一种新型研磨液搅拌装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种新型研磨液搅拌装置，该装置包括搅拌桶和设置在搅拌桶内的搅拌装置、研磨液循环装置以及设置在搅拌桶外的液位检测器，所述搅拌桶的桶底向桶底内壁凹陷形成特殊桶底结构，所述搅拌装置包括搅拌电机和至少两组搅拌叶片，所述至少两组搅拌叶片为同心不同轴的套管式结构，与现有技术相比，本发明专利技术改进的特殊桶底结构，减少了在同等液位下的研磨液残留，另外本发明专利技术中多组搅拌叶片采用的同心不同轴的套管式结构，可以在不额外增加搅拌桶体积的情况下，扩展搅拌桶的功能，从而提升搅拌效率和自循环效率，大大增强了本发明专利技术的实用性。

【技术实现步骤摘要】
一种新型研磨液搅拌装置
本专利技术涉及搅拌器
，尤其涉及一种新型研磨液搅拌装置。
技术介绍
晶圆制造中，随着制程技术的升级，导线与栅极尺寸的缩小，光刻技术对晶圆表面的平坦程度的要求越来越高，化学机械研磨(CMP)技术是目前机械加工中唯一可以实现表面全局平坦化的技术，所以CMP技术在近些年得到了快速发展，如今已大量应用于半导体产业。化学机械研磨装置的其中一个主要部件为研磨液供给装置，该供给装置的主要作用是，对研磨液进行预搅拌，防止研磨液中的研磨颗粒产生沉淀，保证研磨液中的各个组分均匀分布，并根据实际需求对研磨液进行稀释。由于研磨液在静置一段时间后，研磨颗粒会发生沉淀的现象，特别是研磨颗粒较大或者含有密度较高的金属氧化物的研磨颗粒，例如氧化铝等，这种沉淀现象更为明显。所以预搅拌是研磨液供给过程中极为重要的一环。现有技术中的预搅拌装置，如图1所示，一般是在平底研磨液的原液桶中放置一个带有叶片的搅拌棒，搅拌叶片横向与桶底平行，由电机驱动搅拌棒转动，同时研磨液循环装置抽动研磨液在搅拌桶内自循环，使研磨液在桶内保持流动状态，从而达到预搅拌的目的。然而传统的预搅拌装置存在以下几个问题：由于研磨液的原液桶为平底结构，搅拌叶片和桶底又有一定距离(一般为10到15cm之间)，当液位降到接近搅拌叶片时，为防止高速旋转的叶片打到液体表面而造成研磨液飞溅，此时搅拌叶片会停止搅拌。然而由于此时桶内还剩余较多的研磨液，如果仅通过自循环无法达到完全防止研磨颗粒沉淀的目的。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题在于提供一种新型研磨液搅拌装置，该装置通过改进原液桶桶底结构和搅拌叶片结构，增加搅拌叶片数量，与传统的搅拌桶相比，不仅可以减少相同液位下的研磨液残留，而且搅拌叶片可在不提升转速的情况下，进一步提升搅拌效率和自循环效率，从而达到防止研磨颗粒沉淀的目的。本专利技术解决其技术问题采取的技术方案是，提供一种新型研磨液搅拌装置，包括搅拌桶、设置在所述搅拌桶内的搅拌装置、研磨液循环装置以及设置在所述搅拌桶外的液位检测器；所述搅拌桶的桶底向桶底内壁凹陷形成一特殊桶底结构。进一步的，所述搅拌装置包括搅拌电机和至少两组搅拌叶片，所述搅拌电机和所述搅拌叶片电性连接，所述搅拌电机用于驱动所述搅拌叶片在搅拌桶内旋转。进一步的，所述液位检测器的数量至少为两个，所述液位检测器用于检测所述搅拌桶内研磨液的液位。进一步的，所述搅拌叶片包括第一搅拌叶片和第二搅拌叶片，所述第一搅拌叶片和所述第二搅拌叶同心不同轴。进一步的，所述第一搅拌叶片设置在所述第二搅拌叶片的上方。进一步的，所述液位检测器包括第一液位检测器和第二液位检测器，所述第一液位检测器和所述第二液位检测器均电性连接所述搅拌电机；于所述搅拌桶内预设有一第一液位和一第二液位，所述第一液位高于所述第二液位；所述第一搅拌叶片设置在所述第二搅拌叶片的上方；所述第一液位检测器对应设置在所述搅拌桶内的所述第一液位的位置，所述第二液位检测器对应设置在所述搅拌桶内的所述第二液位的位置；当所述第一液位检测器检测到所述搅拌桶内的研磨液的液位高于所述第一液位时，所述搅拌电机控制所述第一搅拌叶片和所述第二搅拌叶片同时搅拌；当所述第一液位检测器检测到所述搅拌桶内的研磨液的液位降至所述第一液位下时，所述搅拌电机控制所述第一搅拌叶片停止搅拌，以及控制所述第二搅拌叶片继续搅拌；当所述第二液位检测器检测到所述搅拌桶内的研磨液的液位降至所述第二液位下时，所述搅拌电机控制所述第二搅拌叶片停止旋转，此时所述第一搅拌叶片和所述第二搅拌叶片均处于停止状态。进一步的，所述研磨液循环装置还包括研磨液循环泵和插入在研磨液中的循环管，所述研磨液循环泵连接所述循环管；所述研磨液循环装置始终工作以保持研磨液的自循环。与现有技术相比，本专利技术的有益效果是：1、改进的原液桶特殊桶底结构与传统的平底搅拌桶相比，在相同液位下可以减少研磨液残留，从而提升搅拌效率和自循环效率；2、本专利技术采用多组搅拌叶片，技术人员可以对每一个搅拌叶片进行单独控制或对所有搅拌叶片同时进行控制，在防止研磨液飞溅的同时，进一步保证了研磨液的搅拌效率，可有效防止研磨颗粒的沉淀。3、多组搅拌叶片采用同心不同轴的结构，通过该套管式结构，可以在不额外增加搅拌桶体积的前提下，扩展该搅拌装置的功能，增强了本专利技术的实用性。附图说明图1是现有技术的研磨液搅拌装置的结构示意图；图2是本专利技术研磨液搅拌装置的结构示意图；图3是本专利技术研磨液搅拌装置的传动结构示意图；图4是图3中A处结构的放大图；图5是图3中B处结构的放大图。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。需要说明的是，在不冲突的情况下，本专利技术中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面结合附图和具体实施例对本专利技术作进一步说明，但不作为本专利技术的限定。实施例一：本专利技术所述的新型研磨液搅拌装置，请参照图2至图5，包括搅拌桶和设置在搅拌桶内的搅拌装置、研磨液循环装置以及设置在搅拌桶外的液位检测器，所述搅拌桶的桶底1向桶底内壁凹陷形成一特殊桶底结构。搅拌装置包括搅拌电机2和第一搅拌叶片3、第二搅拌叶片4，第一搅拌叶片3和第二搅拌叶片4为同心不同轴的套管式结构，第一搅拌叶片3设置在第二搅拌叶片4的上方，搅拌电机2分别与搅拌叶片3和搅拌叶片4电性连接，搅拌电机2用于驱动搅拌叶片在搅拌桶内旋转，从而对搅拌桶内的研磨液进行搅拌。在本实施例中，搅拌电机2驱动第一搅拌叶片3和第二搅拌叶片4同时旋转。所述液位检测器包括第一液位检测器5和第二液位检测器6，第一液位检测器5和第二液位检测器6均与搅拌电机2电性连接，第一液位检测器5对应检测搅拌桶内研磨液的第一液位，第二液位检测器6对应检测研磨液的第二液位，第一液位高于第二液位。使用时，当搅拌桶内研磨液的液位高于第一液位时，所述第一搅拌叶片3和所述第二搅拌叶片4在搅拌桶内同时旋转对研磨液进行搅拌；当搅拌桶内的研磨液的液位降至第一液位时，为了防止搅拌叶片打到液体表面而产生液体飞溅，此时第一搅拌叶片3停止搅拌，第二搅拌叶片4继续搅拌；当研磨液的液位持续降低至第二液位时，同样是为了防止液体飞溅，此时第二搅拌叶片4停止搅拌，第一搅拌叶片3和第二搅拌叶片4均进入停止状态。所述研磨液循环装置还包括研磨液循环泵7和插入在研磨液中的循环管8，需要说明的是，研磨液循环装置自始至终处于工作状态以保持研磨液的自循环，有利于提高研磨效率。实施例二：实施例二与实施例一的区别在于：当搅拌桶内的研磨液液位高于所述的第一液位时，所述第一搅拌叶片3单独旋转以搅拌研磨液，所述第二搅拌叶片4始终处于停止状态；当研磨液液位处于所述第一液位和第二液位之间时，所述第一搅拌叶片3停止搅拌，所述第二搅拌叶片4启动旋转，开始搅拌研磨液；当研磨液液位低于第二液位时，所述第二搅拌叶片4也停止旋转，随即依靠所述研磨液循环装置对桶内残留的研磨液进行循环搅拌。实施例三：实施例三和实施例一的区别在于：当搅拌桶内的研磨液液位高于所述的第二液位时，所述第一搅拌叶片3始终本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种新型研磨液搅拌装置，其特征在于，包括搅拌桶、设置在所述搅拌桶内的搅拌装置、研磨液循环装置以及设置在所述搅拌桶外的液位检测器；所述搅拌桶的桶底向桶底内壁凹陷形成一特殊桶底结构。

【技术特征摘要】
1.一种新型研磨液搅拌装置，其特征在于，包括搅拌桶、设置在所述搅拌桶内的搅拌装置、研磨液循环装置以及设置在所述搅拌桶外的液位检测器；所述搅拌桶的桶底向桶底内壁凹陷形成一特殊桶底结构。2.如权利要求1所述的一种新型研磨液搅拌装置，其特征在于，所述搅拌装置包括搅拌电机和至少两组搅拌叶片，所述搅拌电机和所述搅拌叶片电性连接，所述搅拌电机用于驱动所述搅拌叶片在搅拌桶内旋转。3.如权利要求1所述的一种新型研磨液搅拌装置，其特征在于，所述液位检测器的数量至少为两个，所述液位检测器用于检测所述搅拌桶内研磨液的液位。4.如权利要求2所述的一种新型研磨液搅拌装置，其特征在于，所述搅拌叶片包括第一搅拌叶片和第二搅拌叶片，所述第一搅拌叶片和所述第二搅拌叶同心不同轴。5.如权利要求4所述的一种新型研磨液搅拌装置，其特征在于，所述第一搅拌叶片设置在所述第二搅拌叶片的上方。6.如权利要求4所述的一种新型研磨液搅拌装置，其特征在于，所述液位检测器包括第一液位检测器和第二液位检测器，所述第一液位检测器和所述第二液位检测器均电性连...

【专利技术属性】
技术研发人员：李虎，张守龙，赵正元，
申请(专利权)人：上海华力微电子有限公司，
类型：发明
国别省市：上海,31