彩膜基板及其制作方法、显示面板技术

提供一种彩膜基板及其制作方法、显示面板。该彩膜基板包括多个子像素，各子像素包括彩色滤光层，所述彩色滤光层被配置为使透过该子像素的光显示一种颜色，其中，不同颜色的子像素之间设置有挡墙，所述挡墙在被其分隔的子像素间连续延伸。该彩膜基板可以抑制漏光光线对临近子像素光色的影响。

【技术实现步骤摘要】
彩膜基板及其制作方法、显示面板
本公开至少一实施例涉及一种彩膜基板及其制作方法、显示面板。
技术介绍
有机发光二极管(OrganicLight-EmittingDiode，OLED)器件相对于液晶显示器(LiquidCrystalDisplay，LCD)具有自发光、反应快、视角广、亮度高、色彩艳、轻薄等优点，被认为是下一代显示技术。
技术实现思路
本公开的至少一实施例涉及一种彩膜基板及其制作方法、显示面板，以抑制漏光光线对临近子像素光色的影响。本公开的至少一实施例提供一种彩膜基板，包括多个子像素，各子像素包括彩色滤光层，所述彩色滤光层被配置为使透过该子像素的光显示一种颜色，其中，不同颜色的子像素之间设置有挡墙，所述挡墙在被其分隔的子像素间连续延伸。本公开的至少一实施例还提供一种彩膜基板的制作方法，包括形成多个子像素，各子像素包括彩色滤光层，所述彩色滤光层被配置为使透过该子像素的光显示一种颜色，其中，不同颜色的子像素之间形成有挡墙，所述挡墙在被其分隔的子像素间连续延伸。本公开的至少一实施例还提供一种显示面板，包括本公开的至少一实施例提供的任一彩膜基板。附图说明为了更清楚地说明本公开实施例的技术方案，下面将对实施例的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅涉及本公开的一些实施例，而非对本公开的限制。图1为一种顶发射OLED显示面板的剖面示意图；图2为一种顶发射OLED显示面板的阵列基板的俯视示意图；图3为与图2的阵列基板对应的彩膜基板的俯视示意图；图4为另一种顶发射OLED显示面板的阵列基板的俯视示意图；图5为与图4的阵列基板对应的彩膜基板的俯视示意图；图6为本公开一实施例提供的一种彩膜基板的俯视示意图；图7为本公开一实施例提供的包括图6所示的彩膜基板的显示面板的剖视示意图(图6所示的彩膜基板AB处剖视图)；图8为本公开一实施例提供的包括图6所示的彩膜基板的显示面板的剖视示意图(图6所示的彩膜基板的CD处剖视图)；图9为本公开一实施例提供的一种彩膜基板的剖视示意图；图10为本公开一实施例提供的包括反射层的彩膜基板形成的显示面板减少漏光的示意图；图11为本公开一实施例提供的一种彩膜基板的附视示意图；图12为本公开一实施例提供的一种显示面板的剖视示意图。附图标记：10-彩膜基板；20-阵列基板；101-第一衬底基板；201-第二衬底基板；0103-子像素；210-第一电极；103-彩色滤光层；105-挡墙；2002-发光单元；106-反射层；1030-彩膜叠层；104-平坦层；12-显示面板；10300-彩膜子层。具体实施方式为使本公开实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本公开实施例的附图，对本公开实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本公开的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本公开的实施例，本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本公开保护的范围。除非另外定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本公开所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。同样，“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。OLED器件通常由阳极、发光功能层213和阴极组成，根据发光面不同可分为底发射和顶发射两种，由于顶发射器件可以获得更大的开口率，近年来成为研究的热点。对于喷墨打印OLED器件来说，制备顶发射难度很大，这是因为顶发射OLED器件要求发光功能层(EL)各膜层厚度均匀，为了进一步提升顶发射器件的色域，有一种OLED+CF技术，OLED器件经过相应彩色滤光层后可以过滤掉相应的不纯，而保留特定的光谱，从而提升OLED器件单色色纯度，从而提升OLED器件色域。然而，如图1所示，彩膜基板10的第一衬底基板101上可设置黑矩阵102和彩色滤光层103，各子像素0103包括彩色滤光层103，彩色滤光层103被配置为使透过该子像素的光显示一种颜色，彩色滤光层103可包括红色滤光层1031、绿色滤光层1032和蓝色滤光层1033。根据光透过子像素后显示的颜色，子像素0103可包括红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素。阵列基板20包括发光单元2002，发光单元2002可包括第一电极210，第一电极210可设置在第二衬底基板201上。第一电极210可采用透明导电氧化物，例如氧化铟锡(IndiumTinOxide，ITO)，但不限于此。图1中未示出发光单元2002的全部结构。如图1所示，顶发射OLED器件，阵列基板20和彩膜基板10对盒后两者之间存在空隙，从而各子像素(例如红绿蓝)0103间发光时容易发生漏光而相互串色。本公开的实施例中以一个像素包括红绿蓝三基色的子像素为例进行说明，但并不限于此。子像素还可以采用其他颜色。如图1所示，因阵列基板20和彩膜基板10之间空隙的存在，出现漏光。θ1是入射角，θ2是出射角，空气的折射率为1.0，玻璃的折射率为1.5(以第一衬底基板101为玻璃基板为例)，这样当θ2等于41°时，θ2等于90°，也就是说，入射角θ1＞41°光线无法射出，不会发生漏光，入射角θ1小于41°，光线可以射出，发生漏光。图1中，第一电极210上可设置像素限定层(PixelDefinitionLayer，PDL)。例如，如图1所示，对于喷墨打印器件，像素限定层可包括第一像素限定层(第一PDL)211和第二像素限定层(第二PDL)212双层结构，第一PDL211可用来定义发光单元202的实际发光面积，第一PDL211可使用高表面能的材料，例如SiO2、Si3N4等。第二PDL212可用于喷墨打印器件墨水的盛放，第二PDL212可使用表面具备高的疏液性能的材料，可防止墨水溢流到子像素外面。第二PDL212可采用含氟亚克力树脂，氟化聚酰亚胺树脂等材料。对于蒸镀器件，不需要特别的表面特性，第二PDL212可采用聚酰亚胺、亚克力树脂、SiO2、陶瓷等材料。如图2所示，阵列基板包含薄膜晶体管(ThinFilmTransistor，TFT)2001、OLED子像素区、第一PDL211和第二PDL212结构。可根据内部补偿电路需要，设置2T1C、3T2C、3T1C等结构。如图2所示，TFT2001可放在子像素的长边方向，图2中示出了沿每个子像素的长边方向设置三个TFT2001。OLED子像素区可用来定义子像素的发光形状、位置和大小。PDL之后在第一电极210上形成发光功能层213，发光功能层213可包括空穴注入层、空穴传输层、发光层、空穴阻挡层、电子阻挡层、电子传输层、电子注入层等其中的一层或多层组成。OLED可发白光，再通过彩色滤光层滤色从而进行彩色显示。例如，第二PDL212的宽度可为5-30μm，进一步可为10μm；第二本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种彩膜基板，包括多个子像素，各子像素包括彩色滤光层，所述彩色滤光层被配置为使透过该子像素的光显示一种颜色，其中，不同颜色的子像素之间设置有挡墙，所述挡墙在被其分隔的子像素间连续延伸。

【技术特征摘要】
1.一种彩膜基板，包括多个子像素，各子像素包括彩色滤光层，所述彩色滤光层被配置为使透过该子像素的光显示一种颜色，其中，不同颜色的子像素之间设置有挡墙，所述挡墙在被其分隔的子像素间连续延伸。2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其中，在所述挡墙的侧壁上设置有反射层，所述反射层被配置为反射照射到其上的光。3.根据权利要求1所述的彩膜基板，其中，所述挡墙采用不透光的树脂材料。4.根据权利要求1所述的彩膜基板，其中，所述挡墙在各位置处具有同一高度。5.根据权利要求1所述的彩膜基板，还包括衬底基板，其中，所述挡墙具有梯形截面，所述梯形的上底面相对于所述下底面更远离所述衬底基板。6.根据权利要求1所述的彩膜基板，其中，所述多个子像素呈阵列排布，同一颜色的子像素沿第一方向延伸，不同颜色的子像素沿第二方向排布，所述挡墙沿着所述第一方向连续延伸。7.根据权利要求1所述的彩膜基板，其中，所述多个子像素呈阵列排布，同一颜色的子像素沿第一方向延伸，不同颜色的子像素沿第二方向排布，在所述第一方向上，所述挡墙在不同子像素间具有间隔。8.根据权利要求1所述的彩膜基板，还包括支撑物，其中，所述支撑物设置在相同颜色的子像素之间，所述支撑物的高度大于或等于所述挡墙的高度。9.根据权利要求1-7任一项所述的彩膜基板，还包括彩膜叠层，其中，所述彩膜叠层包括多种不同颜色的彩膜子层，所述彩膜叠层的高度大于所述彩色滤光层的高度。10.一种彩膜基板的制作方法，包括形成多个子像素，各子像素包括彩色滤光层，所述彩色滤光...

【专利技术属性】
技术研发人员：王辉锋，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11