反弹盘装置以及微球涂层系统制造方法及图纸

技术编号:19735570 阅读:26 留言:0更新日期:2018-12-12 03:09
本发明专利技术提供了一种反弹盘装置以及微球涂层系统,其包括有公转盘以及自转盘,自转盘安装在公转盘上,自转盘的转动轴线与公转盘的中轴线偏心设置,自转盘用于安装石英盘。该反弹盘装置在使用过程中转动的线路多样化,进而使得微球在涂层过程中转动更加合理,提高微球涂层的均匀性。

【技术实现步骤摘要】
反弹盘装置以及微球涂层系统
本专利技术涉及激光惯性约束聚变制靶设备领域,具体而言,涉及一种反弹盘装置以及微球涂层系统。
技术介绍
在激光惯性约束聚变(ICF:inertialconfinementfusion)制靶过程中,微球常作为目标靶丸,用于各种物理参数的测定,如烧蚀速率,RT不稳定性增长,辐射不透明度和压缩比测定等。因此,各种微球的制备在ICF领域中举足轻重,备受关注。微球制备常使用物理气相沉积涂层方法,需要在真空室内进行。其中反弹盘是微球涂层的核心组件。以磁控溅射为例,靶枪(安装靶材)固定在真空室顶部,反弹盘安装在靶枪焦点位置,原子束流源源不断从靶材表面喷射出来,飞向石英盘。石英盘固定在旋转电机顶端,里盛装一定数量微球,在电机的带动下,激励盘内微球随机滚动,这样能够保障微球表面均匀涂层。专利技术人在研究中发现,传统的反弹盘装置在使用过程中至少存在如下缺点:在涂层过程中通过电机的转动带动石英盘转动,进而带动微球在石英盘中运动,微球运动比较单一,微球表面的涂层不均匀;此外,反弹盘装置上的石英盘在使用一段时间后会出现石英盘内表面损伤,此时,需要打开真空室进行石英盘的更换,这样的操作方式,破坏了真空环境,且更换费时费力,降低了效率。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种反弹盘装置,以改善传统的微球涂层过程中涂层不均匀的问题。本专利技术的目的在于提供一种微球涂层系统,以改善传统的微球涂层过程中涂层不均匀以及石英盘更换不便的问题。本专利技术的实施例是这样实现的:基于上述第一目的,本专利技术提供了一种反弹盘装置,其包括有:公转盘,自转盘,所述自转盘安装在所述公转盘上,所述自转盘的转动轴线与所述公转盘的中轴线偏心设置,所述自转盘用于安装石英盘。在本专利技术较佳的实施例中,所述自转盘设置有多个,多个所述自转盘围绕所述公转盘的中轴线间隔排布。在本专利技术较佳的实施例中,至少一个所述自转盘的转动轴线与所述公转盘的转动轴线倾斜设置。在本专利技术较佳的实施例中,所述公转盘的中部安装有中转轴,所述中转轴与所述公转盘之间通过第一轴承连接,所述自转盘通过第二轴承安装在所述公转盘上。在本专利技术较佳的实施例中,所述自转盘为惯性轮。基于上述第二目的,本专利技术提供了一种微球涂层系统,包括呈真空状态的镀膜室、石英盘、驱动件以及所述的反弹盘装置,其中:所述石英盘安装在所述自转盘上,所述石英盘与所述自转盘一一对应,所述驱动件驱动连接所述公转盘,用于驱使所述公转盘转动,所述驱动件、公转盘、自转盘以及石英盘位于所述镀膜室内。在本专利技术较佳的实施例中,所述微球涂层系统还包括预处理室以及输送组件,所述预处理室连通所述镀膜室,所述预处理室和镀膜室之间设置有开关阀;所述输送组件包括承载件、磁力传样杆以及样品托盘,所述样品托盘安装在所述磁力传样杆的端部,所述磁力传样杆安装在所述承载件上,所述样品托盘在所述磁力传样杆的带动下在所述预处理室与所述镀膜室之间往复运动,所述驱动件驱动连接所述承载件,所述公转盘安装在所述样品托盘上。在本专利技术较佳的实施例中,所述公转盘与所述样品托盘通过螺钉连接。在本专利技术较佳的实施例中,所述微球涂层系统还包括敲击组件,所述敲击组件用于击打所述驱动件。在本专利技术较佳的实施例中,所述敲击组件包括伸缩缸、磁力耦合杆以及敲击杆,所述敲击杆位于所述镀膜室内,所述伸缩缸位于所述镀膜室外,所述伸缩缸与所述敲击杆通过所述磁力耦合杆传动连接,所述伸缩缸、磁力耦合杆以及敲击杆构成杠杆机构,所述伸缩缸的活塞杆往复直线运动带动所述敲击杆往复摆动。本专利技术实施例的有益效果是:综上所述,本专利技术实施例提供了一种反弹盘装置,其结构简单合理,便于制造加工,安装与使用方便,同时,该反弹盘装置在使用过程中转动的线路多样化,进而使得微球在涂层过程中转动更加合理,提高微球涂层的均匀性。具体如下:本实施例提供的反弹盘装置,公转盘上设置有偏心的自转盘,在使用过程中,将石英盘置于自转盘上,公转盘转动过程中带动自转盘转动,自转盘在与公转盘转动的同时,其自身进行自转,带动石英盘进行自转,这样的结构设计,位于石英盘内的微球的转动路径更加丰富,随机性更大,使微球表面的涂层更加的均匀,大大提高微球的涂层质量。本实施例提供的微球涂层系统包括上述的反弹盘装置,具有上述反弹盘装置的所有优点。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,应当理解,以下附图仅示出了本专利技术的某些实施例,因此不应被看作是对范围的限定,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他相关的附图。图1为本专利技术实施例的反弹盘装置与样品托盘的示意图;图2为本专利技术实施例的反弹盘装置与样品托盘的剖视示意图;图3为本专利技术实施例的微球涂层系统的一状态的示意图;图4为本专利技术实施例的微球涂层系统的另一状态的示意图;图5为本专利技术实施例的微球涂层系统的敲击组件与样品托盘的示意图;图6为本专利技术实施例的微球涂层系统的样品托盘与承载件的配合示意图。图标:100-公转盘;110-第一安装通孔;120-第二安装通孔;130-第一轴承;140-第二轴承;150-中转轴;200-自转盘;300-镀膜室;400-预处理室;500-石英盘;600-驱动件;700-输送组件;710-承载件;720-磁力传样杆;730-样品托盘;731-螺接杆;卡接块740;800-敲击组件;810-伸缩缸;811-活塞杆;820-磁力耦合杆;830-敲击杆;840-滑块;850-传动杆。具体实施方式在涂层过程中通过电机的转动带动石英盘转动,进而带动微球在石英盘中运动,微球表面的涂层不均匀;此外,反弹盘装置上的石英盘在使用一段时间后会出现石英盘内表面损伤,此时,需要打开真空室进行石英盘的更换,这样的操作方式,破坏了真空环境,且更换费时费力,降低了微球涂层效率。鉴于此,专利技术人设计了一种反弹盘装置以及微球涂层系统,该反弹盘装置在使用过程中转动的线路多样化,进而使得微球在涂层过程中转动更加合理,提高微球涂层的均匀性。为使本专利技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本专利技术实施例中的附图,对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本专利技术一部分实施例,而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本专利技术实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。因此,以下对在附图中提供的本专利技术的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本专利技术的范围,而是仅仅表示本专利技术的选定实施例。基于本专利技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本专利技术保护的范围。应注意到:相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项,因此,一旦某一项在一个附图中被定义,则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。在本专利技术的描述中,需要说明的是,术语“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,或者是该专利技术产品使用时惯常摆放的方位或位置关系,仅是为了便于描述本专利技术和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本专利技术的限制。此外,术语“第一”、“第二”仅用于区分描述,而不能理解为指示或暗示相对重要性。此外,术语“水平”、“竖直”、本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种反弹盘装置,其特征在于,其包括有:公转盘,自转盘,所述自转盘安装在所述公转盘上,所述自转盘的转动轴线与所述公转盘的中轴线偏心设置,所述自转盘用于安装石英盘。

【技术特征摘要】
1.一种反弹盘装置,其特征在于,其包括有:公转盘,自转盘,所述自转盘安装在所述公转盘上,所述自转盘的转动轴线与所述公转盘的中轴线偏心设置,所述自转盘用于安装石英盘。2.根据权利要求1所述的反弹盘装置,其特征在于,所述自转盘设置有多个,多个所述自转盘围绕所述公转盘的中轴线间隔排布。3.根据权利要求1或者2所述的反弹盘装置,其特征在于,至少一个所述自转盘的转动轴线与所述公转盘的转动轴线倾斜设置。4.根据权利要求1所述的反弹盘装置,其特征在于,所述公转盘的中部安装有中转轴,所述中转轴与所述公转盘之间通过第一轴承连接,所述自转盘通过第二轴承安装在所述公转盘上。5.根据权利要求1所述的反弹盘装置,其特征在于,所述自转盘为惯性轮。6.一种微球涂层系统,其特征在于,包括呈真空状态的镀膜室、石英盘、驱动件以及根据权利要求1-5中任一项所述的反弹盘装置,其中:所述石英盘安装在所述自转盘上,所述石英盘与所述自转盘一一对应,所述驱动件驱动连接所述公转盘,用于驱使所述公转盘转动,所述驱动件、公转盘、自转盘以及石英盘位于所述镀膜室内。7...

【专利技术属性】
技术研发人员:罗炳池李文琦罗江山李恺陈龙张吉强何玉丹金雷李波吴卫东
申请(专利权)人:中国工程物理研究院激光聚变研究中心
类型:发明
国别省市:四川,51

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