The invention discloses an optical path calibration method and a calibration device for a quadricrystal monochrometer, in which the calibration method comprises the following steps: providing a light source, a first receiving screen and a quadricrystal monochrometer; illuminating the incident light emitted by the light source onto the first receiving screen, and recording the spot position on the first receiving screen as the first spot position; Keep the relative position of the light source and the first receiving screen unchanged, and set the quadricrystal monochromator between the light source and the first receiving screen; make the incident light emitted by the light source shine on the first crystal, and the incident light reflected by the first crystal to the fourth crystal shines on the first receiving screen in turn, and record the first receiving screen. The spot position is the second spot position; at least one crystal in the first crystal to the fourth crystal is adjusted so that the second spot position is the same as the first spot position. It can solve the problem that it is difficult to calibrate the optical path directly with invisible X-ray when the optical path is offset in the quadricrystal monochromator.
【技术实现步骤摘要】
一种四晶单色仪的光路校准方法及校准装置
本专利技术涉及光学工程
,尤其涉及到一种四晶单色仪的光路校准方法及校准装置。
技术介绍
高分辨X射线衍射(HighResolutionX-rayDiffraction,HRXRD)以半导体单晶材料和各种低维半导体异质结构为主要研究对象,是半导体的第一测试手段。HRXRD与普通X射线衍射不同,主要在于HRXRD的入射束经过多次反射限束实现了高度平行化和单色化,更接近单色平面波。普通的X射线衍射的入射束发散度限制在约200arcsec(1arcsec=1/3600度)就已足够,而HRXRD的入射束角发散度至少要限制到12arcsec,甚至2.5arcsec,而使X射线的角分辨率收窄,形成高分辨X射线的核心模块就是四晶单色仪,因此,四晶单色仪是高分辨X射线衍射仪的重要组成部分。在高分辨X射线衍射仪使用过程中,更换光管、移机等操作容易导致四晶单色仪的光路偏移,因而,需要通过对四晶单色仪中晶体位置进行调整实现光路偏移的校准。但是,由于X射线为不可见光,且辐射会对人体造成巨大伤害,因此使用X射线对四晶单色仪进行光路调整的难度较大,并且容易对操作人员造成伤害。
技术实现思路
因此,本专利技术要解决的技术问题在于提供一种使用可见光进行光路校正的四晶单色仪的光路校准方法,降低校准难度。为此,根据第一方面,本专利技术提供了一种四晶单色仪的光路校准方法,包括如下步骤:提供一光源,第一接收屏以及四晶单色仪;四晶单色仪包括第一晶体,第二晶体,第三晶体以及第四晶体;使光源发出的入射光照射到第一接收屏上,并记录第一接收屏上的光斑位置为第一光斑位 ...
【技术保护点】
1.一种四晶单色仪的光路校准方法,其特征在于,包括如下步骤:提供一光源(1),第一接收屏(2)以及四晶单色仪(3);所述四晶单色仪(3)包括第一晶体(31),第二晶体(32),第三晶体(33)以及第四晶体(34);使所述光源(1)发出的入射光照射到所述第一接收屏(2)上,并记录所述第一接收屏(2)上的光斑位置为第一光斑位置;保持所述光源(1)和所述第一接收屏(2)的相对位置不变,并将所述四晶单色仪(3)设置于所述光源(1)与所述第一接收屏(2)之间;使所述光源(1)发出的入射光照射到所述所述第一晶体(31)上,所述入射光依次经过所述第一晶体(31)、所述第二晶体(32)、所述第三晶体(33)和所述第四晶体(34)反射后的出射光照射到所述第一接收屏(2)上,并记录所述第一接收屏(2)上的光斑位置为第二光斑位置;调整所述第一晶体(31)、所述第二晶体(32)、所述第三晶体(33)和第四晶体(34)中的至少一个晶体,以使所述第二光斑位置与所述第一光斑位置为同一位置。
【技术特征摘要】
1.一种四晶单色仪的光路校准方法,其特征在于,包括如下步骤:提供一光源(1),第一接收屏(2)以及四晶单色仪(3);所述四晶单色仪(3)包括第一晶体(31),第二晶体(32),第三晶体(33)以及第四晶体(34);使所述光源(1)发出的入射光照射到所述第一接收屏(2)上,并记录所述第一接收屏(2)上的光斑位置为第一光斑位置;保持所述光源(1)和所述第一接收屏(2)的相对位置不变,并将所述四晶单色仪(3)设置于所述光源(1)与所述第一接收屏(2)之间;使所述光源(1)发出的入射光照射到所述所述第一晶体(31)上,所述入射光依次经过所述第一晶体(31)、所述第二晶体(32)、所述第三晶体(33)和所述第四晶体(34)反射后的出射光照射到所述第一接收屏(2)上,并记录所述第一接收屏(2)上的光斑位置为第二光斑位置;调整所述第一晶体(31)、所述第二晶体(32)、所述第三晶体(33)和第四晶体(34)中的至少一个晶体,以使所述第二光斑位置与所述第一光斑位置为同一位置。2.根据权利要求1所述的四晶单色仪的光路校准方法,其特征在于,所述调整所述第一晶体(31)、所述第二晶体(32)、所述第三晶体(33)和所述第四晶体(34)中的至少一个晶体,以使所述第二光斑位置与所述第一光斑位置为同一位置,包括如下步骤:在所述第二晶体(32)和所述第三晶体(33)之间设置第二接收屏;所述第二接收屏将所述第一晶体(31)、所述第二晶体(32)、所述第三晶体(33)和所述第四晶体(34)分隔为由所述第一晶体(31)和所述第二晶体(32)组成的第一晶体组,以及由所述第三晶体(33)和所述第四晶体(34)组成的第二晶体组;调整所述第一晶体组中的至少一个晶体,以使所述入射光经过所述第一晶体组的反射后,照射到所述第二接收屏上的指定位置;移除所述第二接收屏,并调整所述...
【专利技术属性】
技术研发人员:吴文俊,张伊唯,周佳琪,马栋梁,张念站,
申请(专利权)人:苏州矩阵光电有限公司,
类型:发明
国别省市:江苏,32
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