彩膜预烘设备制造技术

技术编号:19724884 阅读:19 留言:0更新日期:2018-12-12 01:18
本申请公开了一种彩膜预烘设备,该彩膜预烘设备包括:烘烤装置,设有一腔体以及连通腔体的进风口及出风口,腔体用于容纳待烘烤基板;送风机构,用于通过进风口向腔体内输送空气,以使得腔体内产生一从进风口至出风口的气流,气流用于带走待烘烤基板被烘烤时产生的升华物。通过上述方式,本申请能够减少升华物在烘烤装置腔体内的堆积,提高基板生产的品质。

【技术实现步骤摘要】
彩膜预烘设备
本申请涉及显示
,特别是涉及一种彩膜预烘设备。
技术介绍
在显示基板的制作工艺中,经过光阻制作后需要进行预烘烤。其中,CFHPCP(彩膜预烘机)用于彩膜基板生产制程中各产线经由涂布机涂布光阻后的烘烤制程,其主要目的是将经过涂布后的光阻层,通过热板加热的方式,将VCD抽气后仍残留在膜内的溶剂(Solvent)去除,增加光阻与基板间的附着力。但是现有的HPCP制程中会出现以下问题:1.采用加热去除膜内溶剂,会在Chamber内壁产生大量的Fume(升华物),大量堆积影响产品品质。2.若Fume外泄会造成大环境Particle(微粒)超标,影响其他工艺制程。
技术实现思路
本申请提供一种彩膜预烘设备,能够减少升华物在烘烤装置腔体内的堆积,提高基板生产的品质。为解决上述技术问题,本申请采用的一个技术方案是:提供一种彩膜预烘设备,所述彩膜预烘设备包括:烘烤装置,设有一腔体以及连通所述腔体的进风口及出风口,所述腔体用于容纳待烘烤基板;送风机构,用于通过所述进风口向所述腔体内输送空气,以使得所述腔体内产生一从所述进风口至所述出风口的气流,所述气流用于带走所述待烘烤基板被烘烤时产生的升华物。本申请的有益效果是:提供一种彩膜预烘设备,通过在彩膜预烘设备中增加送风机构,该送风机构可以向烘烤装置的腔体输送空气,带走待烘烤基板被烘烤时产生的升华物,从而可以减少升华物在腔体内的堆积,提高基板生产的品质。附图说明为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是本申请彩膜预烘设备第一实施方式的结构示意图;图2是本申请彩膜预烘设备第二实施方式的结构示意图;图3是本申请彩膜预烘设备第三实施方式的结构示意图;图4是本申请送风管以实施方式的结构示意图;图5是本申请彩膜预烘设备第四实施方式的结构示意图;图6是本申请彩膜预烘设备第五实施方式的结构示意图;图7是本申请彩膜预烘设备第五实施方式的结构示意图。具体实施方式下面将结合本申请实施例中的附图,对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅是本申请的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本申请保护的范围。请参阅图1,图1是本申请彩膜预烘设备第一实施方式的结构示意图。如图1,本申请中的彩膜预烘设备包括烘烤装置10以及送风机构11。烘烤装置10设有一腔体A以及连通腔体A的进风口B及出风口C,该腔体A用于容纳待烘烤基板a,本实施例中的待烘烤基板a可以为彩膜基板,当然也可以薄膜晶体管阵列基板,此处不做进一步限定。可选地,该烘烤装置10进一步包括烘烤台101及罩体102,烘烤台101与罩体102连接以形成上述的腔体A。其中,烘烤台101用于承载容纳于腔体A中的待烘烤基板A以对待烘烤基板a进行烘烤,进风口B与出风口C设置于罩体102上。可选的,罩体102包括上盖板1021及周围板1022,进风口B及出风口C可设置于上盖板1021或周围板1022上,本实施例中,以进风口B及出风口C设置于周围板1022上为例,可选的,进风口B与出风口C分别设置于周围板1022相对的两侧。可选的,进一步参阅图2,图2为本申请彩膜预烘设备第二实施方式的结构示意图。如图2,本实施例中的烘烤装置10还设有与腔体A连通的传送口D,该传送口D用于向腔体A内放置或取出待烘烤基板a,也即通过该传送口D可向腔体A内放置未被烘烤的待烘烤基板a,并在放置完成后,传送口D被闭合以密封腔体A,以使得烘烤台101在密封的腔体A中对待烘烤基板a进行烘烤,在烘烤完毕后,打开传送口D以取出烘烤完成的待烘烤基板a。可选的,传送口D设置于周围板1022上,且与进风口B及出风口C位于周围板1022的不同侧。送风机构11用于通过进风口B向腔体A内输送空气,以使得腔体A内产生一从进风口B至出风口C的气流,且该气流用于带走待烘烤基板a被烘烤时产生的升华物,从而可以减少升华物在腔体A内的堆积,提高基板生产的品质。具体的,请参阅图3,图3为本申请彩膜预烘设备第三实施方式的结构示意图,如图3,送风机构11包括送风机111及送风管112,送风管112与送风机111连接并通过进风口B穿设于周围板1022,从而延伸至腔体A内,进而使得送风机111通过送风管112向腔体A内输送空气。可选的,送风机111向腔体A内输送的空气为热空气,可以理解的,在上述的气流带走待烘烤基板a被烘烤时产生的升华物的过程中,腔体A内的热量也会跟随该气流而被带走,从而导致腔体A内的温度降低,上述的热空气能够增加腔体A内热量被带走后的温度,从而防止腔体A内的温度低于烘烤基板a被烘烤时所需的温度,进而导致待烘烤基板a烘烤不完全。送风管112通过进风口B穿设于周围板1022且朝向上盖板1021延伸,以使得气流的路径经过上盖板1021(如图中虚线所示)。可以理解的,由于升华物的质量较轻,因此,待烘烤基板a在烘烤台101上被烘烤而产生的升华物会朝向上盖板1021流动,从而导致堆积在上盖板1021上的升华物要多于其他位置,因此,气流的路径经过堆积升华物较多的上盖板1021,能够提高升华物被带走的效率及数量。可选的,参阅图4,图4为本申请送风管以实施方式的结构示意图,如图4送风管112包括第一管体1121及第二管体1122。其中,第一管体1121与送风机111连接并通过进风口B穿设于周围板1022,第二管体1122设置于腔体A内并朝向上盖板1021延伸,且第二管体1122与第一管体1121活动连接,以使得第二管体1122朝向上盖板1021延伸的方向可调节,从而根据升华物在上盖板1021的堆积位置调节气流的路径位置。共同参阅图5及图6,当升华物在平行于上盖板1021的方向上的堆积位置不同时,第二管体1122相对于第一管体1121的调节方向也平行于上盖板1021,从而在平行于上盖板1021的方向上调节气流的路径。共同参阅图5及图6,当升华物在垂直于上盖板1021的方向上的堆积位置不同时,也即当升华物堆积于上盖板1021上的厚度不同时,第二管体1122相对于第一管体1121的调节方向也垂直于上盖板1021,从而在垂直于上盖板1021的方向上调节气流的路径,进而使得气流的路径根据升华物的堆积厚度,如图5至图6所示的逐渐靠近上盖板1021,以逐步带走堆积于上盖板1021上升华物。本实施例中的彩膜预烘设备还进一步包括抽风机构12,该抽风机构12用于通过出风口C从腔体A内抽取空气,以使得烘烤待烘烤基板a产生的升华物跟随气流通过抽风机构12排出,从而提高升华物被气流带走的效率及数量。具体的,参阅图3,抽风机构12包括抽风机121及抽风管122,抽风管122与抽风机121连接并通过出风口C穿设于周围板1022,从而使得抽风机121通过抽风管122从腔体A内抽取空气。可选的,抽风管122朝向上盖板1021延伸,其原理与上述的送风管112相同,在此不再赘述。可选的,在具体实施例中,设置抽风机构12的抽风强度大本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种彩膜预烘设备,其特征在于,所述彩膜预烘设备包括:烘烤装置,设有一腔体以及连通所述腔体的进风口及出风口,所述腔体用于容纳待烘烤基板;送风机构,用于通过所述进风口向所述腔体内输送空气,以使得所述腔体内产生一从所述进风口至所述出风口的气流,所述气流用于带走所述待烘烤基板被烘烤时产生的升华物。

【技术特征摘要】
1.一种彩膜预烘设备,其特征在于,所述彩膜预烘设备包括:烘烤装置,设有一腔体以及连通所述腔体的进风口及出风口,所述腔体用于容纳待烘烤基板;送风机构,用于通过所述进风口向所述腔体内输送空气,以使得所述腔体内产生一从所述进风口至所述出风口的气流,所述气流用于带走所述待烘烤基板被烘烤时产生的升华物。2.根据权利要求1所述的彩膜预烘设备,其特征在于,所述彩膜预烘设备进一步包括抽风机构,所述抽风机构用于通过所述出风口从所述腔体内抽取空气,以使得所述升华物跟随所述气流通过所述抽风机构排出。3.根据权利要求2所述的彩膜预烘设备,其特征在于,所述烘烤装置包括烘烤台及罩体,所述烘烤台用于承载所述待烘烤基板以对所述待烘烤基板进行烘烤,且所述烘烤台与所述罩体连接以形成所述腔体,所述进风口与所述出风口设置于所述罩体上。4.根据权利要求3所述的彩膜预烘设备,其特征在于,所述罩体包括上盖板及周围板,所述进风口设置于所述周围板上,所述送风机构包括送风机及送风管,所述送风管与所述送风机连接并通过所述进风口穿设于所述周围板,且朝向所述上盖板延伸,以使得所述气流的路径经过所述上盖板。5.根据权利要求4所述的彩膜预烘设备,其特征在于,所述送风管包括第一管体及第二管体,所述第一管体与所述送风机连接并通过所述进风口穿设于所述周围板,所述第二管体设置于所述腔体内并朝向所述上盖板延伸,...

【专利技术属性】
技术研发人员:徐海乐
申请(专利权)人:武汉华星光电技术有限公司
类型:发明
国别省市:湖北,42

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