【技术实现步骤摘要】
一种硬质合金表面磁控溅射复合技术沉积W-N硬质膜的方法
本专利技术涉及材料表面加工领域,具体涉及一种硬质合金表面磁控溅射复合技术沉积W-N硬质膜的方法。
技术介绍
在硬质合金刀具的使用中,其综合性能非常重要,这直接影响了刀具的使用寿命。硬质涂层的出现无疑为刀具开辟了新的世界。刀具涂层技术是在刀具基体上涂覆一层或多层硬度高、耐磨性好、附着性优异、化学惰性的难熔金属或非金属化合物薄膜,从而解决刀具存在的强度/韧性之间的矛盾。刀具涂层作为一个化学屏障和热屏障,能够减少刀具与工件的扩散和化学反应,且耐磨性好,从而减少刀具磨损,其寿命可以大大提高。物理气相沉积技术制备薄膜分为三大类:真空蒸镀、真空离子镀以及溅射镀膜,其中溅射镀膜的主要优点是沉积粒子的能量较高,所沉积的薄膜组织更加致密,与基体的附着强度更好;制备合金薄膜时,可更有效控制薄膜成分;溅射用的靶材可以是几乎所有的金属、化合物及难熔材料,也可在不同材料的基体上制备相应的薄膜,反应溅射镀膜可实现金属元素靶材制备化合物薄膜;溅射镀膜还可实现大面积镀膜、大规模连续生产,适合工业应用。根据溅射方法不同,溅射镀膜可分为直流溅射、射频溅射、磁控溅射、反应溅射及离子束溅射等。直流磁控溅射是20世纪70年代发展起来的一种溅射技术,通过在靶材表面施加垂直靶面的磁场,将电子的运动轨迹限制在靶材表面附近,从而提高电子碰撞概率和靶材粒子的电离效率,进而提高薄膜的沉积效率。相比其它物理气相沉积方法,直流磁控溅射技术沉积速率高,工作气压低,镀膜质量高,工艺稳定可控,便于大规模生产;高功率脉冲磁控溅射则是在普通磁控溅射技术的基础上增添了脉 ...
【技术保护点】
1.一种硬质合金表面磁控溅射复合技术沉积W‑N硬质膜的方法,其特征在于,包括以下步骤:1)基体表面预处理,将基体放入无水乙醇中进行超声清洗,热风吹干后装夹在可三维旋转的行星架上,送入腔室;2)将所述腔室抽真空,通过机械泵和分子涡轮泵抽至本底真空4×10‑5mbar以下,红外加热管的设置温度500~600℃,去除腔室和基体表面易挥发杂质;3)基体表面离子刻蚀,向所述腔室内连续通入高纯Ar,同时保持腔室内加热器温度恒定,基体加负偏压,采用电弧增强型辉光放电技术,进行离子清洗与刻蚀,去除硬质合金基体表面的氧化皮和疏松层;4)沉积W‑N硬质膜过渡层,向所述腔室内连续通入高纯N2和高纯Ar,同时保持腔室内加热器温度恒定,基体加负偏压,采用高功率脉冲磁控溅射技术,进行5~30min的镀膜处理,沉积50~150nm的W‑N硬质膜作为过渡层;5)过渡层制备结束,继续向腔室内连续通入高纯N2和高纯Ar,同时保持所述腔室内加热管温度恒定,基体加负偏压,采用直流磁控溅射技术,原位进行20~120min的镀膜处理,沉积500~4000nm的W‑N纳米硬质膜;6)冷却取样,镀膜结束后,开启炉体循环冷水系统冷却, ...
【技术特征摘要】
1.一种硬质合金表面磁控溅射复合技术沉积W-N硬质膜的方法,其特征在于,包括以下步骤:1)基体表面预处理,将基体放入无水乙醇中进行超声清洗,热风吹干后装夹在可三维旋转的行星架上,送入腔室;2)将所述腔室抽真空,通过机械泵和分子涡轮泵抽至本底真空4×10-5mbar以下,红外加热管的设置温度500~600℃,去除腔室和基体表面易挥发杂质;3)基体表面离子刻蚀,向所述腔室内连续通入高纯Ar,同时保持腔室内加热器温度恒定,基体加负偏压,采用电弧增强型辉光放电技术,进行离子清洗与刻蚀,去除硬质合金基体表面的氧化皮和疏松层;4)沉积W-N硬质膜过渡层,向所述腔室内连续通入高纯N2和高纯Ar,同时保持腔室内加热器温度恒定,基体加负偏压,采用高功率脉冲磁控溅射技术,进行5~30min的镀膜处理,沉积50~150nm的W-N硬质膜作为过渡层;5)过渡层制备结束,继续向腔室内连续通入高纯N2和高纯Ar,同时保持所述腔室内加热管温度恒定,基体加负偏压,采用直流磁控溅射技术,原位进行20~120min的镀膜处理,沉积500~4000nm的W-N纳米硬质膜;6)冷却取样,镀膜结束后,开启炉体循环冷水系统冷却,待腔室在真空状态下冷却后即可打开腔室,取出工件。2.根据权利要求1所述一种硬质合金表面磁控溅射复合技术沉积W-N硬质膜的方法,其特征在于,在步骤1)中,所述基体为硬质合金,基体表面粗糙度Ra值0.4μm以下;所述超声清洗是将基体用无水乙醇超声清洗10~30min,然后热风吹干。3.根据权利要求1所述一种硬质合金表面磁控溅射复合技术沉积W-N硬质膜的方法,其特征在于,在步骤2)中,红外加热管设置温度为600℃,加热时间30min;待腔室真空度降至4×10-5mbar以下,红外加热管设置温度550℃加热30min,后抽腔室真空至4×10-5mbar以下,充分去除腔室和基体表面易挥发杂质。4.根据权利要求1所述一种硬质合金表面磁控溅射复合技术沉积W-N硬质膜的方法,其特征在于,在步骤3)中,等离...
【专利技术属性】
技术研发人员:匡同春,张子威,彭小珊,黎毓灵,邓阳,雷淑梅,王毅,陈灵,周克崧,钟喜春,曾德长,
申请(专利权)人:华南理工大学,
类型:发明
国别省市:广东,44
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