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一种灌嘴结构制造技术

技术编号:19705305 阅读:34 留言:0更新日期:2018-12-08 15:09
本发明专利技术公开了一种灌嘴结构,包括灌嘴主体,所述灌嘴主体包括灌嘴通道和包裹在所述灌嘴通道外表面的灌嘴保护胶体,所述灌嘴通道包括弧形入口和上窄下宽的甬道,所述甬道的上端直径为下端直径的0.5倍,所述灌嘴保护胶体呈T字形结构,且该灌嘴保护胶体的两端设有定位孔。

【技术实现步骤摘要】
一种灌嘴结构
本专利技术涉及一种灌嘴结构。
技术介绍
现有的灌嘴结构复杂,使用不方便等缺点。
技术实现思路
专利技术目的:为解决现有技术中灌嘴结构复杂,使用不方便等问题,本专利技术提出一种灌嘴结构。技术方案:为实现上述目的,本专利技术采用的技术方案为:一种灌嘴结构,包括灌嘴主体,所述灌嘴主体包括灌嘴通道和包裹在所述灌嘴通道外表面的灌嘴保护胶体,所述灌嘴通道包括弧形入口和上窄下宽的甬道,所述甬道的上端直径为下端直径的0.5倍,所述灌嘴保护胶体呈T字形结构,且该灌嘴保护胶体的两端设有定位孔。有益效果:本专利技术提供的一种灌嘴结构,与现有技术相比,具有以下优点:本专利技术的灌嘴结构结构简单,使用方便。附图说明图1为本专利技术的结构示意图。具体实施方式下面结合附图和具体实施例,进一步阐明本专利技术,应理解这些实例仅用于说明本专利技术而不用于限制本专利技术的范围,在阅读了本专利技术之后,本领域技术人员对本专利技术的各种等价形式的修改均落于本申请所附权利要求所限定的范围。参照图1所示的一种灌嘴结构,包括灌嘴主体1,所述灌嘴主体1包括灌嘴通道2和包裹在所述灌嘴通道2外表面的灌嘴保护胶体3,所述灌嘴通道2包括弧形入口21和上窄下宽的甬道22,所述甬道22的上端直径为下端直径的0.5倍,所述灌嘴保护胶体3呈T字形结构,且该灌嘴保护胶体3的两端设有定位孔。

【技术保护点】
1.一种灌嘴结构,其特征在于:包括灌嘴主体,所述灌嘴主体包括灌嘴通道和包裹在所述灌嘴通道外表面的灌嘴保护胶体,所述灌嘴通道包括弧形入口和上窄下宽的甬道,所述甬道的上端直径为下端直径的0.5倍,所述灌嘴保护胶体呈T字形结构,且该灌嘴保护胶体的两端设有定位孔。

【技术特征摘要】
1.一种灌嘴结构,其特征在于:包括灌嘴主体,所述灌嘴主体包括灌嘴通道和包裹在所述灌嘴通道外表面的灌嘴保护胶体,所述灌嘴通道包括弧...

【专利技术属性】
技术研发人员:王小明
申请(专利权)人:王小明
类型:发明
国别省市:江苏,32

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