。优选地，所述的方法中，以4℃/min的升温速率升温至520℃保温5.5h。优选地，...
【技术保护点】
1.一种制备石墨烯插层介孔氮化碳光催化剂的方法，其特征在于包括如下步骤：将15‑25份硅溶胶在搅拌下加到50‑60份质量分数为50%的单氰胺水溶液中，再加入8‑14份GO，搅拌2.5‑3.5h至完全混合，45‑55℃干燥47‑49h，将所得半透明块状物研磨细后置于石英舟中于管式炉中氮气氛围下加热，以4℃/min的升温速率升温至510‑530℃保温5‑6h，所得固体用浓度为3.5mol/L的氟化氢铵处理71‑73h去除二氧化硅模板，之后将混合液离心分离并用蒸馏水和无水乙醇洗涤4‑6次，于45‑55℃干燥即得；各原料均为重量份。
【技术特征摘要】
1.一种制备石墨烯插层介孔氮化碳光催化剂的方法，其特征在于包括如下步骤：将15-25份硅溶胶在搅拌下加到50-60份质量分数为50%的单氰胺水溶液中，再加入8-14份GO，搅拌2.5-3.5h至完全混合，45-55℃干燥47-49h，将所得半透明块状物研磨细后置于石英舟中于管式炉中氮气氛围下加热，以4℃/min的升温速率升温至510-530℃保温5-6h，所得固体用浓度为3.5mol/L的氟化氢铵处理71-73h去除...
【专利技术属性】
技术研发人员：不公告发明人，
申请(专利权)人：启东创潞新材料有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32
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