显示面板及其制备方法技术

本申请公开了一种显示面板及其制备方法，该制备方法包括提供一基板，基板包括显示区及非显示区；在基板的非显示区上形成衬垫层，所述衬垫层包括间隔设置的第一衬垫层及第二衬垫层，第一衬垫层的厚度大于第二衬垫层的厚度；在衬垫层上形成有机层；图形化有机层，以使得第一衬垫层上方对应的有机层的厚度大于或等于第二衬垫层上方对应的有机层的厚度。通过上述方式，本申请能够增大涂覆间隔物层后形成的第一间隔物及第二间隔物之间的段差。

【技术实现步骤摘要】
显示面板及其制备方法
本申请涉及显示
，特别是涉及一种显示面板及其制备方法。
技术介绍
BPS(BlackPhotoSpacer)技术是指整合常规液晶显示器(LiquidCrystalDisplay，LCD)制造中黑色光阻(BlackMatrix，BM)和间隔物(PhotoSpacer，PS)两道制程为一道，即用同一种黑色遮光树脂材料形成BM和PS结构。通常情况下，间隔物采用两段式的方式呈现，可以命名为主间隔物(MainPS)和次间隔物(SubPS)，且在具体实施方式中，其绝对高度从大到小一般是MainPS>SubPS>BM。不同高度段差的结构可以通过半色调掩模板来控制其透过率得到，也可以利用BPS材料下不同厚度的载台衬垫来实现。目前主要有两种构架，其差异点主要在于下层衬垫和使用的彩色滤光膜后的覆盖层，目前使用的PFA(PolymerFilmonArray)有机薄膜材料流平性强，即平坦化能力强，下方衬垫段差易被降低抹平，且目前仅用在双层光阻堆叠制作MainPS，单层光阻衬垫制作SubPS的架构中。进一步，有机薄膜从溶液态成膜流平，经过曝光烘烤后，有明显的流平效果，降低其表面粗糙度。而一般地势较低处由于容易聚集涂敷材料，因而厚度一般更大。
技术实现思路
本申请提供一种显示面板及其制备方法，能够增大涂覆间隔物层后形成的第一间隔物及第二间隔物之间的段差。为解决上述技术问题，本申请采用的一个技术方案是：提供一种显示面板，所述制备方法包括：提供一基板，所述基板包括显示区及非显示区；在所述基板的非显示区上形成衬垫层，其中，所述衬垫层包括间隔设置的第一衬垫层及第二衬垫层，所述第一衬垫层的厚度大于所述第二衬垫层的厚度；在所述衬垫层上形成有机层；图形化所述有机层，以使得所述第一衬垫层上方对应的有机层的厚度大于或等于所述第二衬垫层上方对应的有机层的厚度；在所述有机层上涂覆间隔物层以形成第一间隔物及第二间隔物，所述第一间隔物包括所述第一衬垫及所述第一衬垫之上的所述有机层及所述间隔物层，所述第二间隔物包括所述第二衬垫及所述第二衬垫之上的所述有机层及所述间隔物层。为解决上述技术问题，本申请采用的另一个技术方案是：提供一种显示面板，所述显示面板包括：基板，所述基板包括显示区及非显示区；衬垫层，形成于所述基板的非显示区，包括间隔设置的第一衬垫层及第二衬垫层，所述第一衬垫层的厚度大于所述第二衬垫层的厚度；有机层，形成于所述衬垫层上，且所述第一衬垫层上方对应的有机层的厚度大于或等于所述第二衬垫层上方对应的有机层的厚度；间隔物层，形成于所述有机层上，包括第一间隔物及第二间隔物，所述第一间隔物包括所述第一衬垫及所述第一衬垫之上的所述有机层及所述间隔物层，所述第二间隔物包括所述第二衬垫及所述第二衬垫之上的所述有机层及所述间隔物层。本申请的有益效果是：提供一种显示面板及其制备方法，通过利用多透过率的掩膜板对有机层进行曝光图形化处理，进而改变非显示区中第一衬垫层及第二衬垫层上方有机层的厚度，从而最终影响涂覆间隔物层后形成的第一间隔物及第二间隔物所形成的段差。附图说明图1是本申请显示面板一实施方式的流程示意图；图2是本申请显示面板第一实施方式的制备示意图；图3是本申请有机层图形化一实施方式的示意图；图4是本申请显示面板第二实施方式的制备示意图；图5是本申请显示面板第一实施方式的结构示意图；图6是本申请显示面板第二实施方式的结构示意图。具体实施方式下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本申请的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。请参阅图1，图1为本申请显示面板一实施方式的流程示意图，如图1所示，本申请中显示面板的具体制备包括如下步骤：S10，提供一基板，基板包括显示区及非显示区。请进一步结合图2，图2为本申请显示面板第一实施方式的制备示意图。在步骤S1中，首先提供一基板10，其中，基板10可以为透明材质，具体可以是玻璃、陶瓷基板或者透明塑料等任意形式的基板，此处本专利技术不做具体限定。且该基板10包括显示区A及非显示区B。S11，在基板的非显示区上形成衬垫层，其中，衬垫层包括间隔设置的第一衬垫层及第二衬垫层，第一衬垫层的厚度大于第二衬垫层的厚度。步骤S11具体可以分如下两种情况：1.非显示区B中的第一衬垫层及第二衬垫层均为单层光阻；2.非显示区B中的所述第一衬垫层由两种不同颜色的光阻堆叠而成，第二衬垫层为单层光阻。结合图2，先就第一种情况进行详细描述：在本实施例中，采用一道掩膜工艺在基板10的显示区A上形成光阻层11，在基板10的非显示区B形成衬垫层12，且该衬垫层12包括第一衬垫层121及第二衬垫层122。其中，第一衬垫层121及第二衬垫层122均为单层光阻。在具体实施方式中，第一衬垫层121的厚度大于第二衬垫层122的厚度。本实施例中，显示区A的光阻层11可以包括多个交替循环设置的红色光阻层、绿色光阻层以及蓝色光阻层。非显示区B中的第一衬垫层121及第二衬垫层122可以为红色光阻层、绿色光阻层以及蓝色光阻层中的一种，此处不做进一步限定。当然本实施例中的第一衬垫层121及第二衬垫层122均为蓝色光阻层。当然，上述显示区A及非显示区B中的光阻层11及衬垫层12可以采用同一道掩膜生成，也可以采用不同的掩膜工艺生成，此处不做进一步限定。S12，在衬垫层上形成有机层。步骤S12中，同时在光阻层11及衬垫层12上形成一有机层13。该有机层13可以运用在TFT基板侧的聚合物有机薄膜(PolymerFilmonArray，PFA)，且PFA目前仅作为平坦层有机薄膜。本实施例中的有机层13具体可以采用正性光敏材料或负性光敏材料中的一种。S13，图形化有机层，以使得第一衬垫层上方对应的有机层的厚度大于或等于第二衬垫层上方对应的有机层的厚度。步骤S13中，具体可以分为两种情况：1.有机层(PFA)为正性光敏材料本实施例中，当上述的有机层13采用正性的PFA时，图形化该有机层13时具体可以采用含0和100％以外光穿透率的特殊掩模板，当然本实施例中采用半色调掩模板C对有机层13进行曝光图形化处理，以此来控制不同区域的膜层厚度，从而影响最终形成的间隔物层中第一间隔物及第二间隔物的段差。如图2所示，第一衬底层121的厚度大于第二衬垫层122的厚度，此种情况下涂覆有机层13后，因有机层从溶液态成膜流平，经过曝光烘烤后，有明显的流平效果，降低表面粗糙度，往往会使得第二衬垫层122上方聚集的有机层的厚度要大于第一衬垫层121上方的有机层厚度，假设第一衬垫层121上方的有机层13的厚度为h1，第二衬垫层122上方的有机层13的厚度为h2，则图形化处理后得到h1>h2。故在本实施例中，采用半色调掩模板C对该有机层13进行图形化处理，光罩在通孔(Via)的位置设置为半色调掩模板C的透光率为100％(全透)，无遮挡。半色调掩模板C其余区域透光率的设置需要根据实际情况和实际需求来决定，以此来调节PFA(有机层13)在不同区域的厚度，从而使得第一衬垫121上方的有本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示面板的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：提供一基板，所述基板包括显示区及非显示区；在所述基板的非显示区上形成衬垫层，其中，所述衬垫层包括间隔设置的第一衬垫层及第二衬垫层，所述第一衬垫层的厚度大于所述第二衬垫层的厚度；在所述衬垫层上形成有机层；图形化所述有机层，以使得所述第一衬垫层上方对应的有机层的厚度大于或等于所述第二衬垫层上方对应的有机层的厚度；在所述有机层上涂覆间隔物层，以形成第一间隔物及第二间隔物，所述第一间隔物包括所述第一衬垫层及所述第一衬垫层之上的所述有机层及所述间隔物层，所述第二间隔物包括所述第二衬垫层及所述第二衬垫层之上的所述有机层及所述间隔物层。

【技术特征摘要】
1.一种显示面板的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：提供一基板，所述基板包括显示区及非显示区；在所述基板的非显示区上形成衬垫层，其中，所述衬垫层包括间隔设置的第一衬垫层及第二衬垫层，所述第一衬垫层的厚度大于所述第二衬垫层的厚度；在所述衬垫层上形成有机层；图形化所述有机层，以使得所述第一衬垫层上方对应的有机层的厚度大于或等于所述第二衬垫层上方对应的有机层的厚度；在所述有机层上涂覆间隔物层，以形成第一间隔物及第二间隔物，所述第一间隔物包括所述第一衬垫层及所述第一衬垫层之上的所述有机层及所述间隔物层，所述第二间隔物包括所述第二衬垫层及所述第二衬垫层之上的所述有机层及所述间隔物层。2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述第一间隔物的厚度大于所述第二间隔物的厚度。3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述有机层为正性光敏材料，所述图形化所述有机层采用半色调掩模板，其中，所述半色调掩模板对应所述第一衬垫层处的透光率小于所述半色调掩模板对应所述第二衬垫层处透光率。4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述有机层为负性光敏材料，述图形化所述有机层采用灰色调掩模板，其中，所述灰色调掩模板对应所述第一衬垫层处的透光率大于所述灰色调掩模板...

【专利技术属性】
技术研发人员：曹武，
申请(专利权)人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44