蒸镀膜层记录装置及其方法、掩模板组件和蒸镀设备制造方法及图纸

提供一种蒸镀膜层记录装置及其方法、掩模板组件和蒸镀设备。所述蒸镀膜层记录装置包括：记录掩模板，具有开口部；膜层记录构件，与所述记录掩模板相对设置，在蒸镀期间，蒸镀材料能够通过所述记录掩模板的开口部而被沉积在所述膜层记录构件上；和驱动构件，用于驱动所述记录掩模板与所述膜层记录构件产生相对运动，以改变所述记录掩模板的开口部在所述膜层记录构件上的正投影的位置。

【技术实现步骤摘要】
蒸镀膜层记录装置及其方法、掩模板组件和蒸镀设备
本专利技术涉及蒸镀
，尤其涉及一种蒸镀膜层记录装置及其方法、掩模板组件和蒸镀设备。
技术介绍
在制造显示器件的过程中，例如，在制造OLED显示面板时，通常通过蒸镀工艺将诸如有机发光材料的蒸镀材料蒸镀到基板上。在蒸镀工艺中，需要用加热源把蒸镀材料加热，然后将加热后的蒸镀材料蒸镀到基板上的预定位置。在目前的蒸镀工艺中，各个蒸镀材料被蒸镀至基板的预定位置，形成堆叠的多个蒸镀膜层，无法获知单一蒸镀膜层的厚度。
技术实现思路
为了解决上述问题的至少一个方面，本公开实施例提供一种蒸镀膜层记录装置及其方法、掩模板组件和蒸镀设备。在一个方面，提供一种蒸镀膜层记录装置，包括：记录掩模板，具有开口部；膜层记录构件，与所述记录掩模板相对设置，在蒸镀期间，蒸镀材料能够通过所述记录掩模板的开口部而被沉积在所述膜层记录构件上；和驱动构件，用于驱动所述记录掩模板与所述膜层记录构件产生相对运动，以改变所述记录掩模板的开口部在所述膜层记录构件上的正投影的位置。例如，所述改变所述记录掩模板的开口部在所述膜层记录构件上的正投影的位置包括：驱动构件驱动所述记录掩模板与所述膜层记录构件产生相对运动，以使所述记录掩模板的开口部在所述膜层记录构件上的正投影从所述膜层记录构件上的第一位置改变至所述膜层记录构件上的第二位置，其中，所述第一位置与所述第二位置在所述膜层记录构件上不重叠。可选地，所述记录掩模板包括：旋转板；和设置在所述旋转板上的贯通孔，其中，所述贯通孔形成所述开口部。可选地，所述记录掩模板包括：第一记录掩模子板，包括：第一旋转板；和设置在所述第一旋转板上的第一开口子部；以及第二记录掩模子板，包括：第二旋转板；和设置在所述第二旋转板上的第二开口子部，其中，所述第一开口子部的第一部分在所述膜层记录构件上的正投影与所述第二开口子部的第二部分在所述膜层记录构件上的正投影重合，所述第一开口子部的第一部分和所述第二开口子部的第二部分形成所述开口部。例如，所述第一开口子部为直线槽，以及所述第二开口子部为渐开线槽。例如，所述驱动构件包括旋转驱动机构，所述旋转驱动机构连接至旋转板，用于驱动所述旋转板相对于所述膜层记录构件旋转预定角度。例如，所述驱动构件包括第一旋转驱动机构，所述第一旋转驱动机构连接至第一旋转板，用于驱动所述第一旋转板相对于所述膜层记录构件旋转预定角度，以使所述开口部在所述膜层记录构件上的正投影从所述膜层记录构件上的所述第一位置改变至所述膜层记录构件上的所述第二位置，其中，所述第一位置离所述膜层记录构件的中心的第一距离不等于所述第二位置离所述膜层记录构件的中心的第二距离。例如，所述驱动构件还包括第二旋转驱动机构，所述第二旋转驱动机构连接至第一旋转板和第二旋转板，用于驱动所述第一旋转板和所述第二旋转板同步旋转。例如，所述第一旋转板和所述第二旋转板同步旋转的旋转速度被设置为使得：在一种蒸镀材料被蒸镀期间，所述第一旋转板和所述第二旋转板同步旋转的圈数小于等于一圈。例如，所述驱动构件还包括分度机构，用于控制所述预定角度。在另一方面，还提供一种利用蒸镀膜层记录装置记录膜层的方法，包括：在第一蒸镀材料被蒸镀的第一蒸镀过程中，控制第一蒸镀材料沉积在膜层记录装置的第一位置上，以形成第一记录膜层；和在第二蒸镀材料被蒸镀的第二蒸镀过程中，控制第二蒸镀材料沉积在膜层记录装置的第二位置上，以形成第二记录膜层，其中，所述第一位置不同于所述第二位置，使得所述第一记录膜层与所述第二记录膜层不重叠。例如，所述蒸镀膜层记录装置包括：具有开口部的记录掩模板；和膜层记录构件，在蒸镀过程中，蒸镀材料能够通过所述记录掩模板的开口部而被沉积在所述膜层记录构件上，其中，控制第二蒸镀材料沉积在膜层记录装置的第二位置上包括：驱动所述记录掩模板与所述膜层记录构件产生相对运动，以使所述记录掩模板的开口部在所述膜层记录构件上的正投影从所述第一位置改变至所述第二位置。例如，所述第一位置和所述第二位置为在所述膜层记录构件的周向和/或径向上的不同位置。例如，在第一蒸镀材料被蒸镀的第一蒸镀过程中，控制第一蒸镀材料沉积在膜层记录装置的第一位置上，以形成第一记录膜层包括：控制所述记录掩模板的开口部在所述膜层记录构件上的正投影处于所述膜层记录构件的第一径向位置；和驱动所述掩模板相对于所述膜层记录构件旋转，以在所述膜层记录构件上形成环形的第一记录膜层，其中，驱动所述掩模板相对于所述膜层记录构件旋转的圈数小于等于1圈。例如，在第二蒸镀材料被蒸镀的第二蒸镀过程中，控制第二蒸镀材料沉积在膜层记录装置的第二位置上，以形成第二记录膜层包括：驱动所述掩模板旋转预定角度，以控制所述记录掩模板的开口部在所述膜层记录构件上的正投影处于所述膜层记录构件的第二径向位置；和再次驱动所述掩模板相对于所述膜层记录构件旋转，以在所述膜层记录构件上形成环形的第二记录膜层，其中，所述第二径向位置不同于所述第一径向位置，并且再次驱动所述掩模板相对于所述膜层记录构件旋转的圈数小于等于1圈。又一方面，提供一种掩模板组件，包括：掩模板；和上述的蒸镀膜层记录装置，所述蒸镀膜层记录装置连接至所述掩模板。再一方面，提供一种蒸镀设备，包括：蒸发源；设置在所述蒸发源与所述待蒸镀基板之间的蒸镀掩模板；和上述的蒸镀膜层记录装置，其中，所述蒸镀膜层记录装置连接至所述蒸镀设备的基体或所述蒸镀掩模板。例如，在蒸镀期间，蒸镀材料沉积在所述待蒸镀基板的第一表面以及所述蒸镀膜层记录装置的膜层记录构件的第二表面上，并且，所述第一表面和所述第二表面处于相同的水平高度。在本公开的实施例中，可以通过蒸镀膜层记录装置，获知单一蒸镀膜层的厚度。附图说明通过下文中参照附图对本专利技术所作的描述，本专利技术的其它目的和优点将显而易见，并可帮助对本专利技术有全面的理解。图1是OLED器件的结构示意图；图2是根据本公开实施例的蒸镀设备的结构示意图；图3示意性示出了设置在根据本公开实施例的蒸镀设备中的基体、待蒸镀基板以及蒸镀掩模板的相对位置关系；图4A是根据本公开实施例的蒸镀膜层记录装置的结构示意图；图4B是图4A中的蒸镀膜层记录装置的记录掩模板的俯视图；图5A～5D示意性示出了图4A中的蒸镀膜层记录装置的工作过程；图6是根据本公开实施例的蒸镀膜层记录装置的分度机构的结构示意图；图7A是根据本公开实施例的蒸镀膜层记录装置的结构示意图；图7B和7C是图7A中的蒸镀膜层记录装置的记录掩模板的俯视图；图8A～8D示意性示出了图7A中的蒸镀膜层记录装置的工作过程；图9示意性示出了根据本公开实施例的蒸镀设备在一个蒸镀腔室中蒸镀第一蒸镀材料的蒸镀过程；以及图10是根据本公开实施例的利用蒸镀膜层记录装置记录膜层的方法的流程图。需要注意的是，为了清晰起见，在用于描述本专利技术的实施例的附图中，层、结构或区域的尺寸可能被放大或缩小，即这些附图并非按照实际的比例绘制。具体实施方式下面通过实施例，并结合附图，对本专利技术的技术方案作进一步具体的说明。在说明书中，相同或相似的附图标号指示相同或相似的部件。下述参照附图对本专利技术实施方式的说明旨在对本专利技术的总体专利技术构思进行解释，而不应当理解为对本专利技术的一种限制。另外，在下面的详细描述中，为便于解释，阐述了许多具体的细节以提供对本披露实施例的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种蒸镀膜层记录装置，包括：记录掩模板，具有开口部；膜层记录构件，与所述记录掩模板相对设置，在蒸镀期间，蒸镀材料能够通过所述记录掩模板的开口部而被沉积在所述膜层记录构件上；和驱动构件，用于驱动所述记录掩模板与所述膜层记录构件产生相对运动，以改变所述记录掩模板的开口部在所述膜层记录构件上的正投影的位置。

【技术特征摘要】
1.一种蒸镀膜层记录装置，包括：记录掩模板，具有开口部；膜层记录构件，与所述记录掩模板相对设置，在蒸镀期间，蒸镀材料能够通过所述记录掩模板的开口部而被沉积在所述膜层记录构件上；和驱动构件，用于驱动所述记录掩模板与所述膜层记录构件产生相对运动，以改变所述记录掩模板的开口部在所述膜层记录构件上的正投影的位置。2.根据权利要求1所述的蒸镀膜层记录装置，其中，所述改变所述记录掩模板的开口部在所述膜层记录构件上的正投影的位置包括：驱动构件驱动所述记录掩模板与所述膜层记录构件产生相对运动，以使所述记录掩模板的开口部在所述膜层记录构件上的正投影从所述膜层记录构件上的第一位置改变至所述膜层记录构件上的第二位置，其中，所述第一位置与所述第二位置在所述膜层记录构件上不重叠。3.根据权利要求2所述的蒸镀膜层记录装置，其中，所述记录掩模板包括：旋转板；和设置在所述旋转板上的贯通孔，其中，所述贯通孔形成所述开口部。4.根据权利要求2所述的蒸镀膜层记录装置，其中，所述记录掩模板包括：第一记录掩模子板，包括：第一旋转板；和设置在所述第一旋转板上的第一开口子部；以及第二记录掩模子板，包括：第二旋转板；和设置在所述第二旋转板上的第二开口子部，其中，所述第一开口子部的第一部分在所述膜层记录构件上的正投影与所述第二开口子部的第二部分在所述膜层记录构件上的正投影重合，所述第一开口子部的第一部分和所述第二开口子部的第二部分形成所述开口部。5.根据权利要求4所述的蒸镀膜层记录装置，其中，所述第一开口子部为直线槽，以及所述第二开口子部为渐开线槽。6.根据权利要求3所述的蒸镀膜层记录装置，其中，所述驱动构件包括旋转驱动机构，所述旋转驱动机构连接至旋转板，用于驱动所述旋转板相对于所述膜层记录构件旋转预定角度。7.根据权利要求4或5所述的蒸镀膜层记录装置，其中，所述驱动构件包括第一旋转驱动机构，所述第一旋转驱动机构连接至第一旋转板，用于驱动所述第一旋转板相对于所述膜层记录构件旋转预定角度，以使所述开口部在所述膜层记录构件上的正投影从所述膜层记录构件上的所述第一位置改变至所述膜层记录构件上的所述第二位置，其中，所述第一位置离所述膜层记录构件的中心的第一距离不等于所述第二位置离所述膜层记录构件的中心的第二距离。8.根据权利要求7所述的蒸镀膜层记录装置，其中，所述驱动构件还包括第二旋转驱动机构，所述第二旋转驱动机构连接至第一旋转板和第二旋转板，用于驱动所述第一旋转板和所述第二旋转板同步旋转。9.根据权利要求8所述的蒸镀膜层记录装置，其中，所述第一旋转板和所述第二旋转板同步旋转的旋转速度被设置为使得：在一种蒸镀材料被蒸镀期间，所述第一旋转板和所述第二旋转板同步旋转的圈数小于等于一圈。10.根据权利要求6或7所述的蒸镀膜层记录装置，...

【专利技术属性】
技术研发人员：栾梦雨，熊腾青，胡友元，齐忠胜，毛波，熊先江，
申请(专利权)人：合肥鑫晟光电科技有限公司，京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽,34