【技术实现步骤摘要】
一种砧座曝光一体机
本专利技术涉及曝光机
,具体为一种砧座曝光一体机。
技术介绍
光刻机又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻,所以叫MaskAlignmentSystem;一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。目前,砧座曝光一体机主要作用对象为新能源行业滚焊焊接的砧座生产,但是砧座在蚀刻工艺中不能均匀有效曝光,导致产品质量差,因此,有待进一步改进。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种砧座曝光一体机,以解决上述
技术介绍
中提出的问题。为实现上述目的,本专利技术提供如下技术方案:一种砧座曝光一体机,包括上机架和下机架,所述上机架固定安装在下机架上,所述下机架上端设有作业平台,所述上机架正面安装有对开门机构,所述上机架侧面安装有封板,所述作业平台上安装有作业机构,所述作业机构包括砧座支撑座、弹簧柱塞、砧座套筒和伺服电机,所述砧座支撑座两侧通过弹簧柱塞固定在支撑座定位块上,所述伺服电机固定在作业平台一侧,所述伺服电机电机轴穿过固定座的中心孔与砧座套筒连接,所述砧座套筒端部安装有砧座固定螺丝,所述砧座套筒与砧座支撑座正对设置,且所述砧座套筒与砧座支撑座之间夹持待加工砧座。优选的,所述作业平台下方安装有控制箱,所述控制箱上设有启动按钮、正反转调节开关和工作指示灯,所述控制箱内还设有PLC控制器,所述PLC控制器连接伺服电机。优选的,所述上机架和下机架均采用铝型材结构。优选的,所述封板采用镜面不锈钢钣金。优选的,其使用方法包括以下步骤:A、将砧座)撑座从A位置移动至 ...
【技术保护点】
1.一种砧座曝光一体机,包括上机架(11)和下机架(12),其特征在于:所述上机架(11)固定安装在下机架(12)上,所述下机架(12)上端设有作业平台(13),所述上机架(11)正面安装有对开门机构(14),所述上机架(11)侧面安装有封板,所述作业平台(13)上安装有作业机构,所述作业机构包括砧座支撑座(1)、弹簧柱塞(2)、砧座套筒(4)和伺服电机(5),所述砧座支撑座(1)两侧通过弹簧柱塞(2)固定在支撑座定位块(10)上,所述伺服电机(5)固定在作业平台(13)一侧,所述伺服电机(5)电机轴穿过固定座(15)的中心孔与砧座套筒(4)连接,所述砧座套筒(4)端部安装有砧座固定螺丝(9),所述砧座套筒(4)与砧座支撑座(1)正对设置,且所述砧座套筒(4)与砧座支撑座(1)之间夹持待加工砧座(3)。
【技术特征摘要】
1.一种砧座曝光一体机,包括上机架(11)和下机架(12),其特征在于:所述上机架(11)固定安装在下机架(12)上,所述下机架(12)上端设有作业平台(13),所述上机架(11)正面安装有对开门机构(14),所述上机架(11)侧面安装有封板,所述作业平台(13)上安装有作业机构,所述作业机构包括砧座支撑座(1)、弹簧柱塞(2)、砧座套筒(4)和伺服电机(5),所述砧座支撑座(1)两侧通过弹簧柱塞(2)固定在支撑座定位块(10)上,所述伺服电机(5)固定在作业平台(13)一侧,所述伺服电机(5)电机轴穿过固定座(15)的中心孔与砧座套筒(4)连接,所述砧座套筒(4)端部安装有砧座固定螺丝(9),所述砧座套筒(4)与砧座支撑座(1)正对设置,且所述砧座套筒(4)与砧座支撑座(1)之间夹持待加工砧座(3)。2.根据权利要求1所述的一种砧座曝光一体机,其特征在于:所述作业平台(13)下方安装有控制箱(16),所述控制箱(16)上设有启动按钮(6)、正反转调节开关(7)和工作指示灯(8),所述控制箱(16)内还...
【专利技术属性】
技术研发人员:周宏建,何相平,段忠福,
申请(专利权)人:上海骄成机电设备有限公司,
类型:发明
国别省市:上海,31
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