显影装置和电路基板的制造方法制造方法及图纸

技术编号:19561294 阅读:26 留言:0更新日期:2018-11-25 00:19
本发明专利技术的课题在于提供电路基板的制造方法和显影装置,在长条膜的喷淋方式的显影工序中能够消除显影不均,能够在不使用气割机的情况下防止显影液流入到清洗液槽中。一种电路基板的制造方法,依次经过将具有形成了潜像的涂膜的基材大致水平地搬运并将显影液散布至所述基材上的显影工序、散布清洗液对显影液进行稀释的清洗工序、以及除去液体成分的干燥工序,并且在所述显影工序中利用复数个散液喷嘴朝向上游侧散布显影液,所述制造方法中,在设所述基材的搬运方向为X方向、铅直方向为Z方向、机宽方向为Y方向时,从所述散液喷嘴散布的显影液的散布方向O’沿所述Y方向投影在XZ平面上的直线O’XZ与所述X方向所形成的锐角侧的角度α’为45°以上85°以下,连结所述散液喷嘴的一系列散液孔的直线P’与所述X方向所形成的锐角侧的角度β’为45°以上80°以下。

Manufacturing Method of Developer and Circuit Substrate

The subject of the invention is to provide a manufacturing method and a developing device for the circuit board, which can eliminate the uneven development in the developing process of the spraying method of the long film and prevent the developing liquid from flowing into the cleaning liquid tank without using the gas cutter. A method for manufacturing circuit substrates is described, in turn, by roughly horizontally transporting the substrate with a latent image forming film and spreading the developer onto the substrate, cleaning the developer diluted by the dispersing cleaner, and drying the liquid component, and in the developing process. In the manufacturing method, when the moving direction of the base material is X direction, the straight direction of the lead is Z direction and the machine width direction is Y direction, the dispersing direction O'of the developer liquid dispersed from the dispersing liquid nozzle is projected along the straight line O'XZ and Y direction on the XZ plane along the Y direction. The angle of the sharp angle side formed in the X direction is below 85 degrees above 45 degrees, and the angle of the sharp angle side formed in the X direction is below 80 degrees above 45 degrees.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】显影装置和电路基板的制造方法
本专利技术涉及显影装置和电路基板的制造方法,例如涉及在触控面板的制造中在基材上形成规定的布线电极而制成电路基板时所使用的显影装置以及使用了该显影装置的电路基板的制造方法。
技术介绍
触控面板是显示屏显示设备与触控板之类的触摸坐标检测装置组合而成的电子部件,多被组装到主要要求直观处置的设备中。具体而言,其被搭载于移动电话、平板电脑等移动终端,近年来要求触控面板的薄膜化、轻量化、窄边框化、低成本化。在此之前,作为触控板之类的触摸坐标检测装置中使用的触控模块的基材19,采用的是具有锡掺杂氧化铟(以下记为ITO)的玻璃,但基于薄膜化、低廉化这样的客户需求,目前,具有ITO的长条的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(以下记为PET膜)成为主流。另一方面,对于触控模块的引出布线采用了导电油墨的图案印刷方法,但该方法中引出布线的分辨率有限,因而基于窄边框化这样的客户需求,目前,使用感光性导电油墨的光刻法成为主流。在作为该导电油墨的光刻法的制造工序之一的显影工序中,使用旋转式、浸渍式、喷淋式等各种方式。其中,在喷淋式的显影方式中,一边利用输送机等移动基材,一边将高压且大流量的显影液以喷淋状供给至基材的被处理面,因而能够连续地实施显影处理和清洗工序,具有生产率高的优点。其中,在使用长条的PET膜的喷淋式显影方法中,如上所述将显影液散布供给至基材上,因而显影液容易在膜基材上滞留,显影液的置换效率降低,产生显影不充分的部分和显影过多的部分。另外,所滞留的显影液会流入到作为下一工序的清洗工序中,具有清洗液受到污染的问题。作为公开了喷淋式显影装置的文献,例如有专利文献1、专利文献2。在专利文献1中,通过在显影部的下游部分设置气割机91、并使用该气割机向基材表面喷吹空气来针对该流出采取对策。另外,在专利文献2中,通过向倾斜状态的基材喷出显影液来进行显影、控制显影喷出量来控制显影液的滞留,由此来谋求对策。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开平7-261013号公报专利文献2:日本特开2009-8886号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的课题但是,在专利文献1中,在实施该对策的情况下,通过对显影液喷吹空气,显影液发生干燥,使得显影液中包含的成分残留在基材上。另外,在专利文献2的对策中,为了以倾斜状态搬运基材,需要进行显影装置的大幅改造。本专利技术的课题在于提供一种显影装置和电路基板的制造方法,其能够解决这些问题,即,在长条膜的喷淋方式的显影工序中能够消除显影不均,能够在不使用气割机的情况下防止显影液向清洗液槽中的流入。用于解决课题的手段本专利技术人针对该课题进行了深入研究,结果发现,通过将显影液以特定范围的角度对基材进行散布,显影液不会在基材上滞留,产生与基材移动方向相反的方向的均匀流动,可抑制显影液流入到清洗液槽中,能够进行不存在不均的均匀的显影,从而完成了本专利技术。本专利技术涉及一种电路基板的制造方法,依次经过将具有形成了潜像的涂膜的基材大致水平地搬运并从上游侧将显影液散布至上述基材上的显影工序、散布清洗液对显影液进行稀释的清洗工序、以及除去液体成分的干燥工序,并且在上述显影工序中利用复数个散液喷嘴朝向上游侧散布显影液,该制造方法中,在设上述基材的搬运方向为X方向、铅直方向为Z方向、机宽方向为Y方向时,从上述散液喷嘴散布的显影液的散布方向O’沿上述Y方向投影在XZ平面上的直线O’XZ与上述X方向所形成的锐角侧的角度α’为45°以上85°以下,平行于上述供给管的方向的直线P’与上述X方向所形成的锐角侧的角度β’为45°以上80°以下。另外,本专利技术涉及一种显影装置,其是具有形成了潜像的涂膜的基材的显影装置,依次具有:具有大致水平的搬运面的基材的搬运单元、从该搬运单元的上游侧将显影液散布至上述基材上的显影单元、散布清洗液对显影液进行稀释的清洗单元、以及除去液体成分的干燥单元,并且将作为上述显影单元的具有复数个散液喷嘴的显影液的供给管按照供给管的轴向大致平行于该搬运面的方式配置在搬运面的上侧,该显影装置中,上述散液喷嘴的开孔面朝向上游侧,在设上述基材的搬运方向为X方向、铅直方向为Z方向、机宽方向为Y方向时,垂直于上述散液喷嘴的开孔面的方向的直线O沿上述Y方向投影在XZ平面上的直线OXZ与上述X方向所形成的锐角侧的角度α为45°以上85°以下,平行于上述供给管的方向的直线P与上述X方向所形成的锐角侧的角度β为45°以上80°以下。专利技术的效果若使用本专利技术的显影装置、显影方法,则在显影时在基材上沿基材搬入口方向形成显影液的均匀流动,因而能够防止因显影液的滞留所致的显影不均、显影液向清洗液槽中的流入。附图说明图1是示出本专利技术的显影装置的一例的示意图。图2是示出基材的搬运面与X、Y、Z方向的关系的图。图3是示出显影液的散液喷嘴与直线P、O的关系的图。图4是示出显影液的供给管的配置的俯视图(XY俯视图)。图5是示出散液喷嘴的配置的侧视图(XZ俯视图)。图6是示出散液喷嘴的配置的从搬运方向观察的图(ZY俯视图)。图7是示出本专利技术中使用的显影液的散液喷嘴的开孔面的示意图。图8是示出显影工序中的显影液的散布方向的图。图9是示出显影工序中的显影液的散布方向的侧视图(XZ俯视图)。图10是示出显影工序中的显影液的散布方向的侧视图(ZY俯视图)。图11是示出显影工序中的显影液的散布状况的一例的立体图。图12是显影工序中的显影液的散液部的xy平面投影图(XY俯视图)。图13是比较例6的显影装置的示意图。具体实施方式以下参照附图对本专利技术的显影装置、电路基板的制造方法进行详细说明。[显影装置的概要]本专利技术的显影装置是具有形成了潜像的涂膜的基材的显影装置,是散液喷嘴沿特定方向进行配置的显影装置,该显影装置依次具有:具有大致水平的搬运面的基材的搬运单元、从该搬运单元的上游侧将显影液散布至上述基材上的显影单元、散布清洗液对显影液进行稀释的清洗单元、以及除去液体成分的干燥单元,并且将作为上述显影单元的具有复数个散液喷嘴的显影液的供给管按照供给管的轴向大致平行于该搬运面的方式配置在搬运面的上侧。需要说明的是,在本说明书中,有时也将“具有形成了潜像的涂膜的基材”简记为基材。图1是示出本专利技术的显影装置的一例的截面图。图1中,搬运单元由卷出辊13、卷取辊14和输送机15构成,能够将基材沿图中所示的搬运方向搬运。本专利技术的显影装置从搬运单元的上游侧(即卷出辊13侧)起依次具有:配置有向基材散布显影液的显影单元的显影区域10、配置有散布清洗液的清洗单元的清洗区域11、以及配置有除去液体成分的干燥单元的干燥区域12。通过采用该构成,对具有形成了潜像的涂膜的基材19连续地进行显影、清洗、干燥各处理。需要说明的是,关于各区域(显影区域10、清洗区域11、干燥区域12),以方便的方式示出了装置中的各单元(显影单元、清洗单元、干燥单元)各自的作用所涉及的大致范围,不必具有严格的边界。[搬运单元]本专利技术的显影装置中的搬运单元是为了对具有形成了潜像的涂膜的基材连续地进行上述利用各单元(显影单元、清洗单元、干燥单元)的处理而进行搬运的单元。此处,连续搬运是指基材在上述各单元之间不停止而以相同的速度搬运基材。作为该搬运单元,可以举出例如辊式输送机、带式输送机等搬运单元,但并不特别限定于这些。本文档来自技高网
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【技术保护点】
1.一种电路基板的制造方法,依次经过将具有形成了潜像的涂膜的基材大致水平地搬运并将显影液散布至所述基材上的显影工序、散布清洗液对显影液进行稀释的清洗工序、以及除去液体成分的干燥工序,并且在所述显影工序中利用复数个散液喷嘴朝向上游侧散布显影液,所述制造方法中,在设所述基材的搬运方向为X方向、铅直方向为Z方向、机宽方向为Y方向时,从所述散液喷嘴散布的显影液的散布方向O’沿所述Y方向投影在XZ平面上的直线O’XZ与所述X方向所形成的锐角侧的角度α’为45°以上85°以下,连结所述散液喷嘴的一系列散液孔的直线P’与所述X方向所形成的锐角侧的角度β’为45°以上80°以下。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.03.25 JP 2016-0613351.一种电路基板的制造方法,依次经过将具有形成了潜像的涂膜的基材大致水平地搬运并将显影液散布至所述基材上的显影工序、散布清洗液对显影液进行稀释的清洗工序、以及除去液体成分的干燥工序,并且在所述显影工序中利用复数个散液喷嘴朝向上游侧散布显影液,所述制造方法中,在设所述基材的搬运方向为X方向、铅直方向为Z方向、机宽方向为Y方向时,从所述散液喷嘴散布的显影液的散布方向O’沿所述Y方向投影在XZ平面上的直线O’XZ与所述X方向所形成的锐角侧的角度α’为45°以上85°以下,连结所述散液喷嘴的一系列散液孔的直线P’与所述X方向所形成的锐角侧的角度β’为45°以上80°以下。2.如权利要求1所述的电路基板的制造方法,其中,所述直线O’沿所述X轴方向投影在ZY平面上的直线O’ZY与所述Y方向所形成的锐角侧的角度γ’为60°以上且小于90°。3.如权利要求1或2所述的电路基板的制造方法,其中,所述显影液的散液部的长径R’XY与所述X方向所形成的锐角侧的角度λ为5°以上且小于90°。4.如权利要求1~3中任一项所述的电路基板的制造方法,其中,所述基材为膜,在设该膜的搬运方向的长度为A、将所述复数个喷嘴的散液孔的重心彼此连结的X方向的最大宽度为B时,满足1<A/B的关系。5.如权利要求1~3中任一项所述的电路基板的制造方法,其中,将所述基材以辊对辊方式进行搬运。6.如权利要求1~5中任一项所述的电路基板的制造方法,其中,每个所述散液喷嘴的显影液的散液量为0.2L/分钟~5L/分钟。7.如权利要求1~6中任一项所述的电路基板的制造方法,其中,将所述基材进行搬运的...

【专利技术属性】
技术研发人员:中山拓哉堀内健
申请(专利权)人:东丽株式会社
类型:发明
国别省市:日本,JP

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