掩模板及掩模组件制造技术

技术编号:19713410 阅读:25 留言:0更新日期:2018-12-08 18:48
本发明专利技术提供了一种掩模板及掩模组件,属于显示技术领域。所述掩模板上设置有掩模图案,掩模图案包括用于在衬底上形成图案的有效掩模区域,以及包围有效掩模区域的周边区域;周边区域的掩模图案包括:位于有效掩模区域在垂直于掩模板的待绷直方向上的至少一侧的加固条。本发明专利技术解决了在拉伸掩模板的过程中,掩模板中的掩模图案会发生较大形变,从而使得掩模组件无法正常使用的问题。本发明专利技术用于制备显示面板。

【技术实现步骤摘要】
掩模板及掩模组件
本专利技术涉及显示
,特别涉及一种掩模板及掩模组件。
技术介绍
随着科技的发展,显示面板的应用越来越广泛,在制造显示面板的过程中通常需要使用掩模组件在基板上形成图案。掩模组件包括掩模框架,以及设置在掩模框架上的掩模板。掩模板上设置有网状的掩模图案。在组装掩模组件的过程中,需先对掩模板进行拉伸,以使掩模板绷直,之后将绷直的掩模板焊接在掩模框架上以形成掩模组件。然而,相关技术中在拉伸掩模板的过程中,掩模板中的掩模图案会发生较大形变,从而使得掩模组件无法正常使用。
技术实现思路
本申请提供了一种掩模板及掩模组件,可以解决相关技术中掩模组件无法正常使用的问题,所述技术方案如下:一方面,提供了一种掩模板,所述掩模板上设置有掩模图案,所述掩模图案包括用于在衬底上形成图案的有效掩模区域,以及包围所述有效掩模区域的周边区域;所述周边区域的所述掩模图案包括:位于所述有效掩模区域在垂直于所述掩模板的待绷直方向上的至少一侧的加固条。可选的,所述掩模图案包括:n个有效掩模区域,所述周边区域的所述掩模图案包括:至少一组加固条,n≥1,每组加固条包括多个加固条,且所述多个加固条位于所述n个有效掩模区域在垂直于所述待绷直方向上的相对两侧。可选的,所述周边区域的所述掩模图案包括:与所述n个有效掩模区域一一对应的n组加固条,所述多个加固条位于所述每组加固条对应的有效掩模区域在垂直于所述待绷直方向上的相对两侧。可选的,所述每组加固条中每个加固条在参考面上的正投影为第一正投影,所述每组加固条对应的有效掩模区域在所述参考面上的正投影为第二正投影,所述第二正投影位于所述第一正投影内,所述参考面垂直于所述掩模板,且平行于所述待绷直方向。可选的,所述周边区域的所述掩模图案包括:一组加固条,且所述一组加固条包括两个加固条。可选的,所述n个有效掩模区域在参考面上的正投影位于每个加固条在所述参考面上的正投影内,所述参考面垂直于所述掩模板,且平行于所述待绷直方向。可选的,所述加固条平行于所述待绷直方向。可选的,所述周边区域的所述掩模图案还包括:位于所述有效掩模区域在所述待绷直方向上的至少一侧的加固条。可选的,所述加固条位于所述周边区域中靠近所述有效掩模区域的部分区域。另一方面,提供一种掩模组件,所述掩模组件包括上述掩模板。本申请提供的技术方案带来的有益效果是:该掩模板上的掩模图案包括用于在衬底上形成图案的有效掩模区域,以及包围该有效掩模区域的周边区域。由于周边区域的掩模图案包括位于有效掩模区域在垂直于掩模板的待绷直方向上的至少一侧的加固条,且该加固条能够加固该有效掩模区域,使得在沿着该掩模板的待绷直方向拉伸该掩模板的过程中,加固条能够减小有效掩模区域的变形程度,避免了掩模板和掩膜组件无法正常使用。应当理解的是,以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性的,并不能限制本申请。附图说明为了更清楚地说明本专利技术的实施例,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术实施例提供的一种掩模板的结构示意图;图2为本专利技术实施例提供的另一种掩模板的结构示意图;图3为本专利技术实施例提供的又一种掩模板的结构示意图;图4为本专利技术实施例提供的再一种掩模板的结构示意图;图5为本专利技术实施例提供的再一种掩模板的结构示意图;图6为本专利技术实施例提供的再一种掩模板的结构示意图;图7为本专利技术实施例提供的一种掩模组件的结构示意图;图8为本专利技术实施例提供的一种掩模板与遮挡板的位置关系示意图。此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分,示出了符合本申请的实施例,并与说明书一起用于解释本申请的原理。具体实施方式为了使本专利技术的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合附图对本专利技术作进一步地详细描述,显然,所描述的实施例仅仅是本专利技术一部份实施例,而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例,都属于本专利技术保护的范围。掩模组件包括掩模框架以及掩模板。相关技术中在组装掩模组件的过程中,掩模板中的掩模图案会在拉伸掩模板时发生较大形变,本专利技术实施例提供了一种能够减少该形变的掩膜板。图1为本专利技术实施例提供的一种掩模板的结构示意图,如图1所示,该掩模板0上设置有掩模图案01,掩模图案01包括用于在衬底(图1中未示出)上形成图案的有效掩模区域011,以及包围有效掩模区域011的周边区域012,周边区域012的掩模图案01包括:位于有效掩模区域011在垂直于掩模板0的待绷直方向P1上的至少一侧的加固条013。综上所述,在本专利技术实施例提供的掩模板中,该掩模板上的掩模图案包括用于在衬底上形成图案的有效掩模区域,以及包围该有效掩模区域的周边区域。由于周边区域的掩模图案包括位于有效掩模区域在垂直于掩模板的待绷直方向上的至少一侧的加固条,且该加固条能够加固该有效掩模区域,使得在沿着该掩模板的待绷直方向拉伸该掩模板的过程中,加固条能够减小有效掩模区域的变形程度,避免了掩模板和掩膜组件无法正常使用。需要说明的是,在使用掩模组件制备显示面板的过程中,掩模组件中掩模板的有效掩模区域正对显示面板的有效显示区域,在有效掩模区域的变形程度较大时,该有效掩模区域与显示面板的有效显示区域的错位程度较大,导致该掩模组件制备的显示面板的显示效果较差。而本专利技术实施例提供的掩模板中有效掩模区域的变形程度较小,使用该掩模板所在掩模组件制备出的显示面板的显示效果较好。另外,本专利技术实施例中仅以周边区域012的掩模图案01包括:位于有效掩模区域011在垂直于掩模板0的待绷直方向P1上的两侧的加固条013为例,可选的,周边区域012的掩模图案01还可以包括:位于有效掩模区域011在垂直于掩模板0的待绷直方向P1上的一侧的加固条013,本专利技术实施例对此不作限定。可选的,请继续参考图1,加固条013可以位于周边区域012中靠近该有效掩模区域011的部分区域(图1中未标出),也即加固条013未与周边区域012中远离有效掩模区域011的边沿接触。示例的,加固条013与周边区域012中远离有效掩模区域011的边沿(图1中未标出)的最短距离D1的范围可以为0.5~5毫米。可选的,该最短距离D1的范围还可以为其他范围(如0.4~6毫米),本专利技术实施例对此不作限定。可选的,加固条013的宽度W1的范围可以为0.2~3毫米。加固条013的宽度W1的范围还可以为其他范围(如0.1~4毫米),本专利技术实施例对此不作限定。可选的,加固条013可以平行于待绷直方向P1,以便于在沿着待绷直方向P1拉伸掩模板时,该加固条013有效的抵抗有效掩模区域011在垂直于待绷直方向P1上的形变,进一步减小了有效掩模区域011的变形程度。可选的,加固条013还可以与待绷直方向P1之间具有倾角,本专利技术实施例对此不作限定。可选的,图2为本专利技术实施例提供的另一种掩模板的结构示意图,如图2所示,在图1的基础上,周边区域012的掩模图案01还可以包括:位于有效掩模区域011在待绷直方向P1上的至少一侧的加固条014。且图2中仅以周边区域012的掩模图案01包括:位于有效掩模本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种掩模板,其特征在于,所述掩模板上设置有掩模图案,所述掩模图案包括用于在衬底上形成图案的有效掩模区域,以及包围所述有效掩模区域的周边区域;所述周边区域的所述掩模图案包括:位于所述有效掩模区域在垂直于所述掩模板的待绷直方向上的至少一侧的加固条。

【技术特征摘要】
1.一种掩模板,其特征在于,所述掩模板上设置有掩模图案,所述掩模图案包括用于在衬底上形成图案的有效掩模区域,以及包围所述有效掩模区域的周边区域;所述周边区域的所述掩模图案包括:位于所述有效掩模区域在垂直于所述掩模板的待绷直方向上的至少一侧的加固条。2.根据权利要求1所述的掩模板,其特征在于,所述掩模图案包括:n个有效掩模区域,所述周边区域的所述掩模图案包括:至少一组加固条,n≥1,每组加固条包括多个加固条,且所述多个加固条位于所述n个有效掩模区域在垂直于所述待绷直方向上的相对两侧。3.根据权利要求2所述的掩模板,其特征在于,所述周边区域的所述掩模图案包括:与所述n个有效掩模区域一一对应的n组加固条,所述多个加固条位于所述每组加固条对应的有效掩模区域在垂直于所述待绷直方向上的相对两侧。4.根据权利要求3所述的掩模板,其特征在于,所述每组加固条中每个加固条在参考面上的正投影为第一正投影,所述每组加固条对应的有效掩模区域在所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:肖志慧
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司
类型:发明
国别省市:北京,11

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