透明吸波超材料制造技术

技术编号:19484795 阅读:412 留言:0更新日期:2018-11-17 11:11
本发明专利技术公开了一种透明吸波超材料,包括三层结构组成的吸收器,所述吸收器包括有正方形透明导电ITO、长方形透明导电ITO和透明无机玻璃层,所述正方形透明导电ITO位于长方形透明导电ITO的上层,所述透明无机玻璃层位于长方形透明导电ITO的中间部位。本发明专利技术结构上采用的是单层结构,在上表面设计周期性谐振单元来实现宽频带吸收电磁波,更加易于生产制备,加工流程相比于多层结构会更加便捷,成本低,有利于产业化的推广;基质选择上,是无机石英玻璃,石英玻璃硬度高,化学稳定性和耐热性较好,长时间使用性能不会发生变化,稳定性强;选择的是透明导电ITO,进一步体现了该吸波材料对透明度高的要求。

【技术实现步骤摘要】
透明吸波超材料
本专利技术属于吸波材料
,具体涉及一种透明吸波超材料。
技术介绍
随着现代科技与电子工业的快速发展,许多电子产品进入人们的生活环境,给人们带来便利生活的同时也产生了大量电磁辐射,由此引起的电磁污染已成为一种新的社会公害,吸波材料可以有效吸收电磁辐射,减少电磁干扰,且与电磁屏蔽材料相比具有高效及普适性的特点。与此同时,新型雷达、先进探测器探测技术的相继问世,未来战场上的各种武器系统和战略目标面临着更加严重的威胁,现代军事隐身技术作为提高武器系统生存能力有效手段,受到世界各国的高度重视,通过隐身技术可以减小目标的雷达散射截面,衰减雷达回波强度,进而提高武器装备在战场上的生存和突防攻击能力。吸波材料也是微波暗室、电磁信息泄漏防护、电磁辐射防护、建筑吸波材料等国防军工与民用
中的关键材料。现有的吸波材料分为传统吸波材料和新型吸波材料,传统吸波材料多为金属微粉、铁氧体、碳化硅、石墨、钛酸钡、导电纤维等,这些传统吸波材料都存在吸波频带窄、密度大等缺点,同时还有光学透明度低的缺点,限制了吸波材料在透明度和吸波要求都较好的结构中的应用,例如:隐身飞机的机舱玻璃、舰船上的窗户玻璃、民用的吸波玻璃等等。同时,现有的透明新型吸波材料多采用有机玻璃作为基质,但是有机玻璃的耐高温性能和化学稳定性差,受到高温后性能变差;硬度较低,容易被刮花;长时间使用后透明度降低。为此,我们提出一种透明吸波超材料及其使用方法,以解决上述
技术介绍
中提到的问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种透明吸波超材料,以解决上述
技术介绍
中提出的问题。为实现上述目的,本专利技术提供如下技术方案:一种透明吸波超材料,包括三层结构组成的吸收器,所述吸收器包括有正方形透明导电ITO、长方形透明导电ITO和透明无机玻璃层,所述正方形透明导电ITO位于长方形透明导电ITO的上层,所述透明无机玻璃层位于长方形透明导电ITO的中间部位。所述正方形透明导电ITO的方阻为30Ω/□,所述长方形透明导电ITO的方阻为50Ω/□。一种透明吸波超材料的制备方法,具体包括以下步骤:S1、石英玻璃的清洗与干燥依次用丙酮、异丙醇分别清洗石英玻璃三次,然后置于乙醇中浸泡十分钟,用去离子水清洗三次后浸入去离子水中超声振荡10min;最后将玻璃置于鼓风干燥中干燥20分钟,温度60℃;S2、采用磁控溅射工艺在180mm×180mm×2mm的玻璃上制备ITO薄膜按照规定流程启动总电源,然后再大气状态下将溅射室泵抽至真空状态,然后把清洗干燥好的石英玻璃放入衬底托内,将其放入样品转台内,然后再将溅射室上盖落下;控制实验环境完成对石英玻璃的两面完成溅射,正面方阻:30Ω/□,背面电阻:50Ω/□,停止溅射镀膜,并且取出样品;最后关机,关闭电源;表面电阻用四探针仪测试,更具实际情况改变参数;参数设置氧含量:7%-10%;压强:0.8-1.2Mpa;溅射电压:正面200-250V、背面150-200V;基底加热温度:290-310℃;S3、根据实际尺寸于刻蚀机控制软件中画好图,然后利用激光刻蚀工艺刻蚀方块结构,制备出透明超材料吸波体样品;激光工作功率:600-900mW;重复频率:20KHz;线宽:40μm;刻蚀速度:300-700mm/s。本专利技术提供的一种透明吸波超材料,本专利技术结构上采用的是单层结构,在上表面设计周期性谐振单元来实现宽频带吸收电磁波,更加易于生产制备,加工流程相比于多层结构会更加便捷,成本低,有利于产业化的推广;同时可以设计不同的网板改变上层图案来达到不同的吸波效果;基质选择上,是无机石英玻璃,石英玻璃硬度高,化学稳定性和耐热性较好,长时间使用性能不会发生变化,稳定性强;选择的是透明导电ITO,进一步体现了该吸波材料对透明度高的要求。附图说明图1为本专利技术的正视结构示意图;图2为本专利技术的侧视结构示意图;图3为本专利技术的周期排列的开路环谐振器阵列结构示意图;图4为本专利技术的图3局部俯视侧板结构示意图。图中:1正方形透明导电ITO、2长方形透明导电ITO、3透明无机玻璃层。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图,对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本专利技术保护的范围。超材料是一种人工电磁功能材料,是目前电磁学,材料学研究的热点。以左手材料,光子晶体,频率选择表面(FSS)为代表的超材料在光学成像,小型化天线,电磁波隐形等领域有广泛的应用前景。目前,超材料的研究热点集中在低损耗,宽频带超材料的设计与制备,损耗高和频带窄也是超材料在很多领域应用的瓶颈问题。但是,另外一方面,吸波材料对材料的要求是高损耗,宽频带。因此,利用超材料自身存在的损耗,甚至额外在超材料中引入损耗有可能实现低反射率的吸波材料。超材料吸波体的研究也是目前超材料研究的一个热点,以左手材料吸波体为代表,大多数研究集中在增大吸收强度,调节吸收频率。该类吸波材料主要用于高灵敏的探测器件.隐身技术中的吸波材料,需要满足宽频带的要求。实施例1本专利技术提供了如图1-2的一种透明吸波超材料,包括三层结构组成的吸收器,其特征在于:所述吸收器包括有正方形透明导电ITO1、长方形透明导电ITO2和透明无机玻璃层3,所述正方形透明导电ITO1位于长方形透明导电ITO2的上层,所述透明无机玻璃层3位于长方形透明导电ITO2的中间部位。所述正方形透明导电ITO1的方阻为30Ω/□,所述长方形透明导电ITO2的方阻为50Ω/□。结构具体尺寸的优化研究:利用CSTMicrowaveStudio2012对图1表示的结构进行模拟仿真,其中x和y轴方向为unitcell,z轴方向为open、andspace为边界条件,并假设电磁波垂直入射到吸波体表面。通过调节微结构的结构参数,图1中的a、b、h以及上下层透明导电油墨的方阻,来调节微结构单元的等效介电常数ε和有效磁导率μ,使电磁波在超材料的入射表面处波阻抗Znin→1,使自由空间实现完美匹配,反射率R最小。在考虑吸波性能的同时要考虑产品实际制备难易程度,在达到最优吸波效果的同时尽可能的简化制备过程。研究目标在众多超材料结构中,矩形微结构单元不仅结构简单,而且还和其他形式的单元结构一样,通过合理的设计可以实现多带与宽带等吸波性能。但超材料的电磁性能主要取决于上层排列的周期性谐振单元,对于多层结构,周期性谐振单元的精确对位将极大地影响到材料的电磁性能,实际加工费时且加工费用比较高,而单层组合结构设计的优势是制作简单和花费少,有利于产业化的推广。本专利技术基于单层超材料设计和制作的优势,利用正方形到点油墨结构研究玻璃厚度、微结构参数对透明吸波材料电磁性能的影响,设计一种透明吸波超材料,使其在8-18Ghz的反射率在8Db以下,并且厚度小于3mm,透光率尽可能的大,并根据仿真结果制作透明吸波材料样品,测试其反射率和透光率。本专利技术主要研究:1.吸波材料结构单元的设计:电磁性能主要取决于上层排列的周期性谐振单元,基本单元结构的设计决定着整个超材料的吸波性能通过。2.结构的优化:以易于生产制备为基本原则,在满足基本吸波要求基础上,优化本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种透明吸波超材料,包括三层结构组成的吸收器,其特征在于:所述吸收器包括有正方形透明导电ITO(1)、长方形透明导电ITO(2)和透明无机玻璃层(3),所述正方形透明导电ITO(1)位于长方形透明导电ITO(2)的上层,所述透明无机玻璃层(3)位于长方形透明导电ITO(2)的中间部位。

【技术特征摘要】
1.一种透明吸波超材料,包括三层结构组成的吸收器,其特征在于:所述吸收器包括有正方形透明导电ITO(1)、长方形透明导电ITO(2)和透明无机玻璃层(3),所述正方形透明导电ITO(1)位于长方形透明导电ITO(2)的上层,所述透明无机玻璃层(3)位于长方形透明导电ITO(2)的中间部位。2.根据权利要求1所述的一种透明吸波超材料,其特征在于:所述正方形透明导电ITO(1)的方阻为30Ω/□,所述长方形透明导电ITO(2)的方阻为50Ω/□。3.一种透明吸波超材料的制备方法,其特征在于:具体包括以下步骤:S1、石英玻璃的清洗与干燥依次用丙酮、异丙醇分别清洗石英玻璃三次,然后置于乙醇中浸泡十分钟,用去离子水清洗三次后浸入去离子水中超声振荡10min;最后将玻璃置于鼓风干燥中干燥20分钟,温度60℃;S2、采用磁控溅射工艺在1...

【专利技术属性】
技术研发人员:官建国邹凯曹洁
申请(专利权)人:武汉理工大学
类型:发明
国别省市:湖北,42

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1