一种掩膜板、隔垫物制作方法、显示面板及显示装置制造方法及图纸

技术编号:19488124 阅读:197 留言:0更新日期:2018-11-17 11:47
本发明专利技术公开了一种掩膜板、隔垫物制作方法、显示面板及显示装置,在掩膜板中包括:遮光层以及在遮光层上设定位置开设的多个透光孔;透光孔内的边缘设有环状的第一透光膜,第一透光膜的透过率小于100%。采用上述掩膜板制作隔垫物时,由于透过孔边缘区域到遮光层的光强下降趋势与现有技术相比更加缓慢,使得曝光影后的截面为倒梯形光敏材料的顶角与现有技术相比有所减小,再经过热固化步骤,由于光敏材料的热流动性和重力作用,使最终形成的隔垫物的顶部宽度与底部宽度相等。采用本发明专利技术实施例提供的上述掩膜板制作形成的隔垫物的顶部宽度与底部宽度之比接近于1,具有较好的支撑力的同时可以避免黑矩阵的补偿过大,提高产品的透过率。

【技术实现步骤摘要】
一种掩膜板、隔垫物制作方法、显示面板及显示装置
本专利技术涉及显示
,尤其涉及一种掩膜板、隔垫物制作方法、显示面板及显示装置。
技术介绍
液晶显示器(LiquidCrystalDisplay,简称LCD)一般包括阵列基板、彩膜基板以及设置于阵列基板与彩膜基板之间的液晶层,在液晶层中具有多个隔垫物(PhotoSpacer,简称PS),其主要作用为支撑彩膜基板,保持液晶盒厚。隔垫物形状对产品设计的牵制作用很大,特别是对显示产品分辨率越来越高的要求,导致隔垫物的预留空间越来越窄,这就要求隔垫物制作需要更加精细化的管理。通常情况下,对隔垫物周边需要进行黑矩阵补偿以防止红蓝斑不良,黑矩阵的宽度设计准则为隔垫物的底部宽度加上补偿宽度。而目前所制作的隔垫物的顶部宽度与底部宽度的比值约为0.6-0.7,这就导致了由于底部尺寸过大导致的黑矩阵的补偿过大,最终造成透过率损失越大,因此如何提高隔垫物顶部宽度与底部宽度的比例为亟待解决的问题。
技术实现思路
本专利技术提供了一种掩膜板、隔垫物制作方法、显示面板及显示装置,用以提高隔垫物顶部宽度与底部宽度的比值,从而改善显示面板的透过率。第一方面,本专利技术提供一种掩膜板,所述掩膜板用于制作显示面板的隔垫物,所述掩膜板包括:遮光层以及在所述遮光层上设定位置开设的多个透光孔;所述透光孔内的边缘设有环状的第一透光膜,所述第一透光膜的透过率小于100%。在一种可能的实现方式中,在本专利技术实施例提供的上述掩膜板中,所述第一透光膜的透过率为20-50%。在一种可能的实现方式中,在本专利技术实施例提供的上述掩膜板中,相邻的两个所述透光孔构成一个透光孔组;在各所述透光孔组内,其中一个所述透光孔内还包括:位于所述第一透光膜环内的第二透光膜;所述第二透光膜的透过率大于所述第一透光膜的透过率。在一种可能的实现方式中,在本专利技术实施例提供的上述掩膜板中,所述透光孔的形状为圆形或椭圆形。第二方面,本专利技术提供一种采用上述任一掩膜板制作隔垫物的方法,包括:在所述显示基板上形成一层负性光刻胶层;在所述负性光刻胶层之上设置所述掩膜板;对设置有所述掩膜板的负性光刻胶层曝光显影,保留与隔垫物对应的负性光刻胶层;对保留的负性光刻胶层进行热固化,形成顶部宽度与底部宽度相等的隔垫物。在一种可能的实现方式中,在本专利技术实施例提供的上述方法中,在所述掩膜板包括:第一透光膜和第二透光膜时,所述对保留的负性光刻胶层进行热固化,形成顶部宽度与底部宽度相等的隔垫物,包括:对保留的负性光刻胶层进行热固化,形成顶部宽度与底部宽度相等的主隔垫物和副隔垫物;所述主隔垫物的高度大于所述副隔垫物的高度。第三方面,本专利技术提供一种显示面板,包括采用上述任一方法制作而成的隔垫物。在一种可能的实现方式中,在本专利技术实施例提供的上述显示面板中,所述隔垫物的宽度为8-12μm。第四方面,本专利技术提供一种显示装置,包括上述任一显示面板。本专利技术有益效果如下:本专利技术提供的掩膜板、隔垫物制作方法、显示面板及显示装置,在掩膜板中包括:遮光层以及在遮光层上设定位置开设的多个透光孔;透光孔内的边缘设有环状的第一透光膜,第一透光膜的透过率小于100%。采用上述掩膜板制作隔垫物时,由于透过孔边缘区域到遮光层的光强下降趋势与现有技术相比更加缓慢,使得曝光影后的截面为倒梯形光敏材料的顶角与现有技术相比有所减小,再经过热固化步骤,由于光敏材料的热流动性和重力作用,使最终形成的隔垫物的截面形状为矩形,即隔垫物的顶部宽度与底部宽度相等。采用本专利技术实施例提供的上述掩膜板制作形成的隔垫物的顶部宽度与底部宽度之比接近于1,具有较好的支撑力的同时可以避免黑矩阵的补偿过大,提高产品的透过率。附图说明图1为现有技术中的用于制作隔垫物的掩膜板的截面结构示意图;图2为采用现有技术中的掩膜板制作隔垫物的原理效果图;图3为本专利技术实施例提供的掩膜板的截面结构意图之一;图4为图3中掩膜板的俯视结构示意图;图5为采用现有技术中的掩膜板以及采用本专利技术实施例提供的掩膜板制作隔垫物的效果对比图;图6为本专利技术实施例提供的掩膜板的截面结构意图之二;图7为图3中的掩膜板以及采用图6中的掩膜板制作隔垫物的效果对比图;图8为本专利技术实施例提供的掩膜板制作隔垫物的方法的流程示意图。具体实施方式本专利技术实施例提供了一种掩膜板、隔垫物制作方法、显示面板及显示装置,用以提高隔垫物顶部宽度与底部宽度的比值,从而改善显示面板的透过率。为了使本专利技术的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合附图对本专利技术作进一步地详细描述,显然,所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例,都属于本专利技术保护的范围。下面结合附图详细介绍本专利技术具体实施例提供的显示面板、触控显示面板及其制作方法。如图1所示,为现有技术中的用于制作显示面板的隔垫物的掩膜板mask的结构示意图。掩膜板包括多个用于形成隔垫物的透光孔,如图2所示,在光源以恒定的光强照射掩膜板时,掩膜板的开口区光强分布呈现中间高两边低的趋势,具体可参见图2中的光强分布,其中,x轴表示开口区内的位置,y轴表示光强的大小。由于光敏材料的感光深度与光强的大小有正相关的关系,当曝光强度越大时,感光深度越大;当曝光强度越小时,感光深度越小。因此,采用现有的掩膜板对光敏材料进行曝光,光敏材料经过显影后,其截面呈现如图2所示的倒梯形形状。此时显影后的光敏材料尚未固化,需进行热固化以增加硬度,热固化过程中由于热流动性和重力作用,顶部的光敏材料会向底部流动,导致最终形成的隔垫物的形状由倒梯形变为正梯形。采用现有制作工艺制作形成的隔垫物的顶部宽度约8-9um,底部宽度则达到14-15um,顶部宽度与底部宽度的比例只有0.6,这种形状的隔垫物对产品透过率和支撑力影响较大,需要改进。有鉴于此,本专利技术实施例提供一种掩膜板,该掩膜板用于制作显示面板中隔垫物,如图3所示,该掩膜板包括:遮光层11以及在遮光层11上设定位置开设的多个透光孔12;其中,透光孔12内的边缘设有环状的第一透光膜13,其俯视图如图4所示,第一透光膜13的透过率小于100%。在本专利技术实施例中,将透光孔12内设置透过率小于100%的第一透光膜,使得光源照射透光孔时,透光孔12的中心到边缘的光强减弱较为缓慢,通过控制开口边缘区域的光强来实现对光敏材料的曝光强度的控制,最终实现对隔垫物的形状控制。如图5所示的采用现有技术的掩膜板和本专利技术实施例的掩膜板制作隔垫物时各步骤的效果对比图,为方便对比说明,将采用两种掩膜板的效果图设置于同一图中进行说明,其中,左边部分表示采用现有技术的掩膜板制作隔垫物的效果图,右边部分表示采用本专利技术实施例的掩膜板制作隔垫物的效果图。现有技术中的隔垫物的制作过程中,由于掩膜板的透光孔中心到边缘的光强下降趋势较为剧烈,使得曝光影后的截面为倒梯形光敏材料的顶角过大,加之热固化过程中光敏材料的热流动性和重力作用,最终形成的隔垫物的截面形状为正梯形。而在采用本专利技术实施例提供的上述掩膜板制作隔垫物时,由于透过孔边缘区域到遮光层的光强下降趋势与现有技术相比更加缓慢,使得曝光影后的截面为倒梯形光敏材料的顶角与现有技术相比有所减小,再经过热固化步骤,由于光敏材料的热流动性和本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种掩膜板,其特征在于,所述掩膜板用于制作显示面板的隔垫物,所述掩膜板包括:遮光层以及在所述遮光层上设定位置开设的多个透光孔;所述透光孔内的边缘设有环状的第一透光膜,所述第一透光膜的透过率小于100%。

【技术特征摘要】
1.一种掩膜板,其特征在于,所述掩膜板用于制作显示面板的隔垫物,所述掩膜板包括:遮光层以及在所述遮光层上设定位置开设的多个透光孔;所述透光孔内的边缘设有环状的第一透光膜,所述第一透光膜的透过率小于100%。2.如权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述第一透光膜的透过率为20-50%。3.如权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,相邻的两个所述透光孔构成一个透光孔组;在各所述透光孔组内,其中一个所述透光孔内还包括:位于所述第一透光膜环内的第二透光膜;所述第二透光膜的透过率大于所述第一透光膜的透过率。4.如权利要求1-3任一项所述的掩膜板,其特征在于,所述透光孔的形状为圆形或椭圆形。5.一种采用如权利要求1-4所述的掩膜板制作隔垫物的方法,其特征在于,包括:在所述显示基板上形成一层负性光刻胶...

【专利技术属性】
技术研发人员:李培茂王学路佟洁李艳云刘天辉
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
类型:发明
国别省市:北京,11

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