浸槽及供液系统技术方案

本发明专利技术提供一种浸槽，包括第一主体、第二主体和回流部，第一主体和第二主体相对设置，且第一主体、第二主体和回流部共同围合形成容腔，回流部设于第一主体和第二主体的底部，容腔用于盛装清洗液，第一主体内设有第一空腔，第一主体上还设有第一流道，第一空腔与容腔通过第一流道联通，第一空腔用于储存清洗液，第一流道用于将第一空腔内的清洗液输送至容腔，口金的喷嘴浸泡在容腔内的清洗液内，回流部设有阀门，通过控制阀门的开闭以切换浸泡和清洗的状态，回流部流出的清洗液用于输送至第一空腔以循环使用。通过上述设置，可加快清洗液流动速度，对口金的喷嘴冲刷更剧烈，提升清洗效果。本发明专利技术还提供了一种供液装置。

【技术实现步骤摘要】
浸槽及供液系统
本专利技术属于液晶工艺
，尤其涉及一种浸槽及供液系统。
技术介绍
CoaterNozzle即涂布喷嘴，又名口金，用于涂布光阻，是保证液晶工艺中成膜状况及涂布均一性的重要部件。每次在口金涂布使用完后，口金喷口仍充满光阻，为避免口金内光阻暴露在空气中凝固干结，需要将口金喷口浸入充满清洗液的浸槽内。在下次涂布使用前拿出，进行口金擦拭清洁后使用，避免残留的清洗液或浸槽内脏污影响口金喷吐光阻而造成破膜或涂布不均等不良。目前常规的浸槽的结构为顶面开口的U型槽，清洗液通过管道输送到槽内，口金浸泡在槽内，当清洗时，清洗液从浸槽的顶部溢出，达到清洗液换新的目的。然而，目前的浸槽存在清洗液流动性差，不能很好的清洗口金的喷嘴的问题。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种浸槽，可提升清洗口金效果，口金不需要再进行刮拭，还可输送走容腔内的光阻等脏污物，减少对清洗液的污染。为实现本专利技术的目的，本专利技术提供了如下的技术方案：第一方面，本专利技术提供一种浸槽，用于浸泡和清洗口金的喷嘴，包括第一主体、第二主体和回流部，所述第一主体和所述第二主体相对设置，且所述第一主体、所述第二主体和所述回流部共同围合形成容腔，所述回流部设于所述第一主体和所述第二主体的底部，所述容腔用于盛装清洗液，所述第一主体内设有第一空腔，所述第一主体上还设有第一流道，所述第一空腔与所述容腔通过所述第一流道联通，所述第一空腔用于储存清洗液，所述第一流道用于将所述第一空腔内的清洗液输送至所述容腔，所述口金的喷嘴浸泡在所述容腔内的清洗液内，所述回流部设有阀门，通过控制所述阀门的开闭以切换浸泡和清洗的状态，所述回流部流出的清洗液用于输送至所述第一空腔以循环使用。其中，所述第一主体与所述第二主体结构相同，且轴对称设置，所述第一主体和所述第二主体的底部间隔第一距离，以形成第三流道，所述回流部跨连在所述第一主体和所述第二主体上，以封闭所述容腔的底部，所述第三流道连接至所述回流部。其中，所述第一主体包括依次相连的底板、外侧板、顶板、第一内侧板和第二内侧板，所述第一内侧板和所述第二内侧板朝向所述第二主体方向，所述底板远离所述外侧板的一端与所述第二内侧板连接，所述第二内侧板相对所述底板呈倾斜状，所述第一内侧板与所述第二内侧板的夹角大于90°，以使所述容腔呈从顶部向底部缩口的结构。其中，所述第一流道开设于所述第一内侧板上，所述第一流道在所述第一空腔一端的高度低于在所述容腔一端的高度。其中，所述第一主体内还设有第二空腔，所述第二空腔内设有超声波器，所述超声波器用于向所述容腔内发射超声波，以使所述口金上的脏污物脱落。其中，所述第一主体还包括横板，所述横板连接在所述第一内侧板远离所述顶板的一端和所述外侧板之间，所述横板、所述外侧板、所述顶板和所述第一内侧板围合形成所述第一空腔，所述横板、所述外侧板和所述第二内侧板围合形成所述第二空腔。其中，所述第一主体还包括第三内侧板，所述第三内侧板连接在所述第二内侧板远离所述第一内侧板的一端和所述底板远离所述外侧板的一端之间，所述第三内侧板与所述回流部连接。第二方面，本专利技术提供一种供液系统，包括缓冲槽、管道和如第一方面各种实施例中任一所述的浸槽，所述缓冲槽与所述浸槽的所述第一空腔之间连接有第一管道，所述缓冲槽与所述回流部之间连接有第二管道，所述缓冲槽还连接有进液管道和排液管道，所述进液管道连接至清洗液储存装置，所述清洗液储存装置的清洗液通过所述进液管道输送至所述缓冲槽，所述缓冲槽内的清洗液通过所述第一管道输送至所述浸槽的所述第一空腔内，所述浸槽的所述回流部的清洗液通过所述第二管道回流至所述缓冲槽，所述缓冲槽内的废液经所述排液管道流走。其中，所述供液系统还包括过滤器，所述过滤器设置在所述第二管道的流动路径上，用于过滤所述回流部回流的清洗液中的脏污物。其中，所述供液系统还包括第一液泵和第二液泵，所述第一液泵设于所述第一管道上，所述第二液泵设于所述第二管道上，且位于所述过滤器和所述缓冲槽之间。本专利技术的有益效果：本专利技术提供的一种浸槽，通过设置第一主体和第二主体与回流部围合形成容腔，第一主体内的第一空腔通过第一流道向容腔内输送清洗液，回流部的阀门关闭时，容腔内的清洗液不会流动，使得浸槽处于浸泡状态，开启阀门时，容腔内的清洗液从回流部流出，第一空腔内的清洗液从第一流道流入容腔，容腔内的清洗液流动，使得浸槽处于清洗状态，相比于现有技术，可加快清洗液流动速度，对口金的喷嘴冲刷更剧烈，提升清洗效果。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是一种实施例的浸槽的结构示意图；图2是图1的浸槽工作时的结构示意图；图3是一种实施例的供液装置的结构示意图。具体实施例下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。请参考图1，本专利技术实施例提供一种浸槽，用于浸泡和清洗口金20的喷嘴25，包括第一主体10、第二主体10’和回流部13，所述第一主体10和所述第二主体10’相对设置，且所述第一主体10、所述第二主体10’和所述回流部13共同围合形成容腔11，所述回流部13设于所述第一主体10和所述第二主体10’的底部，所述容腔11用于盛装清洗液30，所述第一主体10内设有第一空腔12，所述第一主体10上还设有第一流道121，所述第一空腔12与所述容腔11通过所述第一流道121联通，所述第一空腔12用于储存清洗液，所述第一流道121用于将所述第一空腔12内的清洗液输送至所述容腔11，所述口金20的喷嘴25浸泡在所述容腔11内的清洗液30内，所述回流部13设有阀门(图中未示出)，通过控制所述阀门的开闭以切换浸泡和清洗的状态，所述回流部13流出的清洗液用于输送至所述第一空腔12以循环使用。通过设置所述第一主体10和第二主体10’，与回流部13围合形成容腔11，第一主体10内的第一空腔12通过第一流道121向容腔11内输送清洗液30，回流部13的阀门关闭时，容腔11内的清洗液30不会流动，使得浸槽处于浸泡状态，开启阀门时，容腔11内的清洗液30从回流部13流出，第一空腔12内的清洗液从第一流道121流入容腔11，容腔11内的清洗液流动，使得浸槽处于清洗状态，相比于现有技术，可加快清洗液30流动速度，对口金20的喷嘴25冲刷更剧烈，提升清洗效果。浸槽即可用于浸泡口金20，也可清洗口金20，达到两用效果。清洗口金后，口金20不需要再进行刮拭才能使用，提高了效率，此外，回流部13可输送走容腔11内的光阻等脏污物，减少对清洗液30的污染，回流部13回流的清洗液还可循环使用，节约了清洗液。口金20包括喷嘴25，喷嘴25设有喷口21，喷嘴25为尖型结构，使得喷口21出口为尖端，具体的，口金20的喷嘴25包括第一斜面22和第二斜面23，第一斜面22和第二斜面23的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种浸槽，用于浸泡和清洗口金的喷嘴，其特征在于，包括第一主体、第二主体和回流部，所述第一主体和所述第二主体相对设置，且所述第一主体、所述第二主体和所述回流部共同围合形成容腔，所述回流部设于所述第一主体和所述第二主体的底部，所述容腔用于盛装清洗液，所述第一主体内设有第一空腔，所述第一主体上还设有第一流道，所述第一空腔与所述容腔通过所述第一流道联通，所述第一空腔用于储存清洗液，所述第一流道用于将所述第一空腔内的清洗液输送至所述容腔，所述口金的喷嘴浸泡在所述容腔内的清洗液内，所述回流部设有阀门，通过控制所述阀门的开闭以切换浸泡和清洗的状态，所述回流部流出的清洗液用于输送至所述第一空腔以循环使用。

【技术特征摘要】
1.一种浸槽，用于浸泡和清洗口金的喷嘴，其特征在于，包括第一主体、第二主体和回流部，所述第一主体和所述第二主体相对设置，且所述第一主体、所述第二主体和所述回流部共同围合形成容腔，所述回流部设于所述第一主体和所述第二主体的底部，所述容腔用于盛装清洗液，所述第一主体内设有第一空腔，所述第一主体上还设有第一流道，所述第一空腔与所述容腔通过所述第一流道联通，所述第一空腔用于储存清洗液，所述第一流道用于将所述第一空腔内的清洗液输送至所述容腔，所述口金的喷嘴浸泡在所述容腔内的清洗液内，所述回流部设有阀门，通过控制所述阀门的开闭以切换浸泡和清洗的状态，所述回流部流出的清洗液用于输送至所述第一空腔以循环使用。2.如权利要求1所述的浸槽，其特征在于，所述第一主体与所述第二主体结构相同，且轴对称设置，所述第一主体和所述第二主体的底部间隔第一距离，以形成第三流道，所述回流部跨连在所述第一主体和所述第二主体上，以封闭所述容腔的底部，所述第三流道连接至所述回流部。3.如权利要求1或2所述的浸槽，其特征在于，所述第一主体包括依次相连的底板、外侧板、顶板、第一内侧板和第二内侧板，所述第一内侧板和所述第二内侧板朝向所述第二主体方向，所述底板远离所述外侧板的一端与所述第二内侧板连接，所述第二内侧板相对所述底板呈倾斜状，所述第一内侧板与所述第二内侧板的夹角大于90°，以使所述容腔呈从顶部向底部缩口的结构。4.如权利要求3所述的浸槽，其特征在于，所述第一流道开设于所述第一内侧板上，所述第一流道在所述第一空腔一端的高度低于在所述容腔一端的高度。5.如权利要求3所述的浸槽，其特征在于，所述第一主...

【专利技术属性】
技术研发人员：施杰，
申请(专利权)人：武汉华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北,42