触控基板及其制作方法、显示装置制造方法及图纸

技术编号:19744455 阅读:23 留言:0更新日期:2018-12-12 04:36
本发明专利技术提供了一种触控基板及其制作方法、显示装置,属于触控技术领域。其中,所述触控基板的触控电极采用导电复合结构,所述导电复合结构至少包括有机纳米导电层和覆盖所述有机纳米导电层的无机导电层。本发明专利技术的技术方案能够满足柔性触控基板的弯折需要,降低触控电极的方阻,提升柔性触控基板的触控性能。

【技术实现步骤摘要】
触控基板及其制作方法、显示装置
本专利技术涉及触控
,特别是指一种触控基板及其制作方法、显示装置。
技术介绍
近年柔性OLED(有机电致发光二极管)显示技术发展迅速,市场占有量逐步提升,未来有望成为市场主流的显示技术。基于柔性OLED显示技术的Touch(触控)技术同样需求旺盛。然而现有的柔性触控基板的触控电极一般采用ITO制成,由于ITO的膜质硬而脆,因此只能满足低端柔性Touch产品,比如固定曲率的柔性Touch产品,弯折半径≥3mm的柔性Touch产品,而无法满足高端柔性Touch产品的要求。在柔性Touch产品的弯折半径小于1mm,弯折次数大于10万次时,会发生ITO断裂或ITO出现裂纹的情况,影响触控基板的性能。同时ITO膜层为无机膜层,制备在柔性基材上时存在较大的应力,会导致柔性基材卷曲,且随着ITO膜层的厚度增加,产生的应力越大,因此ITO膜层的厚度不宜设置的过大,这样使得ITO膜层的方阻无法小于40Ω,影响了柔性触控产品的触控体验的提升,极大地限制和影响柔性Touch技术的发展。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是提供一种触控基板及其制作方法、显示装置,能够满足柔性触控基板的弯折需要,降低触控电极的方阻,提升柔性触控基板的触控性能。为解决上述技术问题,本专利技术的实施例提供技术方案如下:一方面,提供一种触控基板,所述触控基板的触控电极采用导电复合结构,所述导电复合结构至少包括有机纳米导电层和覆盖所述有机纳米导电层的无机导电层。进一步地,所述无机导电层的厚度小于进一步地,所述无机导电层采用透明导电层。进一步地,所述触控电极包括沿第一方向间隔排列的多个第一触控电极,沿第二方向延伸的多个第二触控电极,所述第一方向与所述第二方向相交,相邻所述第一触控电极之间通过触控电极架桥连接,所述触控电极架桥与所述触控电极之间间隔有绝缘层,所述触控电极架桥通过贯穿所述绝缘层的过孔与所述第一触控电极连接,所述触控电极架桥采用所述导电复合结构。进一步地,所述过孔的直径不大于35um。进一步地,所述触控基板还包括与所述触控电极连接的触控信号走线,所述触控信号走线与所述触控电极采用相同的导电结构。进一步地,所述有机纳米导电层采用纳米银线材料、纳米碳管材料、和纳米石墨烯材料中至少一者。本专利技术实施例还提供了一种显示装置,包括如上所述的触控基板。本专利技术实施例还提供了一种触控基板的制作方法,包括:在基底上形成导电复合结构,对所述导电复合结构进行构图形成触控电极,所述导电复合结构至少包括有机纳米导电层和覆盖所述有机纳米导电层的无机导电层。进一步地,形成所述导电复合结构包括:在基底上涂覆一层包含纳米导电材料的有机涂层,对所述有机涂层进行固化,得到所述有机纳米导电层;在所述有机纳米导电层上形成无机导电层。进一步地,形成所述触控电极包括:形成沿第一方向间隔排列的多个第一触控电极,沿第二方向延伸的多个第二触控电极,所述第一方向与所述第二方向相交;所述制作方法还包括:形成沿第一方向间隔排列的多个第一触控电极,沿第二方向延伸的多个第二触控电极,相邻第一触控电极之间间隔预定距离,相邻第二触控电极之间相连,所述第一方向与所述第二方向相交;所述制作方法还包括:形成覆盖所述触控电极的绝缘层;对所述绝缘层进行构图,形成暴露出所述第一触控电极的过孔;在所述绝缘层上形成所述导电复合结构,对所述导电复合结构进行构图形成触控电极架桥,所述触控电极架桥通过贯穿所述绝缘层的所述过孔连接相邻的所述第一触控电极。进一步地,所述制作方法还包括:形成所述导电复合结构,对所述导电复合结构进行构图形成与所述触控电极连接的触控信号走线。本专利技术的实施例具有以下有益效果:上述方案中,有机纳米导电层的弯折性能好,并且方阻很小,采用有机纳米导电层作为触控电极能够满足柔性触控基板的弯折需要,降低触控电极的方阻,但是有机纳米导电层非常脆弱,易被酸液氧化腐蚀,不能保证柔性触控基板的触控性能。因此,本实施例采用导电复合结构作为触控电极,所述导电复合结构至少包括有机纳米导电层和覆盖所述有机纳米导电层的无机导电层,这样可以利用无机导电层对有机纳米导电层进行保护,从而可以利用有机纳米导电层来制备触控电极,满足柔性触控基板的弯折需要,降低触控电极的方阻,且提升柔性触控基板的触控性能。附图说明图1为本专利技术实施例制备第一层的导电复合结构的图形后的平面示意图;图2为本专利技术实施例形成绝缘层后的平面示意图;图3为本专利技术实施例制备第二层的导电复合结构的图形后的平面示意图;图4为本专利技术实施例制备触控信号走线后的平面示意图;图5为本专利技术实施例在基底上涂覆包含纳米导电材料的有机涂层后的截面示意图;图6为本专利技术实施例对有机涂层进行固化后的截面示意图;图7为本专利技术实施例在有机纳米导电层上形成透明导电层后的截面示意图;图8为图1所示结构在AA’方向上的截面示意图;图9为图2所示结构在AA’方向上的截面示意图;图10为图2所示结构在BB’方向上的截面示意图;图11为图3所示结构在BB’方向上的截面示意图。附图标记1导电复合结构11第一触控电极12第二触控电极13触控电极架桥2绝缘层3触控信号走线4柔性基底5有机涂层6有机纳米导电层7透明导电层具体实施方式为使本专利技术的实施例要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚,下面将结合附图及具体实施例进行详细描述。为了解决柔性Touch产品在采用ITO作为触控电极时,容易发生ITO断裂或ITO出现裂纹的情况,并且ITO膜层的方阻无法满足小于40Ω的要求的问题,可以采用方阻较小的有机纳米导电层来制作触控电极,有机纳米导电层通过纳米线导电,具有良好的导电性能,有机纳米导电层还具有良好的耐弯折性,能够满足弯折半径小于1mm,弯折10万次的高要求,但是有机纳米导电层非常脆弱,易被酸液和碱液氧化腐蚀,因此,仅能利用有机纳米导电层形成一层结构的触控电极,而无法利用有机纳米导电层形成触控灵敏的多层的触控电极架桥结构,因为第一层的有机纳米导电层将会被后续工艺用到的酸性刻蚀液或碱性刻蚀液氧化腐蚀。为了解决上述问题,本专利技术的实施例提供一种触控基板及其制作方法、显示装置,能够满足柔性触控基板的弯折需要,降低触控电极的方阻,提升柔性触控基板的触控性能。本专利技术实施例提供一种触控基板,所述触控基板的触控电极采用导电复合结构,所述导电复合结构至少包括有机纳米导电层和覆盖所述有机纳米导电层的无机导电层。本实施例中,有机纳米导电层的弯折性能好,并且方阻很小,采用有机纳米导电层作为触控电极能够满足柔性触控基板的弯折需要,降低触控电极的方阻,但是有机纳米导电层非常脆弱,易被酸液氧化腐蚀,不能保证柔性触控基板的触控性能。因此,本实施例采用导电复合结构作为触控电极,所述导电复合结构至少包括有机纳米导电层和覆盖所述有机纳米导电层的无机导电层,这样可以利用无机导电层对有机纳米导电层进行保护,从而可以利用有机纳米导电层来制备触控电极,满足柔性触控基板的弯折需要,降低触控电极的方阻,且提升柔性触控基板的触控性能。为了降低无机导电层的应力,无机导电层的厚度优选小于由于无机导电层厚度很薄,几乎无应力,作用仅仅为保护有机纳米导电层上表面,因此对有机纳米导电层弯折后的导电性能无影响。在触控基板应用于显示装置时,为了降低无机导电层本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种触控基板,其特征在于,所述触控基板的触控电极采用导电复合结构,所述导电复合结构至少包括有机纳米导电层和覆盖所述有机纳米导电层的无机导电层。

【技术特征摘要】
1.一种触控基板,其特征在于,所述触控基板的触控电极采用导电复合结构,所述导电复合结构至少包括有机纳米导电层和覆盖所述有机纳米导电层的无机导电层。2.根据权利要求1所述的触控基板,其特征在于,所述无机导电层的厚度小于3.根据权利要求1所述的触控基板,其特征在于,所述无机导电层采用透明导电层。4.根据权利要求1所述的触控基板,其特征在于,所述触控电极包括沿第一方向间隔排列的多个第一触控电极,沿第二方向延伸的多个第二触控电极,所述第一方向与所述第二方向相交,相邻所述第一触控电极之间通过触控电极架桥连接,所述触控电极架桥与所述触控电极之间间隔有绝缘层,所述触控电极架桥通过贯穿所述绝缘层的过孔与所述第一触控电极连接,所述触控电极架桥采用所述导电复合结构。5.根据权利要求4所述的触控基板,其特征在于,所述过孔的直径不大于35um。6.根据权利要求1所述的触控基板,其特征在于,所述触控基板还包括与所述触控电极连接的触控信号走线,所述触控信号走线与所述触控电极采用相同的导电结构。7.根据权利要求1-6中任一项所述的触控基板,其特征在于,所述有机纳米导电层采用纳米银线材料、纳米碳管材料、和纳米石墨烯材料中至少一者。8.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求1-7中任一项所述的触...

【专利技术属性】
技术研发人员:陈军陈启程董万如李扬杰袁亚东
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司合肥鑫晟光电科技有限公司
类型:发明
国别省市:北京,11

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