【技术实现步骤摘要】
一种两轴式晶体器件抛光装置
本技术涉及到一种抛光研磨设备，尤其涉及一种两轴式晶体器件抛光装置。
技术介绍
晶体器件是晶体加工成各种形状的晶体片，晶体器件的应用非常广泛，如用于激光、医疗器械、电视机、手机芯片等产品中。晶体片是由晶体切割而成，为了保证晶体片表面的平行度，在切割完成之后还要对晶体片进行研磨和抛光操作。研磨操作需要在晶体片研磨机上进行，现有的晶体片研磨抛光设备，使用的电机为普通的电机，转速不可以调节，一台电机只能带动一个研磨盘转动，工作效率太低，加工速度慢，加工成本高。除以上不良问题外，现有抛光设备需要人工对物料进行移动，不仅生产效率低下，而且还存在一定的安全问题。
技术实现思路
本技术为克服现有技术的不足，而提供的一种效率更高且安全可靠的两轴式晶体器件抛光装置。为解决上述的技术问题，本技术采用以下技术方案：一种两轴式晶体器件抛光装置，包括机架及设在所述机架下端的电机，设在所述机架上端的是第一器皿和第二器皿，设在所述第一器皿和第二器皿内的是陶瓷片，所述陶瓷片通过第一旋转轴连接于所述电机，设在所述陶瓷片正上方的是抛光盘，所述抛光盘安装在调节架上，所述调节架包括第一档板和第二挡板，所述第一档板和第二挡板安装在所述机架上，设在所述第一档板和第二挡板之间的是第二旋转轴，活动安装在所述第二旋转轴上的是L形支架，伸缩臂通过套管与所述L形支架相连，在所述伸缩臂设有通孔，伸缩杆穿过通孔连接于所述抛光盘。优选地，在所述的机架上还设有支撑架。优选地，所述的电机为变频电机。与现有技术相比，本技术的有益效果为：本技术一种两轴式晶体器件抛光装置，采用转速可控的变频电机且带动两...
【技术保护点】
1.一种两轴式晶体器件抛光装置，包括机架及设在所述机架下端的电机，其特征在于：设在所述机架上端的是第一器皿和第二器皿，设在所述第一器皿和第二器皿内的是陶瓷片，所述陶瓷片通过第一旋转轴连接于所述电机，设在所述陶瓷片正上方的是抛光盘，所述抛光盘安装在调节架上，所述调节架包括第一档板和第二挡板，所述第一档板和第二挡板安装在所述机架上，设在所述第一档板和第二挡板之间的是第二旋转轴，活动安装在所述第二旋转轴上的是L形支架，伸缩臂通过套管与所述L形支架相连，在所述伸缩臂设有通孔，伸缩杆穿过通孔并连接于所述抛光盘。
【技术特征摘要】
1.一种两轴式晶体器件抛光装置，包括机架及设在所述机架下端的电机，其特征在于：设在所述机架上端的是第一器皿和第二器皿，设在所述第一器皿和第二器皿内的是陶瓷片，所述陶瓷片通过第一旋转轴连接于所述电机，设在所述陶瓷片正上方的是抛光盘，所述抛光盘安装在调节架上，所述调节架包括第一档板和第二挡板，所述第一档板和第二挡板安装在所述机架上，设在所述第一...
【专利技术属性】
技术研发人员：罗毅，龚瑞，
申请(专利权)人：安徽科瑞思创晶体材料有限责任公司，
类型：新型
国别省市：安徽,34
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